噴墨頭晶片結構及其製造方法
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文噴墨頭晶片結構及其製造方法的核准國家是美國, 執行單位是工研院電光所, 產出年度是98, 專利性質是發明, 計畫名稱是電子與光電領域環境建構計畫, 專利發明人是劉建宏 ,劉健群 ,黃啟明 ,邱嘉政 ,陳俊融 ,, 證書號碼是7527360.

序號5786
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文噴墨頭晶片結構及其製造方法
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人劉建宏 ,劉健群 ,黃啟明 ,邱嘉政 ,陳俊融 ,
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7527360
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註20101051-Joanne
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

5786

產出年度

98

領域別

(空)

專利名稱-中文

噴墨頭晶片結構及其製造方法

執行單位

工研院電光所

產出單位

(空)

計畫名稱

電子與光電領域環境建構計畫

專利發明人

劉建宏 ,劉健群 ,黃啟明 ,邱嘉政 ,陳俊融 ,

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

7527360

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

20101051-Joanne

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 噴墨頭晶片結構及其製造方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號3610
產出年度96
領域別(空)
專利名稱-中文噴墨頭晶片結構及其製造方法
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人劉建宏 劉健群 黃啟明 邱嘉政 陳俊融
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7134187
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。_x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 3610
產出年度: 96
領域別: (空)
專利名稱-中文: 噴墨頭晶片結構及其製造方法
執行單位: 工研院電光所
產出單位: (空)
計畫名稱: 電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人: 劉建宏 劉健群 黃啟明 邱嘉政 陳俊融
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 7134187
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。_x000D_
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
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參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 噴墨頭晶片結構及其製造方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號1475
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文一種微氣泡之噴墨頭晶片製程方法
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
專利發明人劉建宏、劉健群、黃啟明、邱嘉政、陳俊融
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I228269
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
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備註原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 1475
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 一種微氣泡之噴墨頭晶片製程方法
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫
專利發明人: 劉建宏、劉健群、黃啟明、邱嘉政、陳俊融
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I228269
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
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備註: 原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形: (空)

# 噴墨頭晶片結構及其製造方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號4299
產出年度97
領域別(空)
專利名稱-中文一種微氣泡之噴墨頭晶片製程方法
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人劉建宏 劉健群 黃啟明 邱嘉政 陳俊融
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL200310116901.9
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。 A Structure of Inkjet-Head Chip And Method for Making The Same are disclosed. For decreasing a thin insulator layer to lower working power of Inkjet-Head Chip, separately manufacture a passivation layer and a 2nd conductive layer. The passivation layer and the 2nd conductive layer have to be formed with different materials. The ways to define the passivation layer and the 2nd conductive layer provide high selectivity and prevent overetch and damage of Structure of Inkjet-Head Chip in the step of defining.
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-59117812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
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備註0
特殊情形(空)
序號: 4299
產出年度: 97
領域別: (空)
專利名稱-中文: 一種微氣泡之噴墨頭晶片製程方法
執行單位: 工研院電光所
產出單位: (空)
計畫名稱: 電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人: 劉建宏 劉健群 黃啟明 邱嘉政 陳俊融
核准國家: 中國大陸
獲證日期: (空)
證書號碼: ZL200310116901.9
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。 A Structure of Inkjet-Head Chip And Method for Making The Same are disclosed. For decreasing a thin insulator layer to lower working power of Inkjet-Head Chip, separately manufacture a passivation layer and a 2nd conductive layer. The passivation layer and the 2nd conductive layer have to be formed with different materials. The ways to define the passivation layer and the 2nd conductive layer provide high selectivity and prevent overetch and damage of Structure of Inkjet-Head Chip in the step of defining.
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-59117812
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備註: 0
特殊情形: (空)

# 噴墨頭晶片結構及其製造方法 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號6999
產出年度99
領域別電資通光
專利名稱-中文噴墨頭芯片結構
執行單位工研院電光所
產出單位(空)
計畫名稱電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人劉建宏 ,劉健群 ,黃啟明 ,邱嘉政 ,陳俊融
核准國家中國大陸
獲證日期99/05/10
證書號碼ZL200810002743.7
專利期間起99/03/17
專利期間訖112/11/26
專利性質發明
技術摘要-中文"一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917431
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備註(空)
特殊情形(空)
序號: 6999
產出年度: 99
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 噴墨頭芯片結構
執行單位: 工研院電光所
產出單位: (空)
計畫名稱: 電子與光電領域環境建構計畫
專利發明人: 劉建宏 ,劉健群 ,黃啟明 ,邱嘉政 ,陳俊融
核准國家: 中國大陸
獲證日期: 99/05/10
證書號碼: ZL200810002743.7
專利期間起: 99/03/17
專利期間訖: 112/11/26
專利性質: 發明
技術摘要-中文: "一種噴墨頭晶片結構及其製造方法，在製作薄層際絕緣層以降低產生氣泡的功率之所需下，分次製作層際絕緣層上方的覆蓋保護層與第二導電層，利用不同定義方式分別定義出覆蓋保護層與第二導電層，且兩者係選擇不同的材料來形成，同時其各自的定義方式對於所定義的覆蓋保護層與第二導電層具有單一選擇性(with high selectivity)，不會在定義過程中傷害到其他的部分或是產生過蝕(overetch)的情形。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917431
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備註: (空)
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# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號11993
產出年度102
領域別電資通光
專利名稱-中文揚聲器單體結構
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人陳明道 ,劉昌和 ,
核准國家中國大陸
獲證日期102/03/11
證書號碼ZL200810211084.8
專利期間起102/01/23
專利期間訖117/08/19
專利性質發明
技術摘要-中文一種具備輕、薄、可撓曲等特性的音腔結構，運用在揚聲器單體結構上，其為在一音腔基材上設計相當的支撐體組成。而此支撐體的製程可為製作於音腔基材上、或者製作於振膜電極上，而支撐體可以採取與音腔電極或振膜電極有黏著或不黏著的兩種設計方式，或者先行製作支撐體完成後再置入振膜電極與音腔基材間。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 11993
產出年度: 102
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 揚聲器單體結構
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 ,
核准國家: 中國大陸
獲證日期: 102/03/11
證書號碼: ZL200810211084.8
專利期間起: 102/01/23
專利期間訖: 117/08/19
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種具備輕、薄、可撓曲等特性的音腔結構，運用在揚聲器單體結構上，其為在一音腔基材上設計相當的支撐體組成。而此支撐體的製程可為製作於音腔基材上、或者製作於振膜電極上，而支撐體可以採取與音腔電極或振膜電極有黏著或不黏著的兩種設計方式，或者先行製作支撐體完成後再置入振膜電極與音腔基材間。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917812
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號11997
產出年度102
領域別電資通光
專利名稱-中文晶圓級模封接合結構及其製造方法
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民
核准國家美國
獲證日期102/03/27
證書號碼8,384,215
專利期間起102/02/26
專利期間訖120/06/30
專利性質發明
技術摘要-中文一種晶圓級的模封接合結構，在多個實施例其中的一個結構中，包含至少一上晶片與一下晶片以及置於其間的黏著材料。上晶片包含晶背、晶面和多個晶側，晶面上有多個電極。下晶片包含晶背及晶面，其上面分別有多個晶背凸塊和晶面凸塊。下晶片中包含多個貫穿電極，分別電性導通上述晶背凸塊和晶面凸塊。黏著材料包含高分子膠材，在一實施例中包含例如多個導電顆粒，或更包含非導電顆粒，以達成多個電極和上述晶背凸塊的電性導通，並同時完全包覆上晶片之晶側。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 11997
產出年度: 102
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 晶圓級模封接合結構及其製造方法
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民
核准國家: 美國
獲證日期: 102/03/27
證書號碼: 8,384,215
專利期間起: 102/02/26
專利期間訖: 120/06/30
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種晶圓級的模封接合結構，在多個實施例其中的一個結構中，包含至少一上晶片與一下晶片以及置於其間的黏著材料。上晶片包含晶背、晶面和多個晶側，晶面上有多個電極。下晶片包含晶背及晶面，其上面分別有多個晶背凸塊和晶面凸塊。下晶片中包含多個貫穿電極，分別電性導通上述晶背凸塊和晶面凸塊。黏著材料包含高分子膠材，在一實施例中包含例如多個導電顆粒，或更包含非導電顆粒，以達成多個電極和上述晶背凸塊的電性導通，並同時完全包覆上晶片之晶側。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917812
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號11999
產出年度102
領域別電資通光
專利名稱-中文感測裝置及其掃描驅動方法
執行單位工研院南分院
產出單位工研院南分院
計畫名稱軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人沈煜棠 ,葉紹興
核准國家美國
獲證日期102/05/27
證書號碼8,416,213
專利期間起102/04/09
專利期間訖120/03/17
專利性質發明
技術摘要-中文一種感測裝置及其掃描驅動方法。感測裝置包括第一電極、第二電極、感測元件陣列、第一電極掃描驅動電路、第二電極掃描驅動電路及控制電路。感測元件陣列係位於第一電極與第二電極之間，並於被施力觸摸後輸出至少一第一感測電壓。第一電極掃描驅動電路用以依序掃描驅動第一電極，其中，被驅動之第一電極被設定為高準位輸出狀態，而未被驅動之第一電極被設定為低準位輸出狀態或接地狀態。第二電極掃描驅動電路用以依序掃描驅動第二電極，其中，被驅動之第二電極呈現為高阻抗輸入狀態，而未被驅動之第二電極被設定為低準位輸出狀態或接地狀態。控制電路用以控制第一電極掃描驅動電路及第二電極掃描驅動電路。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 11999
產出年度: 102
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 感測裝置及其掃描驅動方法
執行單位: 工研院南分院
產出單位: 工研院南分院
計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興
核准國家: 美國
獲證日期: 102/05/27
證書號碼: 8,416,213
專利期間起: 102/04/09
專利期間訖: 120/03/17
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種感測裝置及其掃描驅動方法。感測裝置包括第一電極、第二電極、感測元件陣列、第一電極掃描驅動電路、第二電極掃描驅動電路及控制電路。感測元件陣列係位於第一電極與第二電極之間，並於被施力觸摸後輸出至少一第一感測電壓。第一電極掃描驅動電路用以依序掃描驅動第一電極，其中，被驅動之第一電極被設定為高準位輸出狀態，而未被驅動之第一電極被設定為低準位輸出狀態或接地狀態。第二電極掃描驅動電路用以依序掃描驅動第二電極，其中，被驅動之第二電極呈現為高阻抗輸入狀態，而未被驅動之第二電極被設定為低準位輸出狀態或接地狀態。控制電路用以控制第一電極掃描驅動電路及第二電極掃描驅動電路。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917812
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號12001
產出年度102
領域別電資通光
專利名稱-中文揚聲器單體結構
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人劉昌和 ,陳明道
核准國家中國大陸
獲證日期102/05/14
證書號碼ZL200710184913.3
專利期間起102/03/20
專利期間訖116/10/28
專利性質發明
技術摘要-中文在此提出一種揚聲器單體結構，包括單一駐極體振膜結構、具多個開孔的單一金屬電極與邊框支撐體所組成。此駐極體振膜結構在一例子中是由駐極體振膜層、極薄金屬薄膜電極以及絕緣層堆疊而成，其中此極薄金屬薄膜電極位於駐極體振膜層以及絕緣層之間。在另一例子中，駐極體振膜結構是由駐極體振膜層與具有氧化導電材料的導電電極層所組成。而邊框支撐體位於駐極體振膜結構與金屬電極之間，形成用以作為駐極體振膜結構振動之空間，以產生聲音。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 12001
產出年度: 102
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 揚聲器單體結構
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人: 劉昌和 ,陳明道
核准國家: 中國大陸
獲證日期: 102/05/14
證書號碼: ZL200710184913.3
專利期間起: 102/03/20
專利期間訖: 116/10/28
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 在此提出一種揚聲器單體結構，包括單一駐極體振膜結構、具多個開孔的單一金屬電極與邊框支撐體所組成。此駐極體振膜結構在一例子中是由駐極體振膜層、極薄金屬薄膜電極以及絕緣層堆疊而成，其中此極薄金屬薄膜電極位於駐極體振膜層以及絕緣層之間。在另一例子中，駐極體振膜結構是由駐極體振膜層與具有氧化導電材料的導電電極層所組成。而邊框支撐體位於駐極體振膜結構與金屬電極之間，形成用以作為駐極體振膜結構振動之空間，以產生聲音。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917812
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號12009
產出年度102
領域別電資通光
專利名稱-中文平面揚聲器單體與揚聲器裝置
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人劉昌和 ,陳明道
核准國家中國大陸
獲證日期102/05/27
證書號碼ZL200910202828.4
專利期間起102/04/03
專利期間訖118/05/25
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種具高可靠度平面揚聲器單體與揚聲器裝置，是利用振膜的導電電極可以具有阻隔水氣的特性，將其置於平面揚聲器單體的最外層來達成提升平面揚聲器單體的可靠度。亦可於平面揚聲器單體外側加上對水氣阻隔效果佳的保護層，用以進一步提升平面揚聲器單體的可靠度及使用壽命。本平面揚聲器單體至少由一對具導電電極層的駐極體振膜、支撐體層及開孔電極結構等所組成。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 12009
產出年度: 102
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 平面揚聲器單體與揚聲器裝置
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人: 劉昌和 ,陳明道
核准國家: 中國大陸
獲證日期: 102/05/27
證書號碼: ZL200910202828.4
專利期間起: 102/04/03
專利期間訖: 118/05/25
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種具高可靠度平面揚聲器單體與揚聲器裝置，是利用振膜的導電電極可以具有阻隔水氣的特性，將其置於平面揚聲器單體的最外層來達成提升平面揚聲器單體的可靠度。亦可於平面揚聲器單體外側加上對水氣阻隔效果佳的保護層，用以進一步提升平面揚聲器單體的可靠度及使用壽命。本平面揚聲器單體至少由一對具導電電極層的駐極體振膜、支撐體層及開孔電極結構等所組成。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
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特殊情形: (空)

# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號12010
產出年度102
領域別電資通光
專利名稱-中文平面揚聲器單體與揚聲器裝置
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人劉昌和 ,陳明道
核准國家美國
獲證日期102/04/10
證書號碼8,391,520
專利期間起102/03/05
專利期間訖120/12/15
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種具高可靠度平面揚聲器單體與揚聲器裝置，是利用振膜的導電電極可以具有阻隔水氣的特性，將其置於平面揚聲器單體的最外層來達成提升平面揚聲器單體的可靠度。亦可於平面揚聲器單體外側加上對水氣阻隔效果佳的保護層，用以進一步提升平面揚聲器單體的可靠度及使用壽命。本平面揚聲器單體至少由一對具導電電極層的駐極體振膜、支撐體層及開孔電極結構等所組成。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 12010
產出年度: 102
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 平面揚聲器單體與揚聲器裝置
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人: 劉昌和 ,陳明道
核准國家: 美國
獲證日期: 102/04/10
證書號碼: 8,391,520
專利期間起: 102/03/05
專利期間訖: 120/12/15
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種具高可靠度平面揚聲器單體與揚聲器裝置，是利用振膜的導電電極可以具有阻隔水氣的特性，將其置於平面揚聲器單體的最外層來達成提升平面揚聲器單體的可靠度。亦可於平面揚聲器單體外側加上對水氣阻隔效果佳的保護層，用以進一步提升平面揚聲器單體的可靠度及使用壽命。本平面揚聲器單體至少由一對具導電電極層的駐極體振膜、支撐體層及開孔電極結構等所組成。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917812
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# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號12021
產出年度102
領域別電資通光
專利名稱-中文照明裝置
執行單位工研院電光所
產出單位工研院電光所
計畫名稱軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人黃承揚 ,許詔開
核准國家中華民國
獲證日期102/07/30
證書號碼I402456
專利期間起102/07/21
專利期間訖119/03/16
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種照明裝置，包括一連接盤、一軟性照明元件、複數個懸臂以及一傳動模組。複數個懸臂呈放射狀排列，其中每一懸臂之一端以可旋轉的方式設置於連接盤中，另一端則與軟性照明元件連接，傳動模組與懸臂連接，並趨使懸臂旋轉以使軟性照明元件變形。或者是，一距離形成於軟性照明元件以及連接盤之間，並藉由改變此距離而使軟性照明元件變形。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 12021
產出年度: 102
領域別: 電資通光
專利名稱-中文: 照明裝置
執行單位: 工研院電光所
產出單位: 工研院電光所
計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫
專利發明人: 黃承揚 ,許詔開
核准國家: 中華民國
獲證日期: 102/07/30
證書號碼: I402456
專利期間起: 102/07/21
專利期間訖: 119/03/16
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種照明裝置，包括一連接盤、一軟性照明元件、複數個懸臂以及一傳動模組。複數個懸臂呈放射狀排列，其中每一懸臂之一端以可旋轉的方式設置於連接盤中，另一端則與軟性照明元件連接，傳動模組與懸臂連接，並趨使懸臂旋轉以使軟性照明元件變形。或者是，一距離形成於軟性照明元件以及連接盤之間，並藉由改變此距離而使軟性照明元件變形。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露蘋
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917812
電子信箱: oralp@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03-5917812 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號15264
產出年度104
領域別民生福祉
專利名稱-中文Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same
執行單位工研院生醫所
產出單位工研院生醫所
計畫名稱智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫
專利發明人謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐
核准國家美國
獲證日期104/03/11
證書號碼8,940,333
專利期間起104/01/27
專利期間訖116/05/11
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種兩性團聯共聚高分子，包括一或多個親水性高分子、一或多個疏水性高分子以及一或多個兩性分子。本發明另提供一種包含此兩性團聯共聚高分子之奈米微粒及載體，用以傳輸脂溶性藥物、生長因子、基因或化妝品。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露頻
電話03-5917812
傳真03-5917812
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 15264
產出年度: 104
領域別: 民生福祉
專利名稱-中文: Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same
執行單位: 工研院生醫所
產出單位: 工研院生醫所
計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫
專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐
核准國家: 美國
獲證日期: 104/03/11
證書號碼: 8,940,333
專利期間起: 104/01/27
專利期間訖: 116/05/11
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種兩性團聯共聚高分子，包括一或多個親水性高分子、一或多個疏水性高分子以及一或多個兩性分子。本發明另提供一種包含此兩性團聯共聚高分子之奈米微粒及載體，用以傳輸脂溶性藥物、生長因子、基因或化妝品。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 李露頻
電話: 03-5917812
傳真: 03-5917812
電子信箱: oralp@itri.org.tw
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與噴墨頭晶片結構及其製造方法同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 | 證書號碼: 184318

低頻率漂移數位頻率調制裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 高炳文, 謝賜山, 紀秋棉 | 證書號碼: 195328

光學編碼器定位裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳 | 證書號碼: 193120

影像偵測元件與其與待測物件相對移動方向之垂直偏移度量測方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林俊育, 宋新岳, 羅偕益 | 證書號碼: 200068

熱釋電型感測器信號轉換電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 涂鐘範, 林耀明 | 證書號碼: 197821

顯示裝置之檢測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 田立芬, 葉峻毅, 楊福祥 | 證書號碼: 220689

寬頻掃頻電路架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山 | 證書號碼: 198444

光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

反射尺讀頭裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 高清芬, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 201496

物體表面三維形貌量測方法和系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 宋新岳, 田立芬 | 證書號碼: 200161

利用共軛光路量測二維位移量之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光 | 證書號碼: 6,744,520

紅外光轉換可見光之顯微影像裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王浩偉, 林耀明, 葉迎春 | 證書號碼: 6,687,051

可調光徑之光學捕捉裙

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林耀明, 王浩偉, 羅偕益 | 證書號碼: 6,667,838

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 | 證書號碼: 184318

低頻率漂移數位頻率調制裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 高炳文, 謝賜山, 紀秋棉 | 證書號碼: 195328

光學編碼器定位裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳 | 證書號碼: 193120

影像偵測元件與其與待測物件相對移動方向之垂直偏移度量測方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林俊育, 宋新岳, 羅偕益 | 證書號碼: 200068

熱釋電型感測器信號轉換電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 涂鐘範, 林耀明 | 證書號碼: 197821

顯示裝置之檢測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 田立芬, 葉峻毅, 楊福祥 | 證書號碼: 220689

寬頻掃頻電路架構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮, 謝賜山 | 證書號碼: 198444

光源產生裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林勝雄, 江敏華, 郭葉琮 | 證書號碼: 200164

相位差調整裝置及方法以及應用該相位差調整裝置之感測裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 楊景榮, 高清芬, 陳譽元 | 證書號碼: 206753

新型窄長平直薄型基材專用浸泡塗佈裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 葉清銘, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 206450

反射尺讀頭裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳, 高清芬, 陳燦林, 陳譽元 | 證書號碼: 201496

物體表面三維形貌量測方法和系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 宋新岳, 田立芬 | 證書號碼: 200161

利用共軛光路量測二維位移量之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張中柱, 高清芬, 李世光 | 證書號碼: 6,744,520

紅外光轉換可見光之顯微影像裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王浩偉, 林耀明, 葉迎春 | 證書號碼: 6,687,051

可調光徑之光學捕捉裙

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林耀明, 王浩偉, 羅偕益 | 證書號碼: 6,667,838

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