導電顆粒植佈方法
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專利名稱-中文導電顆粒植佈方法的核准國家是美國, 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是96, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是陳有志 汪若蕙 陳裕華.

序號3437
產出年度96
領域別(空)
專利名稱-中文導電顆粒植佈方法
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人陳有志 汪若蕙 陳裕華
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼(空)
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種導電顆粒的植佈方法,具有製程簡單與成本低等優點。本發明係應用帶電荷之硫醇化合物與金屬之間的化學鍵結力使導電顆粒或晶片之電極的表面具有靜電荷,再利用電泳技術使帶電荷之導電顆粒游動定位於晶片凸塊之接合位置並使其固定,不會因為後續的製程而使導電顆粒產生移動或脫離現象。本發明可應用於覆晶與細間距凸塊的結合,其所適用凸塊之間距可小於20μm,且晶片凸塊的導電顆粒壓合密度遠大每個凸塊15個導電顆粒。_x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)

序號

3437

產出年度

96

領域別

(空)

專利名稱-中文

導電顆粒植佈方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

陳有志 汪若蕙 陳裕華

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

(空)

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種導電顆粒的植佈方法,具有製程簡單與成本低等優點。本發明係應用帶電荷之硫醇化合物與金屬之間的化學鍵結力使導電顆粒或晶片之電極的表面具有靜電荷,再利用電泳技術使帶電荷之導電顆粒游動定位於晶片凸塊之接合位置並使其固定,不會因為後續的製程而使導電顆粒產生移動或脫離現象。本發明可應用於覆晶與細間距凸塊的結合,其所適用凸塊之間距可小於20μm,且晶片凸塊的導電顆粒壓合密度遠大每個凸塊15個導電顆粒。_x000D_

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

劉展洋

電話

03-5916037

傳真

03-5917431

電子信箱

JamesLiu@Itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

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核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222219 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 許裕民 | 許晉瑋 | 裴靜偉 | 袁鋒 | 劉致為

半導體光電晶體

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6759694 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 許裕民 | 許晉瑋 | 裴靜偉 | 袁鋒 | 劉致為

形成多晶矽薄膜電晶體之方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I224868 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳麒麟 | 黃順發 | 王亮棠

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