高精密工具機液靜壓主軸組裝技術
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技術名稱(中文)高精密工具機液靜壓主軸組裝技術的執行單位是精機中心, 產出年度是105, 計畫名稱是機械與系統領域工業基礎技術研究計畫, 領域是製造精進, 技術規格是1.主軸轉速:Max6000rpm 2.主軸迴轉偏擺:小於1μm 3.對應各種加工類型主軸設計:平面研磨主軸,外圓磨床主軸,車床主軸, 潛力預估是超精密切削工具機加工品質的重要指標,是否可達到良好的尺寸精度、形狀精度與表面粗糙度的要求目標。關鍵技術是必須具有超精密主軸,對於系統機構而言,要求重點在於低摩擦阻力,高剛性。對於精密光學元件成形與精密金屬模具及零件加工所必備的關鍵零組件。.

序號

8707

產出年度

105

技術名稱(中文)

高精密工具機液靜壓主軸組裝技術

執行單位

精機中心

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與系統領域工業基礎技術研究計畫

領域

製造精進

已申請專利之國家

中華民國、中國大陸

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述(中文)

液體靜壓軸承精度高、剛度大、壽命長、吸振抗震性能好,主要用於精密加工機械,尤其是鏡面研磨加工領域,更是液靜壓主軸強項,因為是非接觸式之軸承,理論上正常使用下可不需維修,液靜壓軸承工作時,軸承腔體內之心軸被一層靜壓壓力油膜浮起,當馬達驅動心軸旋轉時,軸承油腔內由於階梯效應自然形成動靜壓承載油膜,因此實際上主軸運轉時,油膜剛度是軸承靜態剛度與動態剛度的疊加,有很強的承載能力,同時壓力油膜的「均化」作用可使主軸迴轉精度明顯優於一般滾珠軸承。

技術現況敘述(英文)

(空)

技術規格

1.主軸轉速:Max6000rpm 2.主軸迴轉偏擺:小於1μm 3.對應各種加工類型主軸設計:平面研磨主軸,外圓磨床主軸,車床主軸

技術成熟度

試量產

可應用範圍

1.精密機械業 2.光電產業

潛力預估

超精密切削工具機加工品質的重要指標,是否可達到良好的尺寸精度、形狀精度與表面粗糙度的要求目標。關鍵技術是必須具有超精密主軸,對於系統機構而言,要求重點在於低摩擦阻力,高剛性。對於精密光學元件成形與精密金屬模具及零件加工所必備的關鍵零組件。

聯絡人員

沈建華

電話

04-2359009#390

傳真

04-23598846

電子信箱

e8211@mail.pmc.org.tw

參考網址

http://www.pmc.org.tw

所須軟硬體設備

電容式位移計、萬分錶、精密檢測儀器

需具備之專業人才

具備工具機整機與組件的組裝經驗

與高精密工具機液靜壓主軸組裝技術同分類的經濟部技術處–可移轉技術資料集

  1. 4"/10"/20"奈米碳管場發射背光技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits 2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可取代現有CCFL技術,並於未來數位電視之普及化時可降低現有之LCD-TV之背光模組成本之潛力,目前相關平面光源技術較少,量產之背光技術有CCFL、W-LED等

  2. LTPS TFT Display相關電路設計技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 開發低耗能LTPS顯示器電路設計技術及相關類比電路(如unit-gain buffer等) | 潛力預估: 以數位內容資源結合行動通訊所廣布之資訊網已無庸置疑的成為未來生活的 重要一環,但汲取資訊的隨身設備其耗電量卻一直是終端設備技術開發之重點,本技術直接訴求以電路設計之觀點來降低耗電,在終端設備功能越區複雜多元之今日,其市場價值明顯可見。

  3. 高導電導線技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 4.1” Pixel number: 320 x 3 x240 Resolution:QVGA 降低導線阻值為原來65% | 潛力預估: 此技術與現有量產廠技術及設備相容,可迅速導入量產,且適用於各類顯示器產品,市場 接受性高

  4. 半穿透/反射式液晶顯示技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: None | 潛力預估: 可取代現行2-gap技術

  5. 半穿透/反射式液晶顯示技術(雙預傾角成果)

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: A.規格︰2.4” QVGA B.特色︰雙預傾角/單一Cell Ga | 潛力預估: 可取代現行2-gap技術

  6. LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: one | 潛力預估: 主動矩陣式上發光之有機電激發光顯示器係結合低溫多晶矽薄膜電晶體陣列與倒置型上發光有機發光二極體元件,為自發光、具高解析度、高開口率、高對比、高亮度、低耗電、高反應速度、廣視角之全新平面顯示器;利用LTPS技術可將驅動電路製作於玻璃基板,以達到低成本之目標。

  7. LTPS光罩Reduction技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 使用PMOS製作Array的光罩數 = 5 使用CMOS製作Array的光罩數 = 7 | 潛力預估: 當製造成本降低後,整體產品的價格也會隨之下降,故對市場競爭力絕對有正面的發展。而其他可替代的降低成本方法可能要從更換材料著手,若純就製程技術觀點出發,在不增加任何設備支出的前提下,本技術不失為是一直接有效的方式,可預期市場接受度極高。

  8. 輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: None | 潛力預估: 可取代 Glass 上板。並可應用在手機、PDA、數位相機、車用顯示器、筆記型電腦等產品上。

  9. 具記憶效果之反射式可撓式液晶顯示技術

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 4.1“QVGA, 8灰階,對比>10 | 潛力預估: 可廣泛應用於電子標籤、smart card等新應用

  10. 軟性液晶顯示器連續式製程開發

    執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 基板寬度>30cm | 潛力預估: 軟性顯示器之量產必要技術

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