TFT ARRAY製造設備技術
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技術名稱-中文TFT ARRAY製造設備技術的執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 計畫名稱是電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫, 技術規格是定位精度:±20mm, 潛力預估是未來若完成電極圖案新製程設備,可大幅節省設備投資,市場需求大。.

序號136
產出年度93
技術名稱-中文TFT ARRAY製造設備技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文研發微接觸印刷設備技術,希望以印製製程取代微影、蝕刻等製程來形成圖形,以縮短圖形形成製程、提高生產效率並降低設備成本。研發內容包含(一)微接觸印刷設備技術先導性研究(二)對位平台關鍵模組。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格定位精度:±20mm
技術成熟度已進行基礎原理及專利分析,尚處於概念分析階段。
可應用範圍TFT LCD電極圖案成形製程
潛力預估未來若完成電極圖案新製程設備,可大幅節省設備投資,市場需求大。
聯絡人員黃清國
電話(03) 5916651
傳真(03) 5820458
電子信箱ckhuang@itri.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備精密加工設備
需具備之專業人才1.精密機構設計人才 2.伺服控制人才 3.視覺取像人才

序號

136

產出年度

93

技術名稱-中文

TFT ARRAY製造設備技術

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

研發微接觸印刷設備技術,希望以印製製程取代微影、蝕刻等製程來形成圖形,以縮短圖形形成製程、提高生產效率並降低設備成本。研發內容包含(一)微接觸印刷設備技術先導性研究(二)對位平台關鍵模組。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

定位精度:±20mm

技術成熟度

已進行基礎原理及專利分析,尚處於概念分析階段。

可應用範圍

TFT LCD電極圖案成形製程

潛力預估

未來若完成電極圖案新製程設備,可大幅節省設備投資,市場需求大。

聯絡人員

黃清國

電話

(03) 5916651

傳真

(03) 5820458

電子信箱

ckhuang@itri.org.tw

參考網址

所須軟硬體設備

精密加工設備

需具備之專業人才

1.精密機構設計人才 2.伺服控制人才 3.視覺取像人才

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DSP Architecture&RTL Design技術

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