尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法的核准國家是美國, 證書號碼是US 6699720 B1, 專利性質是發明, 執行單位是生技中心, 產出年度是93, 計畫名稱是重組蛋白藥物及技術開發一年計畫, 專利發明人是李彩雲等.

序號69
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法
執行單位生技中心
產出單位(空)
計畫名稱重組蛋白藥物及技術開發一年計畫
專利發明人李彩雲等
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼US 6699720 B1
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係提供一種用於檢測檢體中尿酸之去干擾膜,包括遮蔽尿酸檢測干擾物之化合物或其衍生物,及具有檢體吸收通透性之載體。本發明另提供一種用於檢測檢體中尿酸之檢驗試片,包括試劑反應層與視需要之去干擾膜或撐體層。本發明並提供包含本發明之檢驗試片之檢測檢體中尿酸之組件。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員陳?暉
電話(02)2695-6933*2432
傳真02)2694-5648
電子信箱(空)
參考網址(空)
備註原領域別為生技醫藥,95年改為生醫材化
特殊情形(空)

序號

69

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法

執行單位

生技中心

產出單位

(空)

計畫名稱

重組蛋白藥物及技術開發一年計畫

專利發明人

李彩雲等

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

US 6699720 B1

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係提供一種用於檢測檢體中尿酸之去干擾膜,包括遮蔽尿酸檢測干擾物之化合物或其衍生物,及具有檢體吸收通透性之載體。本發明另提供一種用於檢測檢體中尿酸之檢驗試片,包括試劑反應層與視需要之去干擾膜或撐體層。本發明並提供包含本發明之檢驗試片之檢測檢體中尿酸之組件。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

陳?暉

電話

(02)2695-6933*2432

傳真

02)2694-5648

電子信箱

(空)

參考網址

(空)

備註

原領域別為生技醫藥,95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

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尿酸檢驗之去干擾膜、檢驗試片、組件及方法 *原申請名:尿酸檢驗試片 (Test Strips for Uric Acid)

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明字第I224672號 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 基因工程蛋白藥物開發三年計畫 | 專利發明人: 李彩雲 | 許世源 | 雷逸智 | 蔡宜芬 | 吳太光 | 何弘琇 | 郭銘宴 | 劉涓 | 張東玄

@ 技術司專利資料集

尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法

核准國家: 歐盟 | 證書號碼: EP 1160571 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 李彩雲等

@ 技術司專利資料集

尿酸檢驗之去干擾膜、檢驗試片、組件及方法 *原申請名:尿酸檢驗試片 (Test Strips for Uric Acid)

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明字第I224672號 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 基因工程蛋白藥物開發三年計畫 | 專利發明人: 李彩雲 | 許世源 | 雷逸智 | 蔡宜芬 | 吳太光 | 何弘琇 | 郭銘宴 | 劉涓 | 張東玄

@ 技術司專利資料集

尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法

核准國家: 歐盟 | 證書號碼: EP 1160571 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 李彩雲等

@ 技術司專利資料集

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檢測7-胺基-FM2 (7-amino-flunitrazepam)之單株抗體,產生該抗體之融合瘤及其用途

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明第 199705 號 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 溫國蘭等

@ 技術司專利資料集

新噴鼻接種流行性感冒疫苗開發

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 基因工程蛋白藥物開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 去毒腸毒素佐劑在20公升高密度發酵槽中,細胞量已能達到OD595-600 nm >70,去毒腸毒素每公升產量高於200 mg,且AB5結構比例在95%以上;完成佐劑之預配方試驗及安定性試驗,以IEF、... | 潛力預估: 利用去毒腸毒素(mLT),開發鼻腔接種疫苗佐劑,已藉由老鼠鼻腔接種流感抗原混合不同減毒之腸毒素來評估其效力,結果顯示,本計畫所開發的βK(h)去毒腸毒素,其毒性比Chiron公司進入臨床試驗的63K(...

@ 技術司可移轉技術資料集

檢測7-胺基-FM2 (7-amino-flunitrazepam)之單株抗體,產生該抗體之融合瘤及其用途

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 發明第 199705 號 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 重組蛋白藥物及技術開發一年計畫 | 專利發明人: 溫國蘭等

@ 技術司專利資料集

新噴鼻接種流行性感冒疫苗開發

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 基因工程蛋白藥物開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 去毒腸毒素佐劑在20公升高密度發酵槽中,細胞量已能達到OD595-600 nm >70,去毒腸毒素每公升產量高於200 mg,且AB5結構比例在95%以上;完成佐劑之預配方試驗及安定性試驗,以IEF、... | 潛力預估: 利用去毒腸毒素(mLT),開發鼻腔接種疫苗佐劑,已藉由老鼠鼻腔接種流感抗原混合不同減毒之腸毒素來評估其效力,結果顯示,本計畫所開發的βK(h)去毒腸毒素,其毒性比Chiron公司進入臨床試驗的63K(...

@ 技術司可移轉技術資料集

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與尿酸檢驗之去干擾膜,檢驗試片,組件及方法同分類的技術司專利資料集

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190469 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6680755 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3522705 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190470 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6778161 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁

矽單晶液晶顯示器及製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6721027 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖

簡易式塊狀彈性體的製程方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605525 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維 | 盧明 | 林志榮

蝕刻玻璃面板之裝置及方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6673195 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳泰宏 | 黃元璋

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184692 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊 | 莊立聖

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6714268 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊 | 莊立聖

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191581 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 廖宗能 | 陳志強

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6677189 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 廖宗能 | 陳志強

薄膜電晶體面板的製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6713328 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 李啟聖 | 張鈞傑

增快液晶顯示器應答速度之驅動系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200112 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 廖明俊 | 徐正池

可調式訊號干擾積體電路系統及其量測方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683469 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 李明林 | 徐欽山

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190469 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6680755 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3522705 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190470 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6778161 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁

矽單晶液晶顯示器及製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6721027 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖

簡易式塊狀彈性體的製程方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605525 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維 | 盧明 | 林志榮

蝕刻玻璃面板之裝置及方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6673195 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳泰宏 | 黃元璋

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184692 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊 | 莊立聖

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6714268 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊 | 莊立聖

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191581 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 廖宗能 | 陳志強

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6677189 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 廖宗能 | 陳志強

薄膜電晶體面板的製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6713328 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 李啟聖 | 張鈞傑

增快液晶顯示器應答速度之驅動系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200112 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 廖明俊 | 徐正池

可調式訊號干擾積體電路系統及其量測方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683469 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 李明林 | 徐欽山

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