吞入式內視鏡的結構
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專利名稱-中文吞入式內視鏡的結構的核准國家是中國大陸, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是98, 專利性質是發明, 計畫名稱是機械與系統領域環境建構計畫, 專利發明人是古有彬 ,刑玉璽 ,, 證書號碼是ZL200610000405.0.

序號5838
產出年度98
領域別(空)
專利名稱-中文吞入式內視鏡的結構
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人古有彬 ,刑玉璽 ,
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL200610000405.0
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種吞入式內視鏡之結構,其係由一外殼體、一內視鏡本體及一旋轉驅動裝置構成,該內視鏡本體、旋轉驅動裝置均係設置於外殼體內,藉由該旋轉驅動裝置連結外殼體及內視鏡本體,且該旋轉驅動裝置可驅動內視鏡本體與外殼體作相對之旋轉運動,該內視鏡本體具有至少一擷取影像之觀察裝置、至少一可將藥物噴出內視鏡本體外之治療裝置,以及至少一用以接收並處理訊號並可驅動觀察裝置擷取影像或治療裝置噴出藥物之控制及訊號傳輸裝置。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員古有彬
電話04-23583993
傳真042-3584061
電子信箱rabbit@itri.org.tw
參考網址http://N/A
備註20101103-Joanne
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

5838

產出年度

98

領域別

(空)

專利名稱-中文

吞入式內視鏡的結構

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與系統領域環境建構計畫

專利發明人

古有彬 ,刑玉璽 ,

核准國家

中國大陸

獲證日期

(空)

證書號碼

ZL200610000405.0

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種吞入式內視鏡之結構,其係由一外殼體、一內視鏡本體及一旋轉驅動裝置構成,該內視鏡本體、旋轉驅動裝置均係設置於外殼體內,藉由該旋轉驅動裝置連結外殼體及內視鏡本體,且該旋轉驅動裝置可驅動內視鏡本體與外殼體作相對之旋轉運動,該內視鏡本體具有至少一擷取影像之觀察裝置、至少一可將藥物噴出內視鏡本體外之治療裝置,以及至少一用以接收並處理訊號並可驅動觀察裝置擷取影像或治療裝置噴出藥物之控制及訊號傳輸裝置。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

古有彬

電話

04-23583993

傳真

042-3584061

電子信箱

rabbit@itri.org.tw

參考網址

http://N/A

備註

20101103-Joanne

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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細胞分殖裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 古有彬 刑玉璽 陳婉昕 徐麗道 吳進發 | 證書號碼: I270362

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細胞分殖裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 古有彬 ,刑玉璽 ,陳婉昕 ,徐麗道 ,吳進發 , | 證書號碼: 7,727,760

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吞入式內視鏡之結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 中部精密機械創新研發社群推動三年計畫 | 專利發明人: 古有彬 刑玉璽 | 證書號碼: I284027

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細胞分殖裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 古有彬 刑玉璽 陳婉昕 徐麗道 吳進發 | 證書號碼: I270362

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細胞分殖裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 古有彬 ,刑玉璽 ,陳婉昕 ,徐麗道 ,吳進發 , | 證書號碼: 7,727,760

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吞入式內視鏡之結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 中部精密機械創新研發社群推動三年計畫 | 專利發明人: 古有彬 刑玉璽 | 證書號碼: I284027

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手搖輪脈波產生裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 多重直驅馬達旋轉軸技術計畫 | 專利發明人: 張萬坤 ,劉貴爐 ,林瑞寬 ,高永銘 ,梁世璋 ,江家昇 | 證書號碼: I322056

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復健機器人之教導式學習控制方法以及該復健機器人

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 多重直驅馬達旋轉軸技術計畫 | 專利發明人: 張萬坤 ,高永銘 ,梁世璋 ,孫金柱 ,蘇興川 , | 證書號碼: 7,812,560

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放電加工機節能放電電源

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院中分院區域研發計畫-新世代智能工廠控制系統發展計畫 | 專利發明人: 陳德訓,林瑞寬,麥朝創,郭晨暉 | 證書號碼: ZL200810188894.6

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線型馬達高速切削加工機技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: X/Y/Z行程:800×600×500mm X/Y/Z‧??? 最大進給速度:120m/min X/Y/Z‧??? 最大進給加速度:2G‧???主軸最高轉速:24,000rpm | 潛力預估: 近年來高速切削之相關技術蓬勃發展,其應用範圍已從早期侷限於航太業鋁合金切削擴充至汽車業、模具業、電子業,切削材料除傳統的鋁合金切削外,亦包括鑄鐵、合金鋼、複合材料與高硬度材料。高速切削具有高切削量、低...

@ 技術司可移轉技術資料集

次微米平台控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 二軸次微米運動控制系統: ‧ 二軸行程均≧100mm ‧ 載重≧15公斤 ‧ 最小可驅動單位≦0.05μm ‧ 重覆精度≦0.5μm | 潛力預估: 具備長行程與次微米精度等特性,可應用於微放電加工機、微銑床、微車床、超精密磨床等高精密的CNC加工機上。引領國內業者進入光電、通訊、3C產品與生醫領域等高附加價值的微細加工設備市場。

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視窗基底控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 硬體中斷即時性≦100μsec,預視≧200 blocks, ITRI人機元件, ITRI RT Wrapper,RTX即時應用程式,程式範例,使用手冊。 | 潛力預估: 目前產業界的競爭很激烈,大家所使用的產品元件幾乎在功能上沒有差異性。因此,要讓產品能得到更高的附加價值,只有將製程及使用的Know-how加入產品設計,並且減少維護成本,以增加獲利。故視窗基底應用技術...

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線切割機工件旋轉軸同步控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 旋轉軸同步控制應用技術加工,為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動,配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 | 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術,2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台,年產值達18億元以上,在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機,並且...

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放電加工創成控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案,應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求,使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。

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手搖輪脈波產生裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 多重直驅馬達旋轉軸技術計畫 | 專利發明人: 張萬坤 ,劉貴爐 ,林瑞寬 ,高永銘 ,梁世璋 ,江家昇 | 證書號碼: I322056

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復健機器人之教導式學習控制方法以及該復健機器人

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 多重直驅馬達旋轉軸技術計畫 | 專利發明人: 張萬坤 ,高永銘 ,梁世璋 ,孫金柱 ,蘇興川 , | 證書號碼: 7,812,560

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放電加工機節能放電電源

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院中分院區域研發計畫-新世代智能工廠控制系統發展計畫 | 專利發明人: 陳德訓,林瑞寬,麥朝創,郭晨暉 | 證書號碼: ZL200810188894.6

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線型馬達高速切削加工機技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: X/Y/Z行程:800×600×500mm X/Y/Z‧??? 最大進給速度:120m/min X/Y/Z‧??? 最大進給加速度:2G‧???主軸最高轉速:24,000rpm | 潛力預估: 近年來高速切削之相關技術蓬勃發展,其應用範圍已從早期侷限於航太業鋁合金切削擴充至汽車業、模具業、電子業,切削材料除傳統的鋁合金切削外,亦包括鑄鐵、合金鋼、複合材料與高硬度材料。高速切削具有高切削量、低...

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次微米平台控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 二軸次微米運動控制系統: ‧ 二軸行程均≧100mm ‧ 載重≧15公斤 ‧ 最小可驅動單位≦0.05μm ‧ 重覆精度≦0.5μm | 潛力預估: 具備長行程與次微米精度等特性,可應用於微放電加工機、微銑床、微車床、超精密磨床等高精密的CNC加工機上。引領國內業者進入光電、通訊、3C產品與生醫領域等高附加價值的微細加工設備市場。

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視窗基底控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 硬體中斷即時性≦100μsec,預視≧200 blocks, ITRI人機元件, ITRI RT Wrapper,RTX即時應用程式,程式範例,使用手冊。 | 潛力預估: 目前產業界的競爭很激烈,大家所使用的產品元件幾乎在功能上沒有差異性。因此,要讓產品能得到更高的附加價值,只有將製程及使用的Know-how加入產品設計,並且減少維護成本,以增加獲利。故視窗基底應用技術...

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線切割機工件旋轉軸同步控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 旋轉軸同步控制應用技術加工,為利用XYUV與旋轉軸同步控制移動,配合放電切削形成曲面無屑加工方式。 | 潛力預估: 協助國內WEDM廠商發展智慧型控制器與放電技術,2004年國產CNC 放電加工機產量將達900台,年產值達18億元以上,在市佔率方面逐年成長。本計畫開發具複合化與精度加工性能之線切割放電加工機,並且...

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放電加工創成控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 創成放電加工控制技術便提供3D微細放電加工一種技術解決方案,應用於奈米科技、光電通訊、生醫科技在微細加工零組件或模具的需求,使得整機單價可由80萬元提昇至250萬元。

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顯示器自動伽馬(GAMMA)校正系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 楊和興, 沈毓仁 | 證書號碼: 200771

一種全彩化發光二極體裝置及製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 彭遠清, 陳建志 | 證書號碼: 6730937

調整資料驅動器參考電壓之顯示器自動伽馬校正系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 陳明道, 楊和興 | 證書號碼: 190460

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 190469

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 6680755

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 3522705

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 190470

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 6778161

矽單晶液晶顯示器及製作方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖 | 證書號碼: 6721027

簡易式塊狀彈性體的製程方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維, 盧明, 林志榮 | 證書號碼: 6605525

蝕刻玻璃面板之裝置及方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳泰宏, 黃元璋 | 證書號碼: 6673195

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 184692

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 6714268

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 191581

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 6677189

顯示器自動伽馬(GAMMA)校正系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 楊和興, 沈毓仁 | 證書號碼: 200771

一種全彩化發光二極體裝置及製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 彭遠清, 陳建志 | 證書號碼: 6730937

調整資料驅動器參考電壓之顯示器自動伽馬校正系統及方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 陳明道, 楊和興 | 證書號碼: 190460

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 190469

可調變中心對稱之伽瑪電壓校正電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 6680755

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 3522705

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 190470

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 6778161

矽單晶液晶顯示器及製作方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖 | 證書號碼: 6721027

簡易式塊狀彈性體的製程方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維, 盧明, 林志榮 | 證書號碼: 6605525

蝕刻玻璃面板之裝置及方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳泰宏, 黃元璋 | 證書號碼: 6673195

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 184692

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 6714268

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 191581

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 6677189

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