準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程的核准國家是美國, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是蔡宏營, 潘正堂, 周敏傑, 陳世洲, 林育生, 證書號碼是6,656,668.

序號1010
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人蔡宏營, 潘正堂, 周敏傑, 陳世洲, 林育生
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6,656,668
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程，藉由在以一 光罩上設有預定之曲線圖案，該曲線圖案於沿一直線方向上的寬度並不是 定值。當準分子雷射光源透過光罩上之曲線圖案照射並衝擊一基板上所塗 佈之高分子材而使其剝離蝕刻。並且當進行照射時，同時將基板沿著垂直 於該直線方向移動，使高分子材於沿著該直線方向上的不同位置處係受到 不同時間長度的照射，造成不同蝕刻深度，因而可將高分子材蝕刻成預定 形狀之立體圖案。並且，藉由兩次不同方向或是不同光罩圖案的照射蝕刻 ，可得到類球面或非球面的微陣列結構。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

1010

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

蔡宏營, 潘正堂, 周敏傑, 陳世洲, 林育生

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6,656,668

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程，藉由在以一 光罩上設有預定之曲線圖案，該曲線圖案於沿一直線方向上的寬度並不是 定值。當準分子雷射光源透過光罩上之曲線圖案照射並衝擊一基板上所塗 佈之高分子材而使其剝離蝕刻。並且當進行照射時，同時將基板沿著垂直 於該直線方向移動，使高分子材於沿著該直線方向上的不同位置處係受到 不同時間長度的照射，造成不同蝕刻深度，因而可將高分子材蝕刻成預定 形狀之立體圖案。並且，藉由兩次不同方向或是不同光罩圖案的照射蝕刻 ，可得到類球面或非球面的微陣列結構。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

呂美玲

電話

03-5915898

傳真

03-5820316

電子信箱

meilingleu@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

根據識別碼 6 656 668 找到的相關資料

# 6 656 668 於 文資局古蹟

案件編號20201210000001
個案名稱鹿港日茂行
級別代碼1.1.3
級別名稱縣(市)定古蹟
種類1::
code: : A3
name: : 宅第
歷史沿革日茂行主人林振嵩於乾隆30年（西元1765年）由泉州永寧渡海來臺經商，並定居鹿港，林振嵩經營船頭行，於鹿港創立「日茂行」商行。乾隆49年（西元1784年）鹿港開為正式的港口，與泉州蚶江對渡通商，推測日茂行建築於此時期興建。 　　 乾隆42年（西元1777年）捐資成立鹿港慈善組織「敬義園」，以拾字紙、置義塚、收遺骸、修橋樑等工作，造福鄉里，是當時最具規模的慈善組織。另外，日茂行曾參與乾隆51年（西元1786年）鹿港龍山寺遷建、乾隆52年（西元1787年）天后宮（今新祖宮）新建等地方事務。 　　 乾隆53年（西元1788年）林振嵩因母喪回泉州奔喪後，定居泉州，頤養天年，日茂行的經營由林振嵩三子林文濬接手。林文濬又名品、元品，字金伯，號淵巖，為人熱心公益，曾捐資修建鹿港天后宮、鹽水武廟、彰化縣城等。嘉慶21年（西元1816年）林文濬五子林廷璋，孫侄林世賢中舉，同年，日茂行進行重修，由林文濬敬書「日茂行」門額。 　　 自乾隆年間至道光中葉，日茂行執鹿港商業牛耳，然而隨著鹿港河道淤塞影響船運，日茂行商務亦逐漸衰弱，家族於地方事務的參與歸於平淡。後因民國70年（西元1981年）實施都市計畫畫道路開闢，日茂行建物所在地辦理徵收，部分建築遭拆除，於民國89年（西元2000年）公告為縣定古蹟，民國94年（西元2004年）遂辦理修復工程。
評定基準1:: : 具歷史、文化、藝術價值
指定登錄理由鹿港日茂行，為鹿港開港的歷史見證，亦是鹿港開發過程中重要商業社團「泉郊」首富，在當時隨鹿港全盛時期商業貿易的發展，成為鹿港八郊之首及規模最大的船頭行。日茂行對鹿港的貢獻與事蹟，至今仍在鹿港留傳歌頌。
法令依據(空)
所屬主管機關彰化縣政府
現況地址1::
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緯度24.058602143165
主管機關名稱彰化縣政府
主管機關單位彰化縣文化局
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外觀特徵日茂行為「三進二院」的建築格局，因民國70年（西元1981年）公佈的都市計畫中，日茂行建物所在地辦理徵收，部分建築已被拆除，除了圍牆已被拆除外，還包括主體建築前落正身正立面、舊時作為書院的「林源和」右半圍牆，及右半護龍亦被拆除。現今日茂行範圍包括室外主體建築外埕（日茂埕）、臺基、深井；室內則有明間（正廳堂、屏後）、左右次間、護龍；中介空間則有步口。 現今的前埕已有部分遭小路、樹木等取代，但仍可看出其第一進之室內進深、中庭進深遠大於一般商用空間或居住空間，可見其原為船頭行特有之院落空間，可視其屋宇高度為船頭行高於一般傳統店舖近15倍之空間尺度。外埕（日茂埕）舖面以泉川花崗石為舖面材料（壓艙石），以二道「龍鬚」將舖面分作三堵，中央較寬而兩旁較窄，臺基與步口以石板條為主要舖面材。廣場前有數顆磉石，做為昔時郊商往來的旗杆座及酬神時演戲的戲臺石。 主體建築前落主要為磚造承重牆結構。日茂行屋頂之形式、起翹、瓦作、脊作等作法顯鹿港本土之特色，反應地方建築特有的折衷性質。前落正身之屋頂，由於每「舉」高度相同，「舉架」作法不明顯，正身第一進之屋頂每舉之高度相同，未能產生舉折之曲線，外觀上測得之「起翹」曲線應為脊作及瓦作再加以施工而產生。主體建築前落，正身之屋頂以椽條與屋架的檁搭接，椽條上鋪望磚，望磚上再鋪一層板瓦，板瓦上再依每隴計算應有之高度填以土或雜瓦，最上層材以仰瓦覆蓋，逐步產生「起翹」，「起翹」曲線從屋脊之中心向左右上揚，並向外翻起。明間屋頂以竹竿代替椽條，竹竿上舖「屋瓦」；日茂行屋頂之瓦作為大、小式兼。正身第一進之正脊，為「工」字形之清水脊，正脊頂端以磚塊壓頂。脊頭（馬背）為直式，且山牆及脊頭（馬背）少有多餘裝飾。門廳正門原有門額「日茂行」石刻，民國87年（西元1998年）5月16日鹿港鎮公所因都市計畫拓寬泉州街。將日茂行臨街房舍拆毀，門額「日茂行」亦毀損成兩段，目前由日茂行後代保管。 主體建築後落原為一條正身及左、右護龍共組，目前除正身保留完整外，左護龍已改建為混凝土構造；右護龍則大部分坍塌。正身兩側山牆為磚造承重牆，後檐牆則為磚石混和構造，腰線以下為石板條封砌，以石板條寬面向外，內以磚石堆砌；腰線以上至檐下原應為磚造，今施以水泥粉光。主體建築後落正身之屋頂亦為硬山式作法，中脊之鏤空（置花格磚處）分作三段，對應明間、次間、稍間之位置。正身之屋頂於檁上架椽條，椽條上望板，望板施作方向水平於椽條，望板上再施以磚及釉面磚，釉面磚上逐施瓦作，瓦作與主體建築前落正身左側相似，為大式屋頂作法。次間瓦作之形式與正身相似，皆為大式屋頂之作法。正身正脊與建築前落正身同為「工」字形之清水脊，正脊頂端以磚為材，脊頭也與主體建築前落正身相似。 小合院為一正身及左、右護龍所組成，為日茂行目前保留最完整的三合院單元。小合院圍牆原有花磚窗及石門罩，石門罩上原刻有「林原和」的石匾，因民國87年（西元1998年）道路拓寬工程時遭受破壞。小合院埕舖面材料與主體建築外埕同為泉州花崗石，左右護龍則以石板條為材料。
室內特徵主體建築前落正身以外架方式計算，共有19架，含出檐3架。屏後深度3步架，夾山磚牆與屏後之木構件間之金柱上可觀測正廳樑枋與檁之榫口，此處原應有（屏牆）室內隔間牆存在。 主體建築後落正身傳統建築之穿斗式屋架，外架17架含出檐3架。右次間為穿斗式屋架，共5架，為小式屋架之作法。 小合院正身屋架為抬樑式，外架13架，含出檐2架。左右護龍亦為抬樑式屋架，共5架。正身山牆為磚造承重牆、後檐牆則為磚石混造承重牆，山牆及後檐牆皆以水泥砂漿粉平。左、右護龍之「外山牆」及後檐牆為承重牆；「內山牆」（近正身之山牆）及「前檐牆」為樑柱構造。「內山牆」之牆身為磚造，由於其為樑柱構造，牆身不承重；「前檐牆」檻牆以上為木造板壁及夾竹編泥牆。「外山牆」為磚石混造，最底層為四層磚疊砌，長面向外。 日茂行正廳門楣有一塊「鰲波東注」匾，「鰲」指鰲城，即泉州永寧，說明林家祖先由永寧城來臺灣經商貿易，故曰「鰲波東注」。正殿神龕上方有一塊「大觀」匾。民國56年（西元1967年）日茂行重修，由鹿港匠師施金義承做正廳彩繪，並由和美陳穎派施作彩繪，書法家歐陽錦華現場揮毫，留下珍貴的墨跡。
使用情形現今建物內多為管理人作為居住使用，民國110年（西元2021年）彰化縣文化局委外進行修復再利用工程，目前尚未執行。
應重點維護之事項建議管理單位定期檢視電線管理及注意用電用火安全，並避免易燃物於用火設備旁。
現狀民國89年（西元2000年）編列為縣定古蹟，並於民國94年（西元2005年）完成修復工程，其建物狀態保存良好。
網站名稱彰化旅遊資訊網-鹿港日茂行
網址https://tourism.chcg.gov.tw/AttractionsContent.aspx?id=111&chk=76aa97d7-7f83-4e3d-b948-317b5b93d540
主管機關聯絡電話04-7292201
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評定基準: 1:: : 具歷史、文化、藝術價值
指定登錄理由: 鹿港日茂行，為鹿港開港的歷史見證，亦是鹿港開發過程中重要商業社團「泉郊」首富，在當時隨鹿港全盛時期商業貿易的發展，成為鹿港八郊之首及規模最大的船頭行。日茂行對鹿港的貢獻與事蹟，至今仍在鹿港留傳歌頌。
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所屬主管機關: 彰化縣政府
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外觀特徵: 日茂行為「三進二院」的建築格局，因民國70年（西元1981年）公佈的都市計畫中，日茂行建物所在地辦理徵收，部分建築已被拆除，除了圍牆已被拆除外，還包括主體建築前落正身正立面、舊時作為書院的「林源和」右半圍牆，及右半護龍亦被拆除。現今日茂行範圍包括室外主體建築外埕（日茂埕）、臺基、深井；室內則有明間（正廳堂、屏後）、左右次間、護龍；中介空間則有步口。 現今的前埕已有部分遭小路、樹木等取代，但仍可看出其第一進之室內進深、中庭進深遠大於一般商用空間或居住空間，可見其原為船頭行特有之院落空間，可視其屋宇高度為船頭行高於一般傳統店舖近15倍之空間尺度。外埕（日茂埕）舖面以泉川花崗石為舖面材料（壓艙石），以二道「龍鬚」將舖面分作三堵，中央較寬而兩旁較窄，臺基與步口以石板條為主要舖面材。廣場前有數顆磉石，做為昔時郊商往來的旗杆座及酬神時演戲的戲臺石。 主體建築前落主要為磚造承重牆結構。日茂行屋頂之形式、起翹、瓦作、脊作等作法顯鹿港本土之特色，反應地方建築特有的折衷性質。前落正身之屋頂，由於每「舉」高度相同，「舉架」作法不明顯，正身第一進之屋頂每舉之高度相同，未能產生舉折之曲線，外觀上測得之「起翹」曲線應為脊作及瓦作再加以施工而產生。主體建築前落，正身之屋頂以椽條與屋架的檁搭接，椽條上鋪望磚，望磚上再鋪一層板瓦，板瓦上再依每隴計算應有之高度填以土或雜瓦，最上層材以仰瓦覆蓋，逐步產生「起翹」，「起翹」曲線從屋脊之中心向左右上揚，並向外翻起。明間屋頂以竹竿代替椽條，竹竿上舖「屋瓦」；日茂行屋頂之瓦作為大、小式兼。正身第一進之正脊，為「工」字形之清水脊，正脊頂端以磚塊壓頂。脊頭（馬背）為直式，且山牆及脊頭（馬背）少有多餘裝飾。門廳正門原有門額「日茂行」石刻，民國87年（西元1998年）5月16日鹿港鎮公所因都市計畫拓寬泉州街。將日茂行臨街房舍拆毀，門額「日茂行」亦毀損成兩段，目前由日茂行後代保管。 主體建築後落原為一條正身及左、右護龍共組，目前除正身保留完整外，左護龍已改建為混凝土構造；右護龍則大部分坍塌。正身兩側山牆為磚造承重牆，後檐牆則為磚石混和構造，腰線以下為石板條封砌，以石板條寬面向外，內以磚石堆砌；腰線以上至檐下原應為磚造，今施以水泥粉光。主體建築後落正身之屋頂亦為硬山式作法，中脊之鏤空（置花格磚處）分作三段，對應明間、次間、稍間之位置。正身之屋頂於檁上架椽條，椽條上望板，望板施作方向水平於椽條，望板上再施以磚及釉面磚，釉面磚上逐施瓦作，瓦作與主體建築前落正身左側相似，為大式屋頂作法。次間瓦作之形式與正身相似，皆為大式屋頂之作法。正身正脊與建築前落正身同為「工」字形之清水脊，正脊頂端以磚為材，脊頭也與主體建築前落正身相似。 小合院為一正身及左、右護龍所組成，為日茂行目前保留最完整的三合院單元。小合院圍牆原有花磚窗及石門罩，石門罩上原刻有「林原和」的石匾，因民國87年（西元1998年）道路拓寬工程時遭受破壞。小合院埕舖面材料與主體建築外埕同為泉州花崗石，左右護龍則以石板條為材料。
室內特徵: 主體建築前落正身以外架方式計算，共有19架，含出檐3架。屏後深度3步架，夾山磚牆與屏後之木構件間之金柱上可觀測正廳樑枋與檁之榫口，此處原應有（屏牆）室內隔間牆存在。 主體建築後落正身傳統建築之穿斗式屋架，外架17架含出檐3架。右次間為穿斗式屋架，共5架，為小式屋架之作法。 小合院正身屋架為抬樑式，外架13架，含出檐2架。左右護龍亦為抬樑式屋架，共5架。正身山牆為磚造承重牆、後檐牆則為磚石混造承重牆，山牆及後檐牆皆以水泥砂漿粉平。左、右護龍之「外山牆」及後檐牆為承重牆；「內山牆」（近正身之山牆）及「前檐牆」為樑柱構造。「內山牆」之牆身為磚造，由於其為樑柱構造，牆身不承重；「前檐牆」檻牆以上為木造板壁及夾竹編泥牆。「外山牆」為磚石混造，最底層為四層磚疊砌，長面向外。 日茂行正廳門楣有一塊「鰲波東注」匾，「鰲」指鰲城，即泉州永寧，說明林家祖先由永寧城來臺灣經商貿易，故曰「鰲波東注」。正殿神龕上方有一塊「大觀」匾。民國56年（西元1967年）日茂行重修，由鹿港匠師施金義承做正廳彩繪，並由和美陳穎派施作彩繪，書法家歐陽錦華現場揮毫，留下珍貴的墨跡。
使用情形: 現今建物內多為管理人作為居住使用，民國110年（西元2021年）彰化縣文化局委外進行修復再利用工程，目前尚未執行。
應重點維護之事項: 建議管理單位定期檢視電線管理及注意用電用火安全，並避免易燃物於用火設備旁。
現狀: 民國89年（西元2000年）編列為縣定古蹟，並於民國94年（西元2005年）完成修復工程，其建物狀態保存良好。
網站名稱: 彰化旅遊資訊網-鹿港日茂行
網址: https://tourism.chcg.gov.tw/AttractionsContent.aspx?id=111&chk=76aa97d7-7f83-4e3d-b948-317b5b93d540
主管機關聯絡電話: 04-7292201
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公告日期: : 2000-07-14 13:41:59.0
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# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號1007
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文鑽石/鑽石薄膜之延性加工技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人蔡宏營, 林宏彝, 吳東權
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼189523
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係提供一種鑽石類材質之延性加工技術，其中包括：提供一熱量加熱鑽石類 材質後施力於該受熱之鑽石類材質，藉由該加熱及施力可對鑽石類材質進行延性加 工；對鑽石薄膜施行延性加工技術時包括：一熱量加熱鑽石薄膜並以京輪研磨該受 熱之鑽石類材質，藉由該加熱及計算京輪研磨(grinding)臨界切深 (或加工壓力大 小) 可對鑽石類材質進行延性加工。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1007
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 鑽石/鑽石薄膜之延性加工技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 蔡宏營, 林宏彝, 吳東權
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 189523
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係提供一種鑽石類材質之延性加工技術，其中包括：提供一熱量加熱鑽石類 材質後施力於該受熱之鑽石類材質，藉由該加熱及施力可對鑽石類材質進行延性加 工；對鑽石薄膜施行延性加工技術時包括：一熱量加熱鑽石薄膜並以京輪研磨該受 熱之鑽石類材質，藉由該加熱及計算京輪研磨(grinding)臨界切深 (或加工壓力大 小) 可對鑽石類材質進行延性加工。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號1008
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人林熙翔, 陳建洋
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼189396
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1008
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 林熙翔, 陳建洋
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 189396
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號1009
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人林熙翔, 陳建洋
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6,730,922
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1009
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 林熙翔, 陳建洋
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6,730,922
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號1011
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文微鏡片定位裝置
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人潘正堂, 陳世洲, 李國賓, 楊賢敏, 謝宸碩
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL01110627.1
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種微鏡片定位裝置，主要包括水平定位單元、垂直定位單元及免干擾機制單元， 其中水平定位單元具有可固定微鏡片之功能，使微鏡片在攜帶及運送過程中，避免 震動、碰撞造成之微鏡片移位或損壞；垂直定位單元具有可將微鏡片作精準垂直定 位的功能；免干擾機制單元則可保障微鏡片免於微鏡片陣列中其他微鏡片之操作磁 場及外界磁場之干擾，故可保障微鏡片陣列之整體運作不受磁場干擾。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1011
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 微鏡片定位裝置
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 潘正堂, 陳世洲, 李國賓, 楊賢敏, 謝宸碩
核准國家: 中國大陸
獲證日期: (空)
證書號碼: ZL01110627.1
專利期間起: (空)
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專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種微鏡片定位裝置，主要包括水平定位單元、垂直定位單元及免干擾機制單元， 其中水平定位單元具有可固定微鏡片之功能，使微鏡片在攜帶及運送過程中，避免 震動、碰撞造成之微鏡片移位或損壞；垂直定位單元具有可將微鏡片作精準垂直定 位的功能；免干擾機制單元則可保障微鏡片免於微鏡片陣列中其他微鏡片之操作磁 場及外界磁場之干擾，故可保障微鏡片陣列之整體運作不受磁場干擾。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號1012
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文微結構探針卡之製法及其成品
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人周敏傑, 王宏杰, 彭駿光, 吳東權, 蔡宏營
核准國家日本
獲證日期(空)
證書號碼3584219
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種探針卡之製法及其成品，其製法包含：準備基材；在基材上若干位置分別蝕刻 一長槽氣臂空間及一自懸臂空間底部一端凹入之針頭空間；在懸臂空間及針頭空間 內電鑄成型懸臂及針頭；在基材頂面塗佈光阻，並以光刻法將光阻對應各懸臂遠離 針頭一端之部份蝕穿成穿透空缺；在光阻頂面覆上絕緣之座板，並以光刻法成型貫 穿座板並與懸臂接通之基座空間；在基座空間內電鑄成型探針基座；去除基材及光 阻。依此製出之探針卡具有探針密度高、接觸性佳、可作高速測試等優點。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1012
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 微結構探針卡之製法及其成品
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 周敏傑, 王宏杰, 彭駿光, 吳東權, 蔡宏營
核准國家: 日本
獲證日期: (空)
證書號碼: 3584219
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種探針卡之製法及其成品，其製法包含：準備基材；在基材上若干位置分別蝕刻 一長槽氣臂空間及一自懸臂空間底部一端凹入之針頭空間；在懸臂空間及針頭空間 內電鑄成型懸臂及針頭；在基材頂面塗佈光阻，並以光刻法將光阻對應各懸臂遠離 針頭一端之部份蝕穿成穿透空缺；在光阻頂面覆上絕緣之座板，並以光刻法成型貫 穿座板並與懸臂接通之基座空間；在基座空間內電鑄成型探針基座；去除基材及光 阻。依此製出之探針卡具有探針密度高、接觸性佳、可作高速測試等優點。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號1013
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文改良之近場光學飛行頭
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人羅士哲, 王鴻年, 林熙翔
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼221801
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種可進行近場光學記錄之飛行頭，係包含一可維持於光碟片近場距離之承載台， 其前端設一固態浸沒式鏡片（ＳＩＬ），較內側設一可將雷射光聚焦至該ＳＩＬ之 聚焦鏡片；本創作提供之改良結構之一，係在該ＳＩＬ之折射面上鍍一光散射層及 一介電層，當受光或受熱時可分解出銀原子，銀原子能增強雷射光通過折射面之電 磁波，形同開啟一微小之光學孔穴；另一方式係在該折射面上鍍一遮罩層及一介電 層，其折射率可因雷射光之熱能而改變，使聚焦處開啟一微小孔穴供電磁波通過； 如此，射至光碟片之雷射光點較小，可作線寬更細之近場曝光。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
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備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1013
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 改良之近場光學飛行頭
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 羅士哲, 王鴻年, 林熙翔
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 221801
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種可進行近場光學記錄之飛行頭，係包含一可維持於光碟片近場距離之承載台， 其前端設一固態浸沒式鏡片（ＳＩＬ），較內側設一可將雷射光聚焦至該ＳＩＬ之 聚焦鏡片；本創作提供之改良結構之一，係在該ＳＩＬ之折射面上鍍一光散射層及 一介電層，當受光或受熱時可分解出銀原子，銀原子能增強雷射光通過折射面之電 磁波，形同開啟一微小之光學孔穴；另一方式係在該折射面上鍍一遮罩層及一介電 層，其折射率可因雷射光之熱能而改變，使聚焦處開啟一微小孔穴供電磁波通過； 如此，射至光碟片之雷射光點較小，可作線寬更細之近場曝光。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號1014
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文以雙離子槍濺鍍薄膜於微米/奈米級結構表面之方法
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人蘇建彰, 蔡宏營, 林宏彝, 蔡哲正
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼196456
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種以雙離子槍濺鍍薄膜於微結構表面之方法，係利用一濺鍍離子槍對一靶材進行 轟擊以將靶材原子鍍製到一基板上形成薄膜，一加工離子槍則對該微結構表面剛形 成有薄膜之基板預定位置處進行轟擊加工，以促使該處表面獲得均勻膜厚。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1014
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 以雙離子槍濺鍍薄膜於微米/奈米級結構表面之方法
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 蘇建彰, 蔡宏營, 林宏彝, 蔡哲正
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 196456
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種以雙離子槍濺鍍薄膜於微結構表面之方法，係利用一濺鍍離子槍對一靶材進行 轟擊以將靶材原子鍍製到一基板上形成薄膜，一加工離子槍則對該微結構表面剛形 成有薄膜之基板預定位置處進行轟擊加工，以促使該處表面獲得均勻膜厚。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號1015
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文光切換器
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人羅裕龍, 陳奇夆
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼214506
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文本創作係為一新型光切換器以微光機電系統（MOEMS）或如繼電器, 步進馬達等傳統式致動製程技術與光纖光柵（Fiber Bragg Grating）技術為基礎設計出創新的光通訊被動元件，使光塞取機具重建結構功能，且能夠根據網路上每個節點上的需求去變動塞取，因此可以提供在高密度分波多工網路上，能基於最佳交通流量，最有效率的網路利用、增加網路彈性。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1015
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 光切換器
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 羅裕龍, 陳奇夆
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 214506
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 本創作係為一新型光切換器以微光機電系統（MOEMS）或如繼電器, 步進馬達等傳統式致動製程技術與光纖光柵（Fiber Bragg Grating）技術為基礎設計出創新的光通訊被動元件，使光塞取機具重建結構功能，且能夠根據網路上每個節點上的需求去變動塞取，因此可以提供在高密度分波多工網路上，能基於最佳交通流量，最有效率的網路利用、增加網路彈性。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)
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與準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

以快速傅利葉轉換為基礎之分碼多重進接犁耙式接收機架構及其方法

核准國家: 瑞典 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃家齊, 王信淵, 黃永亮 | 證書號碼: 0980149

用來解開兩個展頻碼的方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 顧中威, 郭富彥 | 證書號碼: 6,724,838

節拍計數器及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳芳祝 | 證書號碼: 6,787,689

用於無線通訊網路之即時視訊傳送方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 蘇淑津, 劉志俊 | 證書號碼: 6,658,019

調適型數位濾波器之學習方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳恆洲, 陳自強 | 證書號碼: 6,654,412

以延遲量測同步的方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 盧澄乾 | 證書號碼: 184620

以延遲量測同步的方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 盧澄乾 | 證書號碼: 6,647,246

展頻通訊系統的碼跟蹤系統及方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳蘊彥, 楊木榮 | 證書號碼: ZL00106945.4

寬頻微帶線洩漏波天線

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 沈志文 | 證書號碼: 211376

用於雙模式收發器的關聯器/有限脈衝頻率響應濾波器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 郭富彥, 顧中威 | 證書號碼: 6,748,014

碼群組辨識與框邊界同步的方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳柏村, 黃合淇, 陳蘊彥, 楊木榮 | 證書號碼: 6,775,318

片狀天線

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 曾文仁, 沈志文, 陳建宏 | 證書號碼: ZL01103747.4

環型耦合微波空腔

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉智群, 張忠繼, 鍾如琦 | 證書號碼: 3604653

多頻天線裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 曾文仁, 沈志文 | 證書號碼: 214324

多層型電感電容共振式平衡至非平衡轉換器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 湯敬文 | 證書號碼: 184637

以快速傅利葉轉換為基礎之分碼多重進接犁耙式接收機架構及其方法

核准國家: 瑞典 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃家齊, 王信淵, 黃永亮 | 證書號碼: 0980149

用來解開兩個展頻碼的方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 顧中威, 郭富彥 | 證書號碼: 6,724,838

節拍計數器及其方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳芳祝 | 證書號碼: 6,787,689

用於無線通訊網路之即時視訊傳送方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 蘇淑津, 劉志俊 | 證書號碼: 6,658,019

調適型數位濾波器之學習方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳恆洲, 陳自強 | 證書號碼: 6,654,412

以延遲量測同步的方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 盧澄乾 | 證書號碼: 184620

以延遲量測同步的方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 盧澄乾 | 證書號碼: 6,647,246

展頻通訊系統的碼跟蹤系統及方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳蘊彥, 楊木榮 | 證書號碼: ZL00106945.4

寬頻微帶線洩漏波天線

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 沈志文 | 證書號碼: 211376

用於雙模式收發器的關聯器/有限脈衝頻率響應濾波器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 郭富彥, 顧中威 | 證書號碼: 6,748,014

碼群組辨識與框邊界同步的方法與裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 陳柏村, 黃合淇, 陳蘊彥, 楊木榮 | 證書號碼: 6,775,318

片狀天線

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 曾文仁, 沈志文, 陳建宏 | 證書號碼: ZL01103747.4

環型耦合微波空腔

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉智群, 張忠繼, 鍾如琦 | 證書號碼: 3604653

多頻天線裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 曾文仁, 沈志文 | 證書號碼: 214324

多層型電感電容共振式平衡至非平衡轉換器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 湯敬文 | 證書號碼: 184637

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