專利名稱-中文數位仿圖紋建築陶瓷的核准國家是中華民國, 證書號碼是M478705, 專利期間起是112/12/19, 專利期間訖是1.一種數位仿圖紋建築陶瓷，其特徵在於：所述數位仿圖紋建築陶瓷(10)，其包含有一基材體(1)，及一設置於該基材體(1)頂端表面、能顯現出紋路與色彩的圖紋層(2)；所述圖紋層是包括：一以噴印方式設置於該基材體(1)頂端表面的底釉層(21)；一以噴印方式設置於該底釉層(21)頂端表面、並具有各種不同裝..., 專利性質是新型, 執行單位是印研中心, 產出年度是103, 計畫名稱是圖文色彩頻譜複製印刷技術開發三年計畫, 專利發明人是張世錩、闕家彬、翁鴻銘.
| 序號 | 15168 |
| 產出年度 | 103 |
| 領域別 | 民生福祉 |
| 專利名稱-中文 | 數位仿圖紋建築陶瓷 |
| 執行單位 | 印研中心 |
| 產出單位 | 印研中心 |
| 計畫名稱 | 圖文色彩頻譜複製印刷技術開發三年計畫 |
| 專利發明人 | 張世錩 | 闕家彬 | 翁鴻銘 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | 103/05/21 |
| 證書號碼 | M478705 |
| 專利期間起 | 112/12/19 |
| 專利期間訖 | 1.一種數位仿圖紋建築陶瓷，其特徵在於：所述數位仿圖紋建築陶瓷(10)，其包含有一基材體(1)，及一設置於該基材體(1)頂端表面、能顯現出紋路與色彩的圖紋層(2)；所述圖紋層是包括：一以噴印方式設置於該基材體(1)頂端表面的底釉層(21)；一以噴印方式設置於該底釉層(21)頂端表面、並具有各種不同裝飾圖紋的噴釉層(22)；以及一以噴印方式設置於該噴釉層(22)頂端表面的抗刮層(23)。 2.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述基材體(1)，其是為下列之一：陶板材體、磁磚材體。 3.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述噴釉層(22)的裝飾圖紋能是為下列之一：竹紋、木紋、大理石紋、花崗石紋。 |
| 專利性質 | 新型 |
| 技術摘要-中文 | 1.一種數位仿圖紋建築陶瓷，其特徵在於：所述數位仿圖紋建築陶瓷(10)，其包含有一基材體(1)，及一設置於該基材體(1)頂端表面、能顯現出紋路與色彩的圖紋層(2)；所述圖紋層是包括：一以噴印方式設置於該基材體(1)頂端表面的底釉層(21)；一以噴印方式設置於該底釉層(21)頂端表面、並具有各種不同裝飾圖紋的噴釉層(22)；以及一以噴印方式設置於該噴釉層(22)頂端表面的抗刮層(23)。 2.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述基材體(1)，其是為下列之一：陶板材體、磁磚材體。 3.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述噴釉層(22)的裝飾圖紋能是為下列之一：竹紋、木紋、大理石紋、花崗石紋。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 翁鴻銘 |
| 電話 | 02-29990016 |
| 傳真 | 02-29990018 |
| 電子信箱 | joshweng@ptri.org.tw |
| 參考網址 | (空) |
| 備註 | (空) |
| 特殊情形 | (空) |
序號15168 |
產出年度103 |
領域別民生福祉 |
專利名稱-中文數位仿圖紋建築陶瓷 |
執行單位印研中心 |
產出單位印研中心 |
計畫名稱圖文色彩頻譜複製印刷技術開發三年計畫 |
專利發明人張世錩 | 闕家彬 | 翁鴻銘 |
核准國家中華民國 |
獲證日期103/05/21 |
證書號碼M478705 |
專利期間起112/12/19 |
專利期間訖1.一種數位仿圖紋建築陶瓷，其特徵在於：所述數位仿圖紋建築陶瓷(10)，其包含有一基材體(1)，及一設置於該基材體(1)頂端表面、能顯現出紋路與色彩的圖紋層(2)；所述圖紋層是包括：一以噴印方式設置於該基材體(1)頂端表面的底釉層(21)；一以噴印方式設置於該底釉層(21)頂端表面、並具有各種不同裝飾圖紋的噴釉層(22)；以及一以噴印方式設置於該噴釉層(22)頂端表面的抗刮層(23)。 2.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述基材體(1)，其是為下列之一：陶板材體、磁磚材體。 3.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述噴釉層(22)的裝飾圖紋能是為下列之一：竹紋、木紋、大理石紋、花崗石紋。 |
專利性質新型 |
技術摘要-中文1.一種數位仿圖紋建築陶瓷，其特徵在於：所述數位仿圖紋建築陶瓷(10)，其包含有一基材體(1)，及一設置於該基材體(1)頂端表面、能顯現出紋路與色彩的圖紋層(2)；所述圖紋層是包括：一以噴印方式設置於該基材體(1)頂端表面的底釉層(21)；一以噴印方式設置於該底釉層(21)頂端表面、並具有各種不同裝飾圖紋的噴釉層(22)；以及一以噴印方式設置於該噴釉層(22)頂端表面的抗刮層(23)。 2.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述基材體(1)，其是為下列之一：陶板材體、磁磚材體。 3.如請求項 1 所述的數位仿圖紋建築陶瓷，其中：所述噴釉層(22)的裝飾圖紋能是為下列之一：竹紋、木紋、大理石紋、花崗石紋。 |
技術摘要-英文(空) |
聯絡人員翁鴻銘 |
電話02-29990016 |
傳真02-29990018 |
電子信箱joshweng@ptri.org.tw |
參考網址(空) |
備註(空) |
特殊情形(空) |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: M478705 | 專利期間起: 112/12/19 | 專利期間訖: 1.一種數位仿圖紋建築陶瓷，其特徵在於：所述數位仿圖紋建築陶瓷(10)，其包含有一基材體(1)，及一設置於該基材體(1)頂端表面、能顯現出紋路與色彩的圖紋層(2)；所述圖紋層是包括：一以噴印方式設置於... | 專利性質: 新型 | 執行單位: 鞋技中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 張世錩 | 闕家彬 | 翁鴻銘 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: M478705 | 專利期間起: 112/12/19 | 專利期間訖: 1.一種數位仿圖紋建築陶瓷，其特徵在於：所述數位仿圖紋建築陶瓷(10)，其包含有一基材體(1)，及一設置於該基材體(1)頂端表面、能顯現出紋路與色彩的圖紋層(2)；所述圖紋層是包括：一以噴印方式設置於... | 專利性質: 新型 | 執行單位: 鞋技中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 傳統產業加值轉型推動計畫 | 專利發明人: 張世錩 | 闕家彬 | 翁鴻銘 @ 技術司專利資料集 |
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: M498779 | 專利期間起: 104/05/01 | 專利期間訖: 113/12/30 | 專利性質: 新型 | 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 遠距印刷跨媒體顯示模擬技術開發三年計畫 | 專利發明人: 張世錩 | 闕家彬 | 翁鴻銘 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: M498779 | 專利期間起: 104/05/01 | 專利期間訖: 113/12/30 | 專利性質: 新型 | 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 遠距印刷跨媒體顯示模擬技術開發三年計畫 | 專利發明人: 張世錩 | 闕家彬 | 翁鴻銘 @ 技術司專利資料集 |
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| 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 數位網路配色建構技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 作業系統/windows98、windows2000、windowsXP、使用者身份認証、系統啟用機制、系統回饋Time小於5min、線上即時記錄小於5sec | 潛力預估: 強化印刷產業配色作業之處理速度並可協助印刷產業提升產品附加價值及降低成本 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 數位網路配色建構技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 重金屬含量小於100ppm、濃度/4 color、耐摩擦測試/30～40、乳化程度/50±15%、表面乾燥速度/8～10小時、完全乾燥速度/18～20小時、 配方數大於500種 | 潛力預估: 可做為往後油墨製造上的有利參考，並提升印刷業環保油墨的使用，減少印刷產業造成的環境污染。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 印刷線數：400Line/inch； 印刷色數：6色(CMYKOG)；印墨墨膜：1-3μm；色差：△E＜2；網屏角度：6種角度 | 潛力預估: 可直接應用在精美畫冊和高級美術印刷品等方面，防止仿冒。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 軟體安裝需求：1.適用於IBM PC個人電腦。2.作業軟體：WINDOW 2000/XP。3. 記憶體：512MB以上。4.硬碟空間：30MB以上。軟體內容及功能：1.含程式碼及安裝檔。2.RGB格... | 潛力預估: 可應用於印刷、設計等影像相關產業。可將低解析度圖檔轉換為高解析圖檔，具有提高印刷品畫質品級之功能。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: FM網點：Highlight；AM網點：Midtone＆Shadow； GCR：0-7階 | 潛力預估: 可直接應用在精美畫冊和高級美術印刷品等方面，防止仿冒。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 金屬色印刷技術，是以金屬色為滿版底，再以分色技術將CMYK色塊已不同比例之色階進行印刷，再藉由多角度分光光譜儀進行資料庫之建立，印刷線數為200線，四色網點為AM網點 | 潛力預估: 未來可用於包裝彩盒及精美印刷 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 印研中心 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)套色對位控制標： CMYK； (2)輔助控制標/蠕印、雙影、解析度； (3)網格方框/套準度； (4)每色旋轉角度/3.75~6度 | 潛力預估: 印刷技術人員可根據控制標快速判斷偏移進行對位調整，將可提升印刷作業之效率，減少試印時紙張與油墨之耗損。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 印刷電腦配色調墨技術研發三年計劃 | 領域: | 技術規格: 印刷用墨精準度≧98﹪ | 潛力預估: 減少印刷業人力並減少殘墨存量與生產成本 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 數位網路配色建構技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 作業系統/windows98、windows2000、windowsXP、使用者身份認証、系統啟用機制、系統回饋Time小於5min、線上即時記錄小於5sec | 潛力預估: 強化印刷產業配色作業之處理速度並可協助印刷產業提升產品附加價值及降低成本 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 數位網路配色建構技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 重金屬含量小於100ppm、濃度/4 color、耐摩擦測試/30～40、乳化程度/50±15%、表面乾燥速度/8～10小時、完全乾燥速度/18～20小時、 配方數大於500種 | 潛力預估: 可做為往後油墨製造上的有利參考，並提升印刷業環保油墨的使用，減少印刷產業造成的環境污染。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 印刷線數：400Line/inch； 印刷色數：6色(CMYKOG)；印墨墨膜：1-3μm；色差：△E＜2；網屏角度：6種角度 | 潛力預估: 可直接應用在精美畫冊和高級美術印刷品等方面，防止仿冒。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 軟體安裝需求：1.適用於IBM PC個人電腦。2.作業軟體：WINDOW 2000/XP。3. 記憶體：512MB以上。4.硬碟空間：30MB以上。軟體內容及功能：1.含程式碼及安裝檔。2.RGB格... | 潛力預估: 可應用於印刷、設計等影像相關產業。可將低解析度圖檔轉換為高解析圖檔，具有提高印刷品畫質品級之功能。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: FM網點：Highlight；AM網點：Midtone＆Shadow； GCR：0-7階 | 潛力預估: 可直接應用在精美畫冊和高級美術印刷品等方面，防止仿冒。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 金屬色印刷技術，是以金屬色為滿版底，再以分色技術將CMYK色塊已不同比例之色階進行印刷，再藉由多角度分光光譜儀進行資料庫之建立，印刷線數為200線，四色網點為AM網點 | 潛力預估: 未來可用於包裝彩盒及精美印刷 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 印研中心 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 高傳真精密印刷技術研發三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)套色對位控制標： CMYK； (2)輔助控制標/蠕印、雙影、解析度； (3)網格方框/套準度； (4)每色旋轉角度/3.75~6度 | 潛力預估: 印刷技術人員可根據控制標快速判斷偏移進行對位調整，將可提升印刷作業之效率，減少試印時紙張與油墨之耗損。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
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| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6750834 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6811457 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦 | 李正中 | 廖貞慧 | 張悠揚 | 許志榮 | 何家充 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683781 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 何宗哲 | 李明林 | 張慧如 | 賴信助 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6670224 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李啟聖 | 常鼎國 | 陳丕夫 | 康育銘 | 戴遠東 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和 |
| 核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 盧慧娟 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6700783 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷 | 姜信騰 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6750834 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6811457 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦 | 李正中 | 廖貞慧 | 張悠揚 | 許志榮 | 何家充 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6683781 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 何宗哲 | 李明林 | 張慧如 | 賴信助 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6670224 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李啟聖 | 常鼎國 | 陳丕夫 | 康育銘 | 戴遠東 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692902 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 翁逸君 | 魏明達 | 張上文 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚 | 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德 | 張世明 | 林文迪 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏 | 顏凱翔 | 林瑞進 | 吳家宏 | 周坤和 |
核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 林俊仁 | 陳仲竹 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕 | 蘇慧琪 | 陳宜孝 | 梁兆鈞 | 李政鴻 | 莊政恩 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻 | 李新立 | 陳宜孝 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂 | 盧慧娟 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6700783 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷 | 姜信騰 |
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