aspect
- 國家教育研究院-地理學名詞-兩岸地理學學術名詞 @ 國家教育研究院

英文名稱aspect的中文名稱是坡向, 中國大陸譯名是坡向.

序號194
英文名稱aspect
中文名稱坡向
中國大陸譯名坡向
來源網站https://terms.naer.edu.tw/

序號

194

英文名稱

aspect

中文名稱

坡向

中國大陸譯名

坡向

來源網站

https://terms.naer.edu.tw/

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全通路商情分析技術

執行單位: 資策會 | 產出年度: 105 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 巨量資料創新技術與智慧應用計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 1.Data Matching技術:找出單一或多個通路中,不同內容、但在現實世界裡指向同一物件的紀錄。本技術分別就不同的實體屬性計算相似度,以屬性相似度比對結果為依據,利用機器學習方法分類判斷資料是否... | 潛力預估: 隨著全球網路電子化發展,全通路的商務競爭業態興起,台灣零售業逐漸從單一營銷管道邁向多營銷管道。如何在大量商品流通中進行分析以作為商店管理維運依據,對於實體或虛擬商店街是一個重要課題。本研發可有效整合多...

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

高接觸角材料及其製程技術

核准國家: 英國 | 執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 | 專利發明人: 黃元昌 沈永清 張義和 羅國峰 | 證書號碼: 2421727

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

粗糙微結構形成技術

核准國家: 英國 | 執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 | 專利發明人: 黃元昌 沈永清 張義和 羅國峰 | 證書號碼: GB2422608

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

歐盟EC發布消費警訊,Crème Diana之化粧品「Crème C.T.R. Diana Améliore l’aspect des traces de taches de Rousseur et ...

燈號: 黃燈 | 更新日期: 2021/03/17

@ 消費紅綠燈-國際化粧品

厚膜光阻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 正光阻 : 光阻厚度 ~ 60um, 深寬比~3 負光阻 : 光阻厚度~ 800um, 深寬比~30 | 潛力預估: 應用潛力中

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

厚膜光阻製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 正光阻 : 光阻厚度 ~ 60um, 深寬比~3;負光阻 : 光阻厚度~ 800um, 深寬比~30 | 潛力預估: 成本低、製程簡單之高深寬比結構。

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

厚膜光阻製程技術

執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵零組件及材料應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 正光阻 : 光阻厚度 ~ 60um, 深寬比~3 負光阻 : 光阻厚度~ 800um, 深寬比~30 | 潛力預估: 應用潛力中

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

反射儀量測高密度高深寬比(aspect ratio 10)矽穿孔結構深度及形貌

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 應用近乎垂直入射式之寬波段光束入射待測晶圓,擷取TSV上/下孔徑不同深度的反射光干涉光譜訊號,透過自有專利之分析演算方法來分析TSV孔徑深度,特別適用於高密度、小尺寸(? 5 um)陣列式TSV孔徑深... | 潛力預估: 預期未來可應用於3D IC先進製程檢測機台之核心檢測模組。

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

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執行單位: 資策會 | 產出年度: 105 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 巨量資料創新技術與智慧應用計畫 | 領域: 服務創新 | 技術規格: 1.Data Matching技術:找出單一或多個通路中,不同內容、但在現實世界裡指向同一物件的紀錄。本技術分別就不同的實體屬性計算相似度,以屬性相似度比對結果為依據,利用機器學習方法分類判斷資料是否... | 潛力預估: 隨著全球網路電子化發展,全通路的商務競爭業態興起,台灣零售業逐漸從單一營銷管道邁向多營銷管道。如何在大量商品流通中進行分析以作為商店管理維運依據,對於實體或虛擬商店街是一個重要課題。本研發可有效整合多...

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高接觸角材料及其製程技術

核准國家: 英國 | 執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 | 專利發明人: 黃元昌 沈永清 張義和 羅國峰 | 證書號碼: 2421727

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

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@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

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@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

反射儀量測高密度高深寬比(aspect ratio 10)矽穿孔結構深度及形貌

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 應用近乎垂直入射式之寬波段光束入射待測晶圓,擷取TSV上/下孔徑不同深度的反射光干涉光譜訊號,透過自有專利之分析演算方法來分析TSV孔徑深度,特別適用於高密度、小尺寸(? 5 um)陣列式TSV孔徑深... | 潛力預估: 預期未來可應用於3D IC先進製程檢測機台之核心檢測模組。

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

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中文名稱: 複合式海岸 | 中國大陸譯名: 复式岸

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