具環境控制之探漏檢測裝置
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文具環境控制之探漏檢測裝置的核准國家是中華民國, 證書號碼是I266049, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是95, 計畫名稱是金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫, 專利發明人是林志勇、陳勤志、曾光宏、吳學文.

序號	3074
產出年度	95
領域別	(空)
專利名稱-中文	具環境控制之探漏檢測裝置
執行單位	金屬中心
產出單位	(空)
計畫名稱	金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫
專利發明人	林志勇 \| 陳勤志 \| 曾光宏 \| 吳學文
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I266049
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	(空)
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	蔡振豐
電話	07-3513121轉2314
傳真	07-3516597
電子信箱	jenfon@mail.mirdc.org.tw
參考網址	(空)
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

3074

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

具環境控制之探漏檢測裝置

執行單位

金屬中心

產出單位

(空)

計畫名稱

金屬精微元件與系統關鍵技術研發三年計畫

專利發明人

林志勇 | 陳勤志 | 曾光宏 | 吳學文

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I266049

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

(空)

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

蔡振豐

電話

07-3513121轉2314

傳真

07-3516597

電子信箱

jenfon@mail.mirdc.org.tw

參考網址

(空)

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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具電鑄成型圖案的殼件	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 276839 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 張瑞模 \| 陳正義 \| 陳建仁 \| 鄭勝元 @ 技術司專利資料集
具電鑄成型圖案的衛浴製品	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 276840 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 張瑞模 \| 陳正義 \| 陳建仁 \| 鄭勝元 @ 技術司專利資料集
具電鑄成型圖案的附蓋容器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: M282598 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 張瑞模 \| 陳正義 \| 陳建仁 \| 鄭勝元 @ 技術司專利資料集
防靜電薄膜之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 227278 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 卓廷彬 \| 劉伍健 \| 李新中 \| 楊玉森 @ 技術司專利資料集
製造具內沉孔之平板工件之方法及實現該方法之沖壓連續模	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 229636 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 蔡盛祺 \| 蔡行知 \| 黃建發 @ 技術司專利資料集
球閥之確動防洩結構改良	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 230770 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 林庭凱 \| 江文欽 @ 技術司專利資料集
用以成型一微細導電元件之放電加工法及其成型裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 230638 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 郭佳儱 \| 陳明源 \| 黃俊德 \| 嚴水吉 @ 技術司專利資料集
應用於閥具之推塊結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 276133 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 94 \| 計畫名稱: 金屬精微元件與系統關鍵技術三年計畫 \| 專利發明人: 林庭凱 \| 王慈君 \| 江文欽 @ 技術司專利資料集

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具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 191581 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東 \| 廖宗能 \| 陳志強
具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6677189 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東 \| 廖宗能 \| 陳志強
薄膜電晶體面板的製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6713328 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東 \| 李啟聖 \| 張鈞傑
增快液晶顯示器應答速度之驅動系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200112 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 沈毓仁 \| 廖明俊 \| 徐正池
可調式訊號干擾積體電路系統及其量測方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6683469 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 李明林 \| 徐欽山
子母貫通孔結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6717071 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 張慧如 \| 李明林 \| 何宗哲
一種GAMMA校正驅動系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193940 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王博文 \| 陳明道 \| 陳尚立
三極結構電子發射源之製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6705910 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李正中 \| 何家充 \| 許志榮 \| 鄭華琦 \| 張悠揚
低溫多晶矽的製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206403 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林憲信 \| 李介文 \| 鄭紹良 \| 陳力俊 \| 彭遠清 \| 王文通
控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6750834 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 沈毓仁
奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6811457 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭華琦 \| 李正中 \| 廖貞慧 \| 張悠揚 \| 許志榮 \| 何家充
具低切換雜訊之構裝結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6683781 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 何宗哲 \| 李明林 \| 張慧如 \| 賴信助
低串聯阻抗薄膜電晶體I之製作方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6670224 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李啟聖 \| 常鼎國 \| 陳丕夫 \| 康育銘 \| 戴遠東
傾斜散射反射板的製造方法與結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6692902 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 翁逸君 \| 魏明達 \| 張上文
低成本且可大面積化製作奈米碳管場發射顯示器之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6692791 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張悠揚 \| 許志榮 \| 李鈞道 \| 李正中

具環境控制之探漏檢測裝置 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

序號

產出年度

領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

獲證日期

證書號碼

專利期間起

專利期間訖

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