壓印用模仁之製程與結構
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文壓印用模仁之製程與結構的核准國家是美國, 證書號碼是7309515, 專利性質是發明, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是97, 計畫名稱是機械與系統領域環境建構計畫, 專利發明人是蔡宏營吳志宏程智勇.

序號	4507
產出年度	97
領域別	(空)
專利名稱-中文	壓印用模仁之製程與結構
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人	蔡宏營吳志宏程智勇
核准國家	美國
獲證日期	(空)
證書號碼	7309515
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係有關一種壓印用模仁之製程方法與結構，其主要係可用於奈米壓印技術中。本發明係於一基板材料上依序形成一鑽石材料層與一光阻層，其中該阻劑(Resist)層與鑽石材料相比更具有蝕刻抵抗性。接著利用能量束微影技術使光阻層形成特定排列圖案之光阻遮罩，再利用鑽石材料與光阻層材料之蝕刻選擇比的差異，以乾蝕刻方式直接對於鑽石材料表面進行蝕刻製程便可輕易形成相對應該阻劑遮罩圖樣之凹凸圖形，進而完成以鑽石材料為主體之壓印用模仁。此一模仁結構除了具有高抗磨性外，還兼具有脫模容易之特性。 The present invention is related to a structure of an imprint mold and a method for fabricating the same, which can be used in the field of nano-imprint lithography. Firstly, a diamond film and a photoresist film are successively formed onto a substrate; wherein the photoresist film is more capable of anticorrosion than the diamond film. Then an energy beam lithography system is provided to make the photoresist film form a photoresist mask with particularly arranged patterns. Because of the etching selectivity between the diamond film and the photoresist film, on the surface of the diamond film can be easily formed a pattern with recessions and protrusions according to the photoresist mask by dry etching method. Thus an imprint mold characterized as better antifriction and easily taking off from imprinted materials is completed.
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-59117812
傳真	03-5917431
電子信箱	noralp@itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	0
特殊情形	(空)

序號

4507

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

壓印用模仁之製程與結構

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

機械與系統領域環境建構計畫

專利發明人

蔡宏營吳志宏程智勇

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

7309515

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係有關一種壓印用模仁之製程方法與結構，其主要係可用於奈米壓印技術中。本發明係於一基板材料上依序形成一鑽石材料層與一光阻層，其中該阻劑(Resist)層與鑽石材料相比更具有蝕刻抵抗性。接著利用能量束微影技術使光阻層形成特定排列圖案之光阻遮罩，再利用鑽石材料與光阻層材料之蝕刻選擇比的差異，以乾蝕刻方式直接對於鑽石材料表面進行蝕刻製程便可輕易形成相對應該阻劑遮罩圖樣之凹凸圖形，進而完成以鑽石材料為主體之壓印用模仁。此一模仁結構除了具有高抗磨性外，還兼具有脫模容易之特性。 The present invention is related to a structure of an imprint mold and a method for fabricating the same, which can be used in the field of nano-imprint lithography. Firstly, a diamond film and a photoresist film are successively formed onto a substrate; wherein the photoresist film is more capable of anticorrosion than the diamond film. Then an energy beam lithography system is provided to make the photoresist film form a photoresist mask with particularly arranged patterns. Because of the etching selectivity between the diamond film and the photoresist film, on the surface of the diamond film can be easily formed a pattern with recessions and protrusions according to the photoresist mask by dry etching method. Thus an imprint mold characterized as better antifriction and easily taking off from imprinted materials is completed.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

noralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

備註

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壓印用模仁之製程與結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224078 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡宏營 \| 吳志宏 \| 程智勇 @ 技術司專利資料集
壓印用模仁之製程與結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,309,515 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡宏營吳志宏程智勇 @ 技術司專利資料集

壓印用模仁之製程與結構

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奈米壓印之模仁結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 219613 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 蔡宏營 \| 吳志宏 \| 程智勇 @ 技術司專利資料集
奈米顆粒與微奈米結構結合之製作方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I286600 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院院本部 \| 產出年度: 96 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 謝丞聿劉丙寅吳志宏程智勇蔡宏營張延瑜丁嘉仁 @ 技術司專利資料集

奈米壓印之模仁結構

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奈米顆粒與微奈米結構結合之製作方法與裝置

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多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,904,736 \| 專利期間起: 100/03/08 \| 專利期間訖: 119/01/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 游逸平 \| 李政崑 \| 莊國煜 \| 吳宗憲 @ 技術司專利資料集
互動式顯示系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,916,129 \| 專利期間起: 100/03/29 \| 專利期間訖: 118/03/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資訊中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 林盈孜 \| 蕭詠今 \| 陳右凱 \| 李森 \| 楊博智 @ 技術司專利資料集
多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7904736 \| 專利期間起: 100/03/08 \| 專利期間訖: 119/01/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 游逸平 \| 李政崑 \| 莊國煜 \| 吳宗憲 @ 技術司專利資料集
互動式顯示系統	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7916129 \| 專利期間起: 100/03/29 \| 專利期間訖: 118/03/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資訊中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 林盈孜 \| 蕭詠今 \| 陳右凱 \| 李森 \| 楊博智 @ 技術司專利資料集
靜電放電防護電路	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,692,907 \| 專利期間起: 99/04/06 \| 專利期間訖: 117/03/03 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳世宏 \| 柯明道 @ 技術司專利資料集
壓電驅動光學鏡頭	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7,511,904 \| 專利期間起: 98/03/31 \| 專利期間訖: 116/05/17 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 南部產業關鍵技術計畫 \| 專利發明人: 胡朝彰 \| 蘇漢威 \| 沈聖智 @ 技術司專利資料集
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具條狀遮罩之氮化鎵雷射二極體	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 第191924號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 專利發明人: 藍文厚 \| 項裕德 \| 林家慶 \| 林科均 \| 彭開鋒 \| 程亞桐
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偏極分光反射成像之眼球視線檢測裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 第223933號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 專利發明人: 林宸生 \| 葉茂勳 \| 郭道宏 \| 賴良材
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以辨識虹膜進行門禁及差勤管制及健康諮詢管理之方法及裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 第206805號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 專利發明人: 林宸生 \| 葉茂勳 \| 陳弦澤 \| 蔣慧芬 \| 許孝義
針對頻譜具有平坦或選擇響應之可調光式光電二極體架構方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 第207088號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 專利發明人: 戴禮國 \| 翁炳國 \| 季法文 \| 黃廣鑫 \| 陳自強 \| 劉維鈞
結合模殼與模座的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 第I 224045號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 個人端光訊傳感與顯示技術四年計畫 \| 專利發明人: 吳貞欽 \| 張家華 \| 王明仁
Sample injection device for gas chromatography	核准國家: 美國 \| 證書號碼: US 6,718,817 B1 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫 \| 專利發明人: 柯賢文 \| 李文雄 \| 王富祥 \| 邱宗蔚
可程控電容式微泵浦	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195367 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫 \| 專利發明人: 楊聲震 \| 吳憲明 \| 郭飛虎 \| 陳順林 \| 楊貴朱 \| 王政揚
微加工無閥磁流動力微幫浦	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 217793 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫 \| 專利發明人: 康德人 \| 黃科志 \| 吳憲明 \| 郭飛虎 \| 陳順林
近場光學讀寫系統的跟蹤誤差檢測方法與裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00103540.1 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 喬作文 \| 吳國瑞 \| 黃得瑞
生醫晶片檢測裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220926 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 朱朝居 \| 黃得瑞 \| 楊子平
生物芯片的訊號檢測方法與裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00130065.2 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 朱朝居 \| 黃得瑞 \| 楊子平 \| 李耀裕 \| 陳錦森
卡匣活動扇門之開啟裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,643,242 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 黃安穎 \| 柯朝元

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