殘墨回收再利用之方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文殘墨回收再利用之方法的核准國家是中華民國, 執行單位是印研中心, 產出年度是96, 專利性質是發明, 計畫名稱是高傳真精密印刷技術研發三年計畫, 專利發明人是張中一、張世錩、闕家彬, 證書號碼是I274671.

序號	3885
產出年度	96
領域別	(空)
專利名稱-中文	殘墨回收再利用之方法
執行單位	印研中心
產出單位	(空)
計畫名稱	高傳真精密印刷技術研發三年計畫
專利發明人	張中一、張世錩、闕家彬
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I274671
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	(空)
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	呂莉娟
電話	02-29990016#169
傳真	02-29990018
電子信箱	licheng@ptri.org.tw
參考網址	http://www.ptri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

3885

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

殘墨回收再利用之方法

執行單位

印研中心

產出單位

(空)

計畫名稱

高傳真精密印刷技術研發三年計畫

專利發明人

張中一、張世錩、闕家彬

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I274671

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

(空)

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

呂莉娟

電話

02-29990016#169

傳真

02-29990018

電子信箱

licheng@ptri.org.tw

參考網址

http://www.ptri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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金屬效果印刷之影像顏色處理方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 廣色域環保印刷技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 張中一張世錩闕家彬張絜喁 \| 證書號碼: I325570 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
金屬印刷色彩之優化方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 廣色域環保印刷技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 張中一張世錩闕家彬張景行 \| 證書號碼: I329572 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
應用色彩描述檔技術模擬特別色的預測方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 95 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 專利發明人: 張中一、張世錩、闕家彬 \| 證書號碼: I 267448 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
特別色殘墨的回收再利用方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 95 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 專利發明人: 張中一、張世錩、闕家彬 \| 證書號碼: @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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套色印刷套準對位回饋控制之方法與控制標	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)套色對位控制標： CMYK； (2)輔助控制標/蠕印、雙影、解析度； (3)網格方框/套準度； (4)每色旋轉角度/3.75~6度 \| 潛力預估: 印刷技術人員可根據控制標快速判斷偏移進行對位調整，將可提升印刷作業之效率，減少試印時紙張與油墨之耗損。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
IMD油墨電腦配色資料庫	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: (1)Specular：SPIN(含鏡面光)； (2)量測光源：D65； (3)視角：10°； (4)配方數：305組配方； (5)色差<1：270組配方； (6)色差<2：288組配方； (7)色差... \| 潛力預估: 本資料庫以四色CMYK配方模擬Pantone色票，印刷上可達接近特別色之效果。應用特別色電腦油墨配方將可簡化印刷工作流程、降低成本，提高印刷品之附加價值。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
數位打樣及數位印刷色彩驗證技術	執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 數位打樣色彩認證－(1)導具：ECI2002；(2)參照標準：ISO 12647-7；(3)平均色差< 2；(4)最大色差< 6 \| 潛力預估: 本技術為提供印刷產業一致的色彩標準，使印刷作業流程標準化，促成各廠間印刷機台色彩複製的一致性，將有助於提高品質及國際競爭力，提昇台灣印刷業產值。 @ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集
可適於不同作業系統之螢幕色彩描述檔的產生方式	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 印刷電腦配色調墨技術研發三年計畫 \| 專利發明人: 張中一、張世錩、林美玲 \| 證書號碼: I220632 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
隨機點光柵板立體成像構造	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 印研中心 \| 產出年度: 94 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 數位網路配色建構技術開發計畫 \| 專利發明人: 張中一、鄭勝明、吳文和、黃昌宏 \| 證書號碼: @ 經濟部產業技術司–專利資料集

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

IMD油墨電腦配色資料庫

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數位打樣及數位印刷色彩驗證技術

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

可適於不同作業系統之螢幕色彩描述檔的產生方式

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隨機點光柵板立體成像構造

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一種全彩化發光二極體裝置及製造方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東, 彭遠清, 陳建志 \| 證書號碼: 6730937
調整資料驅動器參考電壓之顯示器自動伽馬校正系統及方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖明俊, 陳明道, 楊和興 \| 證書號碼: 190460
可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 \| 證書號碼: 190469
可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 \| 證書號碼: 6680755
中心對稱之GAMMA電壓校正電路	核准國家: 日本 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 \| 證書號碼: 3522705
中心對稱之GAMMA電壓校正電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 \| 證書號碼: 190470
中心對稱之GAMMA電壓校正電路	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 \| 證書號碼: 6778161
矽單晶液晶顯示器及製作方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 莊立聖 \| 證書號碼: 6721027
簡易式塊狀彈性體的製程方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 盧思維, 盧明, 林志榮 \| 證書號碼: 6605525
蝕刻玻璃面板之裝置及方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳泰宏, 黃元璋 \| 證書號碼: 6673195
陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 \| 證書號碼: 184692
陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 \| 證書號碼: 6714268
具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 \| 證書號碼: 191581
具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 \| 證書號碼: 6677189
薄膜電晶體面板的製造方法	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 戴遠東, 李啟聖, 張鈞傑 \| 證書號碼: 6713328

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