晶片之疊對量測標記
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文晶片之疊對量測標記的核准國家是南韓, 證書號碼是10-1257961, 專利期間起是102/04/18, 專利期間訖是114/10/10, 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是102, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是顧逸霞 ,龐秀蘭 ,史密斯奈吉 ,.

序號	11394
產出年度	102
領域別	創新前瞻
專利名稱-中文	晶片之疊對量測標記
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院院本部
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	顧逸霞 \| 龐秀蘭 \| 史密斯奈吉
核准國家	南韓
獲證日期	102/05/23
證書號碼	10-1257961
專利期間起	102/04/18
專利期間訖	114/10/10
專利性質	發明
技術摘要-中文	使用於半導體裝置製造之疊對量測方法中，一疊對對準記號有助於對準及/或半導體晶圓結構上的兩層之對準誤差量測，或同一層的不同曝光之對準誤差量測。本發明係關於一疊對量測記號，其係足夠小以致可置於半導體裝置之主動區域內，並結合適當量測方法，其結果可改善量測精確性。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917812
傳真	03-5917431
電子信箱	noralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

11394

產出年度

102

領域別

創新前瞻

專利名稱-中文

晶片之疊對量測標記

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院院本部

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

顧逸霞 | 龐秀蘭 | 史密斯奈吉

核准國家

南韓

獲證日期

102/05/23

證書號碼

10-1257961

專利期間起

102/04/18

專利期間訖

114/10/10

專利性質

發明

技術摘要-中文

使用於半導體裝置製造之疊對量測方法中，一疊對對準記號有助於對準及/或半導體晶圓結構上的兩層之對準誤差量測，或同一層的不同曝光之對準誤差量測。本發明係關於一疊對量測記號，其係足夠小以致可置於半導體裝置之主動區域內，並結合適當量測方法，其結果可改善量測精確性。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917812

傳真

03-5917431

電子信箱

noralp@itri.org.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

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晶片之疊對量測標記	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I248154 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 95 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 顧逸霞 \| 龐秀蘭 \| 史密斯 \| 奈吉 @ 技術司專利資料集
晶片之疊對量測標記	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,379,184 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 顧逸霞龐秀蘭史密斯奈吉 @ 技術司專利資料集
晶片之疊對量測標記	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7379184 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 顧逸霞龐秀蘭史密斯奈吉 @ 技術司專利資料集

晶片之疊對量測標記

內置式晶圓微影疊對圖樣設計	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I271811 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 96 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 顧逸霞龐秀蘭史密斯奈吉 @ 技術司專利資料集
依據標記影像對稱性來決定疊對誤差的方法與系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I286196 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 96 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 顧逸霞龐秀蘭史密斯奈吉 @ 技術司專利資料集
依據標記影像對稱性來決定疊對誤差的方法與系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,477,396 \| 專利期間起: 98/01/13 \| 專利期間訖: 116/02/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 顧逸霞 \| 龐秀蘭 \| 史密斯奈吉 @ 技術司專利資料集
疊對量測標記及其疊對誤差之量測方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I361266 \| 專利期間起: 101/04/01 \| 專利期間訖: 117/05/26 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 龐秀蘭 \| 顧逸霞 \| 史密斯奈吉 @ 技術司專利資料集
依據標記影像對稱性來決定疊對誤差的方法與系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7477396 \| 專利期間起: 1998/1/13 \| 專利期間訖: 116/02/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 顧逸霞 \| 龐秀蘭 \| 史密斯奈吉 @ 技術司專利資料集

揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810211084.8 \| 專利期間起: 102/01/23 \| 專利期間訖: 117/08/19 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陳明道 \| 劉昌和 @ 技術司專利資料集
晶圓級模封接合結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,384,215 \| 專利期間起: 102/02/26 \| 專利期間訖: 120/06/30 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 陸蘇財 \| 莊敬業 \| 林育民 @ 技術司專利資料集
感測裝置及其掃描驅動方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,416,213 \| 專利期間起: 102/04/09 \| 專利期間訖: 120/03/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 沈煜棠 \| 葉紹興 @ 技術司專利資料集
揚聲器單體結構	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200710184913.3 \| 專利期間起: 102/03/20 \| 專利期間訖: 116/10/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 \| 陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910202828.4 \| 專利期間起: 102/04/03 \| 專利期間訖: 118/05/25 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 \| 陳明道 @ 技術司專利資料集
平面揚聲器單體與揚聲器裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,391,520 \| 專利期間起: 102/03/05 \| 專利期間訖: 120/12/15 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 劉昌和 \| 陳明道 @ 技術司專利資料集
照明裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I402456 \| 專利期間起: 102/07/21 \| 專利期間訖: 119/03/16 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 軟性電子模組與應用技術發展計畫 \| 專利發明人: 黃承揚 \| 許詔開 @ 技術司專利資料集
Amphiphilic block copolymers and nanoparticles comprising the same	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 8,940,333 \| 專利期間起: 104/01/27 \| 專利期間訖: 116/05/11 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院生醫所 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 智慧標靶藥物傳輸技術及應用開發計畫 \| 專利發明人: 謝明發 \| 張學曾 \| 陳進富 \| 張原嘉 \| 甘霈 \| 林才祐 @ 技術司專利資料集

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 223259 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲 \| 潘宗銘 \| 陳永祥
磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6791887 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 \| 專利發明人: 洪建中 \| 高明哲 \| 潘宗銘 \| 陳永祥
具有支撐柱結構閘極板之場發射顯示器及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220263 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李鈞道 \| 蕭名君 \| 林偉義 \| 張悠揚 \| 王右武
陣列式電感	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 240666 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 黃肇達 \| 李明林
多重厚度絕緣層製作方法及結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 222134 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 陳邦旭 \| 許博欽 \| 劉致為
多層式高阻抗平面微型結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 218573 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 黃肇達 \| 范榮昌 \| 李明林
微型熱電裝置及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201640 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 劉君愷
薄膜電晶體及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 221340 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳振銘 \| 吳永富
氣密室封裝基台與架構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200699 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 李宗昇 \| 利鴻禔
智慧型空調系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206662 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 李宗昇 \| 曾國華 \| 陳龍德 \| 游金銘
智慧型空調系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6715689 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 李宗昇 \| 曾國華 \| 陳龍德 \| 游金銘
整合影像顯示之體溫計	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200916 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 李宗昇 \| 陳龍德 \| 曾國華 \| 吳家興
電鍍金屬導線製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206682 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃俊堯 \| 陳政忠 \| 吳永富 \| 蔡政宏 \| 喬傳國 \| 朱芳村
場發射顯示器之支撐柱挾持結構與方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 202592 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林偉義 \| 蕭名君 \| 陳盈憲 \| 曾企民 \| 蕭雲嬌
利用TIO2層製作擴散式反射板	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206687 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋 \| 陳明道 \| 黃良瑩 \| 翁逸君 \| 吳耀庭 \| 蔡明郎 \| 溫俊祥 \| 林顯光

晶片之疊對量測標記 - 技術司專利資料集 @ 經濟部

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執行單位

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