DINITRO MONOMER, DIAMINE MONOMER, POLYIMIDE AND MODIFIED POLYIMIDE(二硝單體、二胺單體 、聚醯亞胺以及經改質的聚醯亞胺) - 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部 專利名稱-中文DINITRO MONOMER, DIAMINE MONOMER, POLYIMIDE AND MODIFIED POLYIMIDE(二硝單體、二胺單體 、聚醯亞胺以及經改質的聚醯亞胺) 的核准國家是美國 , 執行單位是紡織所 , 產出年度是104 , 專利性質是發明 , 計畫名稱是紡織所創新前瞻技術研究計畫 , 專利發明人是陳文祥、所外:廖德章、黃英治、陶柏成 , 證書號碼是8,981,038 .
序號 16996 產出年度 104 領域別 民生福祉 專利名稱-中文 DINITRO MONOMER, DIAMINE MONOMER, POLYIMIDE AND MODIFIED POLYIMIDE(二硝單體、二胺單體 、聚醯亞胺以及經改質的聚醯亞胺) 執行單位 紡織所 產出單位 紡織所 計畫名稱 紡織所創新前瞻技術研究計畫 專利發明人 陳文祥、所外:廖德章、黃英治、陶柏成 核准國家 美國 獲證日期 104/03/17 證書號碼 8,981,038 專利期間起 101/12/25 專利期間訖 122/05/28 專利性質 發明 技術摘要-中文 本專利主要是透過分子設計並藉由齊齊巴賓反應(Chichibabin reaction)合成新型具有?唑、蒎或含反應性溴功能性基團的?啶雜環化合物及透過聚縮合聚合技術製備一系?含?啶雜環耐熱性高分子之新材?。?用?木偶合(Suzuki coupling)技術改質,將?(Naphthalene)、蒎(Pyrene)、芴(Fluorene)、?唑(Carbazole)等功能性基團導入一系?含反應性溴功能性基團之?啶雜環耐熱性高分子上,合成出一系?含功能性基團之高分子材?,並探討一系?含功能性基團之高分子材?的物性,如:聚合物之結晶?、溶解?、分子?、分子?分佈、高分子密?、介電常?、機械性質及熱性質等,並特別探討?啶雜環上的氮原子在酸性環境下形成質子化(Protonation),對聚合物物性(電致變色、波長位移等)與聚合物構型的影響及電致變色相關物性測試,如:紫外線光譜儀(UV-vis)、光激發光光譜儀(Photoluminescence,PL)及循環伏安儀(CV)。另一方面,?用?木偶合 (Suzuki coupling)技術改質,直接合成新型含功能性基團之?啶雜環二胺化合物,透過聚縮合聚合技術製備一系?含功能性基團之高分子材?,以比較?者物性及化性之差?性。 技術摘要-英文 The Patent primarily adopts molecular design and Chichibabin reaction to synthesize novel pyridine heterocyclic compounds consisting of carbazole, pyrene, or reactive bromine functional groups and fabricate a series of pyridine heterocyclic-containing heat-resistant polymers through polycondensation polymerization technologies. Suzuki coupling technique is used in the modification to introduce naphthalene, pyrene, fluorene, and carbazole functional groups to a series of reactive bromine-containing pyridine heterocyclic heat resistant polymers, and synthesize a series of functional group-containing polymer materials. The physical properties for a series of functional group-containing polymer materials are discussed, such as polymer crystallinity, solubility, molecular weight, molecular weight distribution, polymer density, dielectric constant, and mechanical and thermal properties. Additionally, the Patent specifically discusses the effect of protonation of the nitrogen atom(s) in pyridine heterocycles in acidic environments on the polymer physical properties (electrochromism, wavelength shift) and configurations, and electrochromism-related physical property tests, such as UV-vis, photoluminescence, and CV. On the other hand, Suzuki coupling modification technique was adopted to directly synthesize novel functional group-containing pyridine heterocyclic diamine compounds. A series of functional group-containing polymer materials are synthesized through polycondensation polymerization to compare the difference between physical and chemical properties. 聯絡人員 徐妙菁 電話 02-22670321#6101 傳真 02-22689834 電子信箱 mchsu.0415@ttri.org.tw 參考網址 https://www.ttri.org.tw/content/service/service12.aspx 備註 10414-P-34 特殊情形 (空) 同步更新日期 2019-07-24
序號 16996 產出年度 104 領域別 民生福祉 專利名稱-中文 DINITRO MONOMER, DIAMINE MONOMER, POLYIMIDE AND MODIFIED POLYIMIDE(二硝單體、二胺單體 、聚醯亞胺以及經改質的聚醯亞胺) 執行單位 紡織所 產出單位 紡織所 計畫名稱 紡織所創新前瞻技術研究計畫 專利發明人 陳文祥、所外:廖德章、黃英治、陶柏成 核准國家 美國 獲證日期 104/03/17 證書號碼 8,981,038 專利期間起 101/12/25 專利期間訖 122/05/28 專利性質 發明 技術摘要-中文 本專利主要是透過分子設計並藉由齊齊巴賓反應(Chichibabin reaction)合成新型具有?唑、蒎或含反應性溴功能性基團的?啶雜環化合物及透過聚縮合聚合技術製備一系?含?啶雜環耐熱性高分子之新材?。?用?木偶合(Suzuki coupling)技術改質,將?(Naphthalene)、蒎(Pyrene)、芴(Fluorene)、?唑(Carbazole)等功能性基團導入一系?含反應性溴功能性基團之?啶雜環耐熱性高分子上,合成出一系?含功能性基團之高分子材?,並探討一系?含功能性基團之高分子材?的物性,如:聚合物之結晶?、溶解?、分子?、分子?分佈、高分子密?、介電常?、機械性質及熱性質等,並特別探討?啶雜環上的氮原子在酸性環境下形成質子化(Protonation),對聚合物物性(電致變色、波長位移等)與聚合物構型的影響及電致變色相關物性測試,如:紫外線光譜儀(UV-vis)、光激發光光譜儀(Photoluminescence,PL)及循環伏安儀(CV)。另一方面,?用?木偶合 (Suzuki coupling)技術改質,直接合成新型含功能性基團之?啶雜環二胺化合物,透過聚縮合聚合技術製備一系?含功能性基團之高分子材?,以比較?者物性及化性之差?性。 技術摘要-英文 The Patent primarily adopts molecular design and Chichibabin reaction to synthesize novel pyridine heterocyclic compounds consisting of carbazole, pyrene, or reactive bromine functional groups and fabricate a series of pyridine heterocyclic-containing heat-resistant polymers through polycondensation polymerization technologies. Suzuki coupling technique is used in the modification to introduce naphthalene, pyrene, fluorene, and carbazole functional groups to a series of reactive bromine-containing pyridine heterocyclic heat resistant polymers, and synthesize a series of functional group-containing polymer materials. The physical properties for a series of functional group-containing polymer materials are discussed, such as polymer crystallinity, solubility, molecular weight, molecular weight distribution, polymer density, dielectric constant, and mechanical and thermal properties. Additionally, the Patent specifically discusses the effect of protonation of the nitrogen atom(s) in pyridine heterocycles in acidic environments on the polymer physical properties (electrochromism, wavelength shift) and configurations, and electrochromism-related physical property tests, such as UV-vis, photoluminescence, and CV. On the other hand, Suzuki coupling modification technique was adopted to directly synthesize novel functional group-containing pyridine heterocyclic diamine compounds. A series of functional group-containing polymer materials are synthesized through polycondensation polymerization to compare the difference between physical and chemical properties. 聯絡人員 徐妙菁 電話 02-22670321#6101 傳真 02-22689834 電子信箱 mchsu.0415@ttri.org.tw 參考網址 https://www.ttri.org.tw/content/service/service12.aspx 備註 10414-P-34 特殊情形 (空) 同步更新日期 2019-07-24
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@ 幼兒園名錄 電話: 03 8871134 | 981 | 地址: 花蓮縣玉里鎮春日里11鄰神農74號 | 英文單位名稱: Chunri police statio
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根據名稱 DINITRO MONOMER DIAMINE MONOMER POLYIMIDE AND MODIFIED POLYIMIDE 二硝單體 二胺單體 聚醯亞胺以及經改質的聚醯亞胺 找到的相關資料
根據姓名 陳文祥 所外:廖德章 黃英治 陶柏成 找到的相關資料 核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳文祥,所外:廖德章、黃英治、陶柏成 | 證書號碼: 2154472
@ 經濟部產業技術司–專利資料集
核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 105 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳文祥,所外:廖德章、黃英治、陶柏成 | 證書號碼: 2154472
@ 經濟部產業技術司–專利資料集
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執行單位: 紡織所 | 產出年度: 102 | 產出單位: 紡織所 | 計畫名稱: 紡織環境建構第二期四年計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: .BET比表面積:1494 m2/g .粉體脫落率 3.1 % .壓損0.03 mmH2O .透氣度 414.3 cm3/cm2/sec | 潛力預估: 高
@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機能性紡織產業關鍵技術研發四年計畫 | 專利發明人: 陳泰佑、陳威宏、鄭筱雯、林維朋 | 證書號碼: I472553
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 李俊輝、黃慶堂、沈乾龍、吳惠櫻 | 證書號碼: I320701
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 張料峰、鍾裕杰、陳岡宏 | 證書號碼: I336728
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 褚佳龍、戴煥忠、林兼民、熊漢興 | 證書號碼: I336742
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 沈乾龍、蔡坤泉、黃慶堂、尹承達 | 證書號碼: I336738
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃子祥、彭兆群 | 證書號碼: I337634
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 張浩哲、李仁雄 | 證書號碼: I357449
@ 經濟部產業技術司–專利資料集
執行單位: 紡織所 | 產出年度: 102 | 產出單位: 紡織所 | 計畫名稱: 紡織環境建構第二期四年計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: .BET比表面積:1494 m2/g .粉體脫落率 3.1 % .壓損0.03 mmH2O .透氣度 414.3 cm3/cm2/sec | 潛力預估: 高
@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 104 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機能性紡織產業關鍵技術研發四年計畫 | 專利發明人: 陳泰佑、陳威宏、鄭筱雯、林維朋 | 證書號碼: I472553
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 99 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 李俊輝、黃慶堂、沈乾龍、吳惠櫻 | 證書號碼: I320701
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 張料峰、鍾裕杰、陳岡宏 | 證書號碼: I336728
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 褚佳龍、戴煥忠、林兼民、熊漢興 | 證書號碼: I336742
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 沈乾龍、蔡坤泉、黃慶堂、尹承達 | 證書號碼: I336738
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 100 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 紡織所創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃子祥、彭兆群 | 證書號碼: I337634
@ 經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 紡織所 | 產出年度: 101 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高科技紡織品研究與開發第二期計畫 | 專利發明人: 張浩哲、李仁雄 | 證書號碼: I357449
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與DINITRO MONOMER, DIAMINE MONOMER, POLYIMIDE AND MODIFIED POLYIMIDE(二硝單體、二胺單體 、聚醯亞胺以及經改質的聚醯亞胺)同分類的經濟部產業技術司–專利資料集 核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 李傳英 | 證書號碼: 6589849
核准國家: 奧地利 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 周維揚, 馬慶輝 | 證書號碼: 412043
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳尚立, 易建宇 | 證書號碼: 195737
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 劉鴻達, 陳慶逸, 陳績檍 | 證書號碼: 193993
核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 巫吉原 | 證書號碼: 3553864
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 巫吉原 | 證書號碼: 190439
核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王博文, 施俊任, 陳尚立 | 證書號碼: 3500353
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 劉鴻達 | 證書號碼: 206398
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖, 陳慶逸 | 證書號碼: 185475
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 楊和興, 沈毓仁 | 證書號碼: 200771
核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 彭遠清, 陳建志 | 證書號碼: 6730937
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 陳明道, 楊和興 | 證書號碼: 190460
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 190469
核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 6680755
核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 3522705
核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 李傳英 | 證書號碼: 6589849
核准國家: 奧地利 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 周維揚, 馬慶輝 | 證書號碼: 412043
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳尚立, 易建宇 | 證書號碼: 195737
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 劉鴻達, 陳慶逸, 陳績檍 | 證書號碼: 193993
核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 巫吉原 | 證書號碼: 3553864
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 巫吉原 | 證書號碼: 190439
核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王博文, 施俊任, 陳尚立 | 證書號碼: 3500353
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 劉鴻達 | 證書號碼: 206398
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖, 陳慶逸 | 證書號碼: 185475
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 楊和興, 沈毓仁 | 證書號碼: 200771
核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 彭遠清, 陳建志 | 證書號碼: 6730937
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊, 陳明道, 楊和興 | 證書號碼: 190460
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 190469
核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 陳建志, 陳明道, 廖明俊 | 證書號碼: 6680755
核准國家: 日本 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 3522705
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