壓印用模仁之製程與結構
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文壓印用模仁之製程與結構的核准國家是美國, 證書號碼是7,309,515, 專利性質是發明, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是97, 計畫名稱是機械與系統領域環境建構計畫, 專利發明人是蔡宏營吳志宏程智勇.

序號	4507
產出年度	97
領域別	(空)
專利名稱-中文	壓印用模仁之製程與結構
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人	蔡宏營吳志宏程智勇
核准國家	美國
獲證日期	(空)
證書號碼	7,309,515
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係有關一種壓印用模仁之製程方法與結構，其主要係可用於奈米壓印技術中。本發明係於一基板材料上依序形成一鑽石材料層與一光阻層，其中該阻劑(Resist)層與鑽石材料相比更具有蝕刻抵抗性。接著利用能量束微影技術使光阻層形成特定排列圖案之光阻遮罩，再利用鑽石材料與光阻層材料之蝕刻選擇比的差異，以乾蝕刻方式直接對於鑽石材料表面進行蝕刻製程便可輕易形成相對應該阻劑遮罩圖樣之凹凸圖形，進而完成以鑽石材料為主體之壓印用模仁。此一模仁結構除了具有高抗磨性外，還兼具有脫模容易之特性。 The present invention is related to a structure of an imprint mold and a method for fabricating the same, which can be used in the field of nano-imprint lithography. Firstly, a diamond film and a photoresist film are successively formed onto a substrate; wherein the photoresist film is more capable of anticorrosion than the diamond film. Then an energy beam lithography system is provided to make the photoresist film form a photoresist mask with particularly arranged patterns. Because of the etching selectivity between the diamond film and the photoresist film, on the surface of the diamond film can be easily formed a pattern with recessions and protrusions according to the photoresist mask by dry etching method. Thus an imprint mold characterized as better antifriction and easily taking off from imprinted materials is completed.
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-59117812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	0
特殊情形	(空)

序號

4507

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

壓印用模仁之製程與結構

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與系統領域環境建構計畫

專利發明人

蔡宏營吳志宏程智勇

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

7,309,515

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係有關一種壓印用模仁之製程方法與結構，其主要係可用於奈米壓印技術中。本發明係於一基板材料上依序形成一鑽石材料層與一光阻層，其中該阻劑(Resist)層與鑽石材料相比更具有蝕刻抵抗性。接著利用能量束微影技術使光阻層形成特定排列圖案之光阻遮罩，再利用鑽石材料與光阻層材料之蝕刻選擇比的差異，以乾蝕刻方式直接對於鑽石材料表面進行蝕刻製程便可輕易形成相對應該阻劑遮罩圖樣之凹凸圖形，進而完成以鑽石材料為主體之壓印用模仁。此一模仁結構除了具有高抗磨性外，還兼具有脫模容易之特性。 The present invention is related to a structure of an imprint mold and a method for fabricating the same, which can be used in the field of nano-imprint lithography. Firstly, a diamond film and a photoresist film are successively formed onto a substrate; wherein the photoresist film is more capable of anticorrosion than the diamond film. Then an energy beam lithography system is provided to make the photoresist film form a photoresist mask with particularly arranged patterns. Because of the etching selectivity between the diamond film and the photoresist film, on the surface of the diamond film can be easily formed a pattern with recessions and protrusions according to the photoresist mask by dry etching method. Thus an imprint mold characterized as better antifriction and easily taking off from imprinted materials is completed.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

特殊情形

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厚通有限公司	統一編號: 82793606 \| 電話號碼: 03-3900265#309 \| 桃園市龍潭區梅龍路515巷51號 @ 出進口廠商登記資料
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復興航空七二三澎湖空難事故檢察機關相驗實錄	出版日期: 2015-04 \| 出版單位: 臺灣澎湖地方法院檢察署 \| 作者資訊: 郭珍妮 \| 王鑫健 \| 吳巡龍 \| 何采蓉 \| 林濬程 \| 陳嬿晴 \| 魏慧美 \| 趙守仁 \| 洪清貴 \| 蔡國雄 \| 鄭文乾 \| ISBN: 9789860449259 \| 語言: 中文 \| 適用對象: 成人（學術性） \| 主題分類: 法務 \| 書籍介紹: 復興航空七二三澎湖空難事故檢察機關相驗實錄 \| 授權資訊: 聯絡處室：澎湖縣馬公市西文里西文澳309號;姓名：魏慧美;電話：06-9211699#515;地址：澎湖縣馬公市西文里西文澳309號 @ 出版書目資料
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玄門醫聖	作者: 魚樂作 \| 出版機構: 飛燕文創 \| 版次: 初版 \| 預訂出版日: 109/05 \| 適讀對象: 成人(一般) \| 頁數: 192 \| 得獎紀錄: \| ISBN: 978-986-515-309-0 (第23冊:平裝, NT$190, 192面, 19公分) @ 臺灣出版新書預告書訊
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113年第四次電腦軟體共同供應契約採購-套裝軟體	標案案號: 1130204 \| 標的分類: 2_財物類 \| 得標廠商名稱1: 國眾電腦股份有限公司 \| 招標機關: 數位發展部數位產業署 \| 決標日期: 20241107 @ 決標金額前5大之決標公告

中國哲學史三十講

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統一編號: 82793606 | 電話號碼: 03-3900265#309 | 桃園市龍潭區梅龍路515巷51號

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復興航空七二三澎湖空難事故檢察機關相驗實錄

出版日期: 2015-04 | 出版單位: 臺灣澎湖地方法院檢察署 | 作者資訊: 郭珍妮 | 王鑫健 | 吳巡龍 | 何采蓉 | 林濬程 | 陳嬿晴 | 魏慧美 | 趙守仁 | 洪清貴 | 蔡國雄 | 鄭文乾 | ISBN: 9789860449259 | 語言: 中文 | 適用對象: 成人（學術性） | 主題分類: 法務 | 書籍介紹: 復興航空七二三澎湖空難事故檢察機關相驗實錄 | 授權資訊: 聯絡處室：澎湖縣馬公市西文里西文澳309號;姓名：魏慧美;電話：06-9211699#515;地址：澎湖縣馬公市西文里西文澳309號

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臺灣澎湖地方檢察署會計月報

資料集識別碼: 18226 | 詮釋資料更新時間: 2025-05-05 16:20:38 | 品質檢測: 金 | 檔案格式: ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;ZIP;... | 編碼格式: UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-8;UTF-... | 提供機關: 臺灣高等檢察署 | 服務分類: 公共資訊 | 資料集描述: 臺灣澎湖地方檢察署會計月報(按月)

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玄門醫聖

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112年度ESRI ArcGIS地理資訊應用軟體大量授權暨教育訓練案

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113年第四次電腦軟體共同供應契約採購-套裝軟體

標案案號: 1130204 | 標的分類: 2_財物類 | 得標廠商名稱1: 國眾電腦股份有限公司 | 招標機關: 數位發展部數位產業署 | 決標日期: 20241107

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壓印用模仁之製程與結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224078 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡宏營 \| 吳志宏 \| 程智勇 @ 技術司專利資料集
壓印用模仁之製程與結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7309515 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡宏營吳志宏程智勇 @ 技術司專利資料集

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奈米壓印之模仁結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 219613 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 蔡宏營 \| 吳志宏 \| 程智勇 @ 技術司專利資料集
奈米顆粒與微奈米結構結合之製作方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I286600 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 96 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 謝丞聿劉丙寅吳志宏程智勇蔡宏營張延瑜丁嘉仁 @ 技術司專利資料集

奈米壓印之模仁結構

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奈米顆粒與微奈米結構結合之製作方法與裝置

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多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,904,736 \| 專利期間起: 100/03/08 \| 專利期間訖: 119/01/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 游逸平 \| 李政崑 \| 莊國煜 \| 吳宗憲 @ 技術司專利資料集
互動式顯示系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,916,129 \| 專利期間起: 100/03/29 \| 專利期間訖: 118/03/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資訊中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 林盈孜 \| 蕭詠今 \| 陳右凱 \| 李森 \| 楊博智 @ 技術司專利資料集
多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7904736 \| 專利期間起: 100/03/08 \| 專利期間訖: 119/01/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 游逸平 \| 李政崑 \| 莊國煜 \| 吳宗憲 @ 技術司專利資料集
互動式顯示系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7916129 \| 專利期間起: 100/03/29 \| 專利期間訖: 118/03/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資訊中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 林盈孜 \| 蕭詠今 \| 陳右凱 \| 李森 \| 楊博智 @ 技術司專利資料集
靜電放電防護電路	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,692,907 \| 專利期間起: 99/04/06 \| 專利期間訖: 117/03/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳世宏 \| 柯明道 @ 技術司專利資料集
壓電驅動光學鏡頭	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,511,904 \| 專利期間起: 98/03/31 \| 專利期間訖: 116/05/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 南部產業關鍵技術計畫 \| 專利發明人: 胡朝彰 \| 蘇漢威 \| 沈聖智 @ 技術司專利資料集
氫甲醯化製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,683,219 \| 專利期間起: 99/03/23 \| 專利期間訖: 118/03/22 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 南部產業關鍵技術計畫 \| 專利發明人: 薛茂霖 \| 楊浩熏 \| 時國誠 \| 蘇再添 @ 技術司專利資料集
停車管理系統及裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200710159782.3 \| 專利期間起: 100/03/16 \| 專利期間訖: 116/12/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 郭倫嘉 \| 吳忠郼 \| 沈仲九 \| 黃士一 @ 技術司專利資料集

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主動矩陣有機發光二極體AMOLED之畫素結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6753655 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 施俊任 \| 陳尚立 \| 陳建儒
形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6737303 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆 \| 周維揚 \| 許財源 \| 王右武 \| 何家充 \| 廖奇璋
薄膜電晶體和發光二極體之有機整合元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189563 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆 \| 王右武 \| 趙慶勳 \| 李正中 \| 許財源
具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200395 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲
具低寫入電流之磁性隨機存取記憶體	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6642595 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲
液柱衝擊式液體佈著方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188234 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 陳仲竹 \| 鍾震桂 \| 陳世輝
液柱衝擊式液體佈著方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6663214 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 陳仲竹 \| 鍾震桂 \| 陳世輝
積體化流體元件及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 189552 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 鍾震桂 \| 林俊仁
電磁驅動光開關及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 191670 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 盧慧娟 \| 李新立 \| 張文陽 \| 李政鴻
應用於紅外線成像器與感測器之懸浮微結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206522 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 歐政隆 \| 李宗昇
可撓性之光電傳輸匯流排	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206592 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 沈里正 \| 陳有志 \| 張恕銘 \| 柯志祥
N型奈米碳管元件之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220269 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王宏祥 \| 魏拯華 \| 高明哲
形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 190648 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張鈞傑 \| 陳志強 \| 莊景桑
光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 191701 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡柏豪 \| 邱景宏 \| 顏凱翔 \| 劉文俊 \| 李裕文
埋藏式電容結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 192752 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 卓威明 \| 魏培森 \| 翁卿亮 \| 吳俊昆 \| 陳昌昇

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