適用於功率放大器的靜電放電箝制電路
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專利名稱-中文適用於功率放大器的靜電放電箝制電路的核准國家是美國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是101, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院環境建構總計畫, 專利發明人是葉致廷,梁詠智,陳世宏, 證書號碼是8169761.

序號9968
產出年度101
領域別電資通光
專利名稱-中文適用於功率放大器的靜電放電箝制電路
執行單位工研院院本部
產出單位工研院院本部
計畫名稱工研院環境建構總計畫
專利發明人葉致廷,梁詠智,陳世宏
核准國家美國
獲證日期101/05/17
證書號碼8169761
專利期間起101/05/01
專利期間訖119/06/14
專利性質發明
技術摘要-中文一種適用於功率放大器的靜電放電箝制電路,包括第一軌線、第二軌線、第一電路、第二電路、靜電放電偵測單元、緩衝單元與靜電放電箝制單元。第一軌線耦接至功率放大器的輸出端。第一電路耦接至第一軌線。第二電路耦接至第一電路。靜電放電偵測單元耦接至第一電路與第二軌線。緩衝單元耦接至第二電路、第二軌線與靜電放電偵測單元。靜電放電箝制單元耦接至緩衝單元、第一軌線與第二軌線。藉此在正常操作模式下,可以有效地避免靜電放電箝制電路的漏電流所造成訊號損耗的問題。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員李露蘋
電話03-5917812
傳真03-5917431
電子信箱oralp@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

9968

產出年度

101

領域別

電資通光

專利名稱-中文

適用於功率放大器的靜電放電箝制電路

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院院本部

計畫名稱

工研院環境建構總計畫

專利發明人

葉致廷,梁詠智,陳世宏

核准國家

美國

獲證日期

101/05/17

證書號碼

8169761

專利期間起

101/05/01

專利期間訖

119/06/14

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種適用於功率放大器的靜電放電箝制電路,包括第一軌線、第二軌線、第一電路、第二電路、靜電放電偵測單元、緩衝單元與靜電放電箝制單元。第一軌線耦接至功率放大器的輸出端。第一電路耦接至第一軌線。第二電路耦接至第一電路。靜電放電偵測單元耦接至第一電路與第二軌線。緩衝單元耦接至第二電路、第二軌線與靜電放電偵測單元。靜電放電箝制單元耦接至緩衝單元、第一軌線與第二軌線。藉此在正常操作模式下,可以有效地避免靜電放電箝制電路的漏電流所造成訊號損耗的問題。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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適用於功率放大器的靜電放電箝制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 葉致廷 ,梁詠智 ,陳世宏 | 證書號碼: I424683

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適用於功率放大器的靜電放電箝制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 葉致廷 ,梁詠智 ,陳世宏 | 證書號碼: I424683

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靜電放電箝制電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 梁詠智,葉致廷,陳世宏 | 證書號碼: 8243403

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靜電放電箝制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 梁詠智 ,葉致廷 ,陳世宏 | 證書號碼: I379398

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靜電放電箝制電路

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 梁詠智 ,葉致廷 ,陳世宏 | 證書號碼: ZL200910147052.0

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靜電放電箝制電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 梁詠智,葉致廷,陳世宏 | 證書號碼: 8243403

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靜電放電箝制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 梁詠智 ,葉致廷 ,陳世宏 | 證書號碼: I379398

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靜電放電箝制電路

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院環境建構總計畫 | 專利發明人: 梁詠智 ,葉致廷 ,陳世宏 | 證書號碼: ZL200910147052.0

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揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , | 證書號碼: ZL200810211084.8

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晶圓級模封接合結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民 | 證書號碼: 8,384,215

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感測裝置及其掃描驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興 | 證書號碼: 8,416,213

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揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200710184913.3

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平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200910202828.4

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: 8,391,520

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照明裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 | 證書號碼: I402456

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Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院生醫所 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 | 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 | 證書號碼: 8,940,333

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揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陳明道 ,劉昌和 , | 證書號碼: ZL200810211084.8

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晶圓級模封接合結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 陸蘇財 ,莊敬業 ,林育民 | 證書號碼: 8,384,215

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

感測裝置及其掃描驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 沈煜棠 ,葉紹興 | 證書號碼: 8,416,213

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

揚聲器單體結構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200710184913.3

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: ZL200910202828.4

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平面揚聲器單體與揚聲器裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 劉昌和 ,陳明道 | 證書號碼: 8,391,520

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照明裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電光所 | 產出年度: 102 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 | 專利發明人: 黃承揚 ,許詔開 | 證書號碼: I402456

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院生醫所 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 | 專利發明人: 謝明發, 張學曾, 陳進富, 張原嘉, 甘霈, 林才祐 | 證書號碼: 8,940,333

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與適用於功率放大器的靜電放電箝制電路同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

3D堆疊封裝散熱模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷, 姜信騰 | 證書號碼: 6700783

應用奈米管增加半導體元件電容之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 崔秉鉞, 李正中 | 證書號碼: 6759305

改進之場發射型顯示器驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚 | 證書號碼: 6741039

氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪, 江松燦 | 證書號碼: 188211

形成薄膜電晶體於透明基板上之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 證書號碼: 6764887

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 187289

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 6773870

電流驅動元件主動陣列的畫素電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳建儒, 陳尚立, 施俊任 | 證書號碼: 197219

高密度資料讀寫器及其讀寫方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李裕文, 蔡晴翔, 吳清沂 | 證書號碼: 200381

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 206462

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 6806929

光電模組模封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 陳文彥, 范榮昌, 劉君愷 | 證書號碼: 220733

光電元件與光纖連接器之被動對位封裝結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 姜信騰, 劉君愷, 周意工 | 證書號碼: 6808323

一次成形之覆晶式閘球陣列半導體構裝與其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維, 盧威華, 呂芳俊 | 證書號碼: 190623

一應用半導體構裝治具的雙面組裝方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 呂芳俊, 盧思維, 樓百堯 | 證書號碼: 184711

3D堆疊封裝散熱模組

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷, 姜信騰 | 證書號碼: 6700783

應用奈米管增加半導體元件電容之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 崔秉鉞, 李正中 | 證書號碼: 6759305

改進之場發射型顯示器驅動方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚 | 證書號碼: 6741039

氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪, 江松燦 | 證書號碼: 188211

形成薄膜電晶體於透明基板上之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東 | 證書號碼: 6764887

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 187289

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋 | 證書號碼: 6773870

電流驅動元件主動陣列的畫素電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳建儒, 陳尚立, 施俊任 | 證書號碼: 197219

高密度資料讀寫器及其讀寫方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李裕文, 蔡晴翔, 吳清沂 | 證書號碼: 200381

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 206462

半穿透反射式液晶顯示器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸, 沈毓仁 | 證書號碼: 6806929

光電模組模封裝

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 陳文彥, 范榮昌, 劉君愷 | 證書號碼: 220733

光電元件與光纖連接器之被動對位封裝結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 姜信騰, 劉君愷, 周意工 | 證書號碼: 6808323

一次成形之覆晶式閘球陣列半導體構裝與其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維, 盧威華, 呂芳俊 | 證書號碼: 190623

一應用半導體構裝治具的雙面組裝方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 呂芳俊, 盧思維, 樓百堯 | 證書號碼: 184711

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