奈米級微晶鍍膜製程技術
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技術名稱-中文奈米級微晶鍍膜製程技術的執行單位是金屬中心, 產出年度是93, 計畫名稱是金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫, 技術規格是‧以物理蒸鍍磁控濺射製程，製備耐溫奈米級微晶鍍膜，鍍膜厚度1-3μ硬度達Hv>2600。 ‧製程溫度可控制, 潛力預估是目前國內鑽頭生產廠商共有五家，分別是日本廠商在台投資的佑能、台芝 內業者投產的凱崴、尖點、創國，預估鑽頭產值超過20億元，處理工具產值約2億元。.

序號502
產出年度93
技術名稱-中文奈米級微晶鍍膜製程技術
執行單位金屬中心
產出單位(空)
計畫名稱金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文傳統鍍膜如TiN在高溫環境下，耐磨性不足，切削過程中刀刃部位鍍膜很快崩裂而失去保護效果，而本奈米級微晶鍍膜因添加耐高溫元素，鍍層具有耐高溫磨耗效果。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格‧以物理蒸鍍磁控濺射製程，製備耐溫奈米級微晶鍍膜，鍍膜厚度1-3μ硬度達Hv>2600。 ‧製程溫度可控制<200℃，可處理非鐵材料、鋼鐵材料、超硬合金等。
技術成熟度試量產
可應用範圍‧高速切削刀工具 ‧醫療用工具
潛力預估目前國內鑽頭生產廠商共有五家，分別是日本廠商在台投資的佑能、台芝 內業者投產的凱崴、尖點、創國，預估鑽頭產值超過20億元，處理工具產值約2億元。
聯絡人員邱松茂
電話07-3513121轉2558
傳真07-3522170
電子信箱smchiu@mail.mirdc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw
所須軟硬體設備物理蒸鍍設備。
需具備之專業人才真空系統操作經驗相關背景。

序號

502

產出年度

93

技術名稱-中文

奈米級微晶鍍膜製程技術

執行單位

金屬中心

產出單位

(空)

計畫名稱

金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

傳統鍍膜如TiN在高溫環境下，耐磨性不足，切削過程中刀刃部位鍍膜很快崩裂而失去保護效果，而本奈米級微晶鍍膜因添加耐高溫元素，鍍層具有耐高溫磨耗效果。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

‧以物理蒸鍍磁控濺射製程，製備耐溫奈米級微晶鍍膜，鍍膜厚度1-3μ硬度達Hv>2600。 ‧製程溫度可控制<200℃，可處理非鐵材料、鋼鐵材料、超硬合金等。

技術成熟度

試量產

可應用範圍

‧高速切削刀工具 ‧醫療用工具

潛力預估

目前國內鑽頭生產廠商共有五家，分別是日本廠商在台投資的佑能、台芝 內業者投產的凱崴、尖點、創國，預估鑽頭產值超過20億元，處理工具產值約2億元。

聯絡人員

邱松茂

電話

07-3513121轉2558

傳真

07-3522170

電子信箱

smchiu@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw

所須軟硬體設備

物理蒸鍍設備。

需具備之專業人才

真空系統操作經驗相關背景。

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執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits；81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_；表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場，極具市場潛力

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磁性記憶體單元尺寸微縮研究與製程技術 (MRAM)

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