UV硬化光學膠組成物及其製造方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文UV硬化光學膠組成物及其製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I255836, 專利性質是發明, 執行單位是工研院材化所, 產出年度是95, 計畫名稱是特化與奈米化工技術開發四年計畫, 專利發明人是林佳民、吳信和、陳耀光.

序號2494
產出年度95
領域別(空)
專利名稱-中文UV硬化光學膠組成物及其製造方法
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱特化與奈米化工技術開發四年計畫
專利發明人林佳民 | 吳信和 | 陳耀光
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I255836
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明一種UV硬化光學膠組成物,其包括:一20至80%重量百分比之含氟丙烯酸系單體及含環氧基丙烯酸系單體之丙烯酸系共聚物,且該丙烯酸系共聚物係由含氟丙烯酸系單體及含環氧基丙烯酸系單體所共聚合;一重量百分比小於60%之反應型稀釋劑;一10至80%重量百分比之環氧樹脂;以及一0.001至20%重量百分比之光起始劑。本發明之UV硬化光學膠組成物,其製造成本低,產率高,且折射率調控範圍廣,為一性能優異之光學封裝材料。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工,95年改為生醫材化
特殊情形(空)

序號

2494

產出年度

95

領域別

(空)

專利名稱-中文

UV硬化光學膠組成物及其製造方法

執行單位

工研院材化所

產出單位

(空)

計畫名稱

特化與奈米化工技術開發四年計畫

專利發明人

林佳民 | 吳信和 | 陳耀光

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I255836

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明一種UV硬化光學膠組成物,其包括:一20至80%重量百分比之含氟丙烯酸系單體及含環氧基丙烯酸系單體之丙烯酸系共聚物,且該丙烯酸系共聚物係由含氟丙烯酸系單體及含環氧基丙烯酸系單體所共聚合;一重量百分比小於60%之反應型稀釋劑;一10至80%重量百分比之環氧樹脂;以及一0.001至20%重量百分比之光起始劑。本發明之UV硬化光學膠組成物,其製造成本低,產率高,且折射率調控範圍廣,為一性能優異之光學封裝材料。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工,95年改為生醫材化

特殊情形

(空)

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一種高速假撚方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207547 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 | 專利發明人: 陳哲陽 | 簡淑華 | 黃麗娟 | 黃泳彬

@ 技術司專利資料集

增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207522 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 王興昇 | 李榮賢 | 陳棓煌

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熱管均熱板

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 226177 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張長生 | 楊書榮

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一種資料通訊的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6496481 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳炯憲 | 馬金溝

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Optical Disk Control Mechanism

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6665253 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 前瞻光資訊系統技術發展計畫 | 專利發明人: 藍永松 | 張啟伸

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 證書號碼: 573696 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥 | 余基祥 | 林妍君 | 薛勝文

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時序還原之方法與系統

核准國家: 英國 | 證書號碼: 573696 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥 | 余基祥 | 林妍君 | 薛勝文

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萃取醣苷類化合物之雙液相系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 157850 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院生醫中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 抗病毒及抗發炎中草藥研發及現代化技術平台之建立四年計畫 | 專利發明人: 潘一紅 | 李連滋 | 邱惜禾 | 劉惠儒 | 姚心然

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一種高速假撚方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207547 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院化工所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 高科技纖維與產品技術開發四年計畫 | 專利發明人: 陳哲陽 | 簡淑華 | 黃麗娟 | 黃泳彬

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增進散熱與電磁屏蔽效應之半導體封裝

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207522 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 王興昇 | 李榮賢 | 陳棓煌

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熱管均熱板

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 226177 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張長生 | 楊書榮

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一種資料通訊的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6496481 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 無線通訊技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳炯憲 | 馬金溝

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Optical Disk Control Mechanism

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時序還原之方法與系統

核准國家: 德國 | 證書號碼: 573696 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林清祥 | 余基祥 | 林妍君 | 薛勝文

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具低切換雜訊之構裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683781 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 何宗哲 | 李明林 | 張慧如 | 賴信助

低串聯阻抗薄膜電晶體I之製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6670224 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李啟聖 | 常鼎國 | 陳丕夫 | 康育銘 | 戴遠東

傾斜散射反射板的製造方法與結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文

低成本且可大面積化製作奈米碳管場發射顯示器之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中

無凸塊之內引腳與接合墊的接合方法及其結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋

使用非導電性接著劑以接合IC晶片與基板之方法及其組裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪

可調式電容及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和

具有偏射型對稱式加熱片之微型噴液產生器及其製造方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩

子母貫通孔結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6717071 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 張慧如 | 李明林 | 何宗哲

一種GAMMA校正驅動系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 193940 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王博文 | 陳明道 | 陳尚立

三極結構電子發射源之製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6705910 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李正中 | 何家充 | 許志榮 | 鄭華琦 | 張悠揚

低溫多晶矽的製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206403 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林憲信 | 李介文 | 鄭紹良 | 陳力俊 | 彭遠清 | 王文通

控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6750834 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁

奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6811457 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦 | 李正中 | 廖貞慧 | 張悠揚 | 許志榮 | 何家充

具低切換雜訊之構裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683781 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 何宗哲 | 李明林 | 張慧如 | 賴信助

低串聯阻抗薄膜電晶體I之製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6670224 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李啟聖 | 常鼎國 | 陳丕夫 | 康育銘 | 戴遠東

傾斜散射反射板的製造方法與結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文

低成本且可大面積化製作奈米碳管場發射顯示器之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中

無凸塊之內引腳與接合墊的接合方法及其結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋

使用非導電性接著劑以接合IC晶片與基板之方法及其組裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪

可調式電容及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和

具有偏射型對稱式加熱片之微型噴液產生器及其製造方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹

具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩

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