光刻膠再生方法及其系統
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專利名稱-中文光刻膠再生方法及其系統的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL200610065829.5, 專利期間起是1999/9/15, 專利期間訖是115/03/22, 專利性質是發明, 執行單位是工研院綠能所, 產出年度是99, 計畫名稱是能源與環境領域環境建構計畫, 專利發明人是賴慶智 ,馮桂森 ,黃緯苓 ,楊炎勝 ,朱志弘 ,吳橞淂 ,鄧純禎 ,劉展睿 ,陳銘恩 ,陳志慧 ,.

序號	6481
產出年度	99
領域別	材料化工
專利名稱-中文	光刻膠再生方法及其系統
執行單位	工研院綠能所
產出單位	(空)
計畫名稱	能源與環境領域環境建構計畫
專利發明人	賴慶智 \| 馮桂森 \| 黃緯苓 \| 楊炎勝 \| 朱志弘 \| 吳橞淂 \| 鄧純禎 \| 劉展睿 \| 陳銘恩 \| 陳志慧
核准國家	中國大陸
獲證日期	1999/10/5
證書號碼	ZL200610065829.5
專利期間起	1999/9/15
專利期間訖	115/03/22
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係關於一種光阻再生製程及其系統，利用低溫濃縮抽離回收光阻溶液中的清洗溶劑，使其固含量達到原生光阻固含量以上，再經過濾裝置除去回收光阻中的粒狀物後，並添加光阻稀釋劑以調整回收光阻之固含量及黏度使膜厚預測值接近原生光阻，以獲得可再利用之再生光阻。經本發明之方法濃縮過後之再生光阻揮發性降低，有助於改善其塗佈於基板時四角偏厚之現象。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	賴慶智
電話	35918055
傳真	03-5820016
電子信箱	ching-chih_lai@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

6481

產出年度

領域別

材料化工

專利名稱-中文

光刻膠再生方法及其系統

執行單位

工研院綠能所

產出單位

(空)

計畫名稱

能源與環境領域環境建構計畫

專利發明人

賴慶智 | 馮桂森 | 黃緯苓 | 楊炎勝 | 朱志弘 | 吳橞淂 | 鄧純禎 | 劉展睿 | 陳銘恩 | 陳志慧

核准國家

中國大陸

獲證日期

1999/10/5

證書號碼

ZL200610065829.5

專利期間起

1999/9/15

專利期間訖

115/03/22

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係關於一種光阻再生製程及其系統，利用低溫濃縮抽離回收光阻溶液中的清洗溶劑，使其固含量達到原生光阻固含量以上，再經過濾裝置除去回收光阻中的粒狀物後，並添加光阻稀釋劑以調整回收光阻之固含量及黏度使膜厚預測值接近原生光阻，以獲得可再利用之再生光阻。經本發明之方法濃縮過後之再生光阻揮發性降低，有助於改善其塗佈於基板時四角偏厚之現象。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

賴慶智

電話

35918055

傳真

03-5820016

電子信箱

ching-chih_lai@itri.org.tw

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(空)

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光阻再生製程及其系統

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執行單位

產出單位

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