液晶投影機之冷卻裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文液晶投影機之冷卻裝置的核准國家是中華民國, 證書號碼是193369, 專利性質是發明, 執行單位是工研院光電所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代光資訊系統技術發展五年計畫, 專利發明人是李文宗, 張淵仁.

序號	396
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	液晶投影機之冷卻裝置
執行單位	工研院光電所
產出單位	(空)
計畫名稱	下世代光資訊系統技術發展五年計畫
專利發明人	李文宗 \| 張淵仁
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	193369
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種液晶投影機之冷卻裝置，用以將液晶投影機中之光學系統的液晶面板和偏光片冷卻；當本創作之光學系統受光源照射而被加熱後，冷卻液體將光學系統中之液晶面板和偏光片的熱量帶離，並利用導流裝置引導冷卻液體流動，使溫度高之冷卻液體藉由熱耗散裝置冷卻，再由熱耗散裝置將熱量耗散至外部，待冷卻液體降溫後，利用導流裝置使其再度流經液晶面板和偏光片，以重複冷卻的循環。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	沈志明
電話	(03)5918315
傳真	(空)
電子信箱	jimshen@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形	(空)

序號

396

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

液晶投影機之冷卻裝置

執行單位

工研院光電所

產出單位

(空)

計畫名稱

下世代光資訊系統技術發展五年計畫

專利發明人

李文宗 | 張淵仁

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

193369

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種液晶投影機之冷卻裝置，用以將液晶投影機中之光學系統的液晶面板和偏光片冷卻；當本創作之光學系統受光源照射而被加熱後，冷卻液體將光學系統中之液晶面板和偏光片的熱量帶離，並利用導流裝置引導冷卻液體流動，使溫度高之冷卻液體藉由熱耗散裝置冷卻，再由熱耗散裝置將熱量耗散至外部，待冷卻液體降溫後，利用導流裝置使其再度流經液晶面板和偏光片，以重複冷卻的循環。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

沈志明

電話

(03)5918315

傳真

(空)

電子信箱

jimshen@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電，95年改為電資通光

特殊情形

(空)

根據識別碼 193369 找到的相關資料

大同國民小學

災民收容所編號: SI600-2106 | 嘉義市 | 西區 | 導民里 | 收容所地址: 成功街15號

@ 災民收容所

大同國民小學

災民收容所編號: SI600-2106 | 嘉義市 | 西區 | 導民里 | 收容所地址: 成功街15號

@ 災民收容所

[ 搜尋所有 193369 ... ]

根據名稱液晶投影機之冷卻裝置找到的相關資料

無其他液晶投影機之冷卻裝置資料。

[ 搜尋所有 液晶投影機之冷卻裝置 ... ]

根據姓名李文宗張淵仁找到的相關資料

無其他李文宗張淵仁資料。

[ 搜尋所有 李文宗張淵仁 ... ]

根據電話 03 5918315 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03 5918315 ...)

DVD讀取頭之分光繞射元件	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 線寬： 10mm；分光比：I1:I0:I1=1:5:1@650nm_x000D_；平整度：玻璃蝕刻RMS=0.004mm_x000D_、電鑄鎳版RMS=0.021mm_x000D_ 、塑膠射出RMS \| 潛力預估: @ 技術司可移轉技術資料集
DVD讀取分光鏡技術	執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 95 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 電子與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 線寬： 10mm；分光比：I1:I0:I1=1:5:1@650nm；平整度：玻璃蝕刻RMS=0.004mm；電鑄鎳版RMS=0.021mm；塑膠射出RMS \| 潛力預估: 繞射元件輕薄短小；高精密繞射元件製程；精密電鑄翻模；光學級平度、低收縮率。 @ 技術司可移轉技術資料集
XGA液晶投影顯示器光學引擎	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 採用Dichroic Prism type設計及120W Lamp，照明輸出1000 Lumens以上，投影均勻度85%，投影畫面尺寸40至200英吋，投影影像解析度可至XGA等級。 \| 潛力預估: 提供國內LCD投影機所需關鍵之光學引擎，建立液晶投影顯示光學引擎上下游產業結構，達到光學元件、光機元件100% 自製率，可降低進口依賴度。 @ 技術司可移轉技術資料集
單片式彩色LCOS背投影原型機	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 最高光學解析度：1280x720 ‧ 燈源：150W UHP ‧ 面板：單片反射式液晶板(LCOS) ‧ 面板尺寸： 0.82英吋以下均適用 ‧ 畫面尺寸： 50英吋 \| 潛力預估: 單片式LCOS背投影電視原型機，相較於目前使用三片LCOS面板的背投影電視，由於物料節省約1/3，加上結構較簡單，因此平價化、大畫面、高畫質背投電視將成為主流產品，若以目前市價而言，50吋單片式LCO... @ 技術司可移轉技術資料集
液晶立體影像顯示器製作技術	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 外觀尺寸：40cm(W)×50cm(D)×45cm(H)。 ‧ 影像解析度：XGA。 ‧ INPUT：VGA訊號。 ‧ 螢幕尺寸：15"diag。 ‧ 觀看距離：60~130cm，80cm最佳。 ... \| 潛力預估: 在娛樂業深具市場潛力。 @ 技術司可移轉技術資料集
非球面鏡片玻璃模造成型技術	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 外徑尺寸：φ2~30mm±0.02mm；中心厚±0.03mm；曲率半徑：球面2.5＜R＜∞(mm)；非球面曲率半徑＞3mm；鏡片表面形狀精度：球面形狀 \| 潛力預估: 非球面玻璃鏡片可應用在高畫質的數位相機及影像手機的取像鏡頭，其市場需求量將會逐年升高。 @ 技術司可移轉技術資料集
精密塑膠鏡片射出成形技術	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 依鏡片大小與功能訂定，以DVD pick-up head lens為例： ‧ 外徑尺寸：φ5.5mm±0.02mm；中心厚2.1mm±0.01mm。 ‧ 曲率半徑：非球面設計，近似曲率半徑＞2.5... \| 潛力預估: 此技術可應用在量產高精度的非球面塑膠鏡片如光碟機中讀取頭的物鏡，讀取頭的產量預估每年約4.5億顆。 @ 技術司可移轉技術資料集
精密非球面模仁加工技術	執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: ‧ 加工範圍：－軸對稱元件：外徑 \| 潛力預估: 各種非球面鏡片皆需使用非球面的模仁方有可能達到量產的目的。所以，此製程技術可說是精密光學元件製程技術的必備技術。 @ 技術司可移轉技術資料集

[ 搜尋所有 03 5918315 ... ]

在『技術司專利資料集』資料集內搜尋:

與液晶投影機之冷卻裝置同分類的技術司專利資料集

物體表面三維形貌量測方法和系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200161 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 \| 專利發明人: 宋新岳, 田立芬
利用共軛光路量測二維位移量之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,744,520 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光
紅外光轉換可見光之顯微影像裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,687,051 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王浩偉, 林耀明, 葉迎春
可調光徑之光學捕捉裙	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,667,838 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明, 王浩偉, 羅偕益
利用雙波混合干涉術之掃瞄式超音波裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194233 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李朱育, 施學兢
全光學激發雷射外調制式之原子鐘裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200261 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 姚鵬, 陳志光
控制奈米碳管長度之方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200165 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 戴鴻名, 施能謙, 陳燦林
平面定位機構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201505 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林慶芳, 張中柱
即時紅外化學影像光譜裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 203435 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李耀昌, 王浩偉
光譜偏移式奈米近接裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200276 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明, 王浩偉
光學用高度調整裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201467 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 石宇森
位移微擾裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201468 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明, 陳志光, 石宇森
電磁場感測元件及其裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201837 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 黃卯生, 薛文崇, 曾文仁, 馮勁敏, 梁文烈
二維位移量之量測裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224351 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 高清芬, 張中柱, 林慶芳
雙波混合於光折變晶體干涉裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I221897 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李朱育, 施學兢

液晶投影機之冷卻裝置 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

序號

產出年度

領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

獲證日期

證書號碼

專利期間起

專利期間訖

專利性質

技術摘要-中文

技術摘要-英文

聯絡人員

電話

傳真

電子信箱

參考網址

備註

特殊情形

在『技術司專利資料集』資料集內搜尋:

與液晶投影機之冷卻裝置同分類的技術司專利資料集

液晶投影機之冷卻裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部