SEBS based之低煙無鹵耐燃級TPR材料性能評估
- 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文SEBS based之低煙無鹵耐燃級TPR材料性能評估的執行單位是中科院化學所, 產出年度是93, 計畫名稱是功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫, 技術規格是難燃等級UL94 V-0、LOI > 28、煙濃度Dm < 300、Tb > 50 (kg/cm2)、Eb > 300 (%)、HS < 90 (Shore A)、MFI < 30 ( g/10min , 210℃×5kg)、Sp.gr < 1.3, 潛力預估是熱可塑性彈性體(TPR)為新興高分子合成材料,年成長率6-7%,以大陸用量20萬噸,將快速攀升至45萬噸,環保型難燃TPR為未來趨勢,配合歐盟2006年禁用溴係難燃劑法規,商機無限.

序號583
產出年度93
技術名稱-中文SEBS based之低煙無鹵耐燃級TPR材料性能評估
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文合成橡膠基材、環保耐燃劑、相容性助劑等混練加工成低煙無鹵耐燃彈性體
技術現況敘述-英文(空)
技術規格難燃等級UL94 V-0、LOI > 28、煙濃度Dm < 300、Tb > 50 (kg/cm2)、Eb > 300 (%)、HS < 90 (Shore A)、MFI < 30 ( g/10min , 210℃×5kg)、Sp.gr < 1.3
技術成熟度雛型
可應用範圍電線被覆、電腦排線、連接器接頭、電腦防塵套、電腦腳墊
潛力預估熱可塑性彈性體(TPR)為新興高分子合成材料,年成長率6-7%,以大陸用量20萬噸,將快速攀升至45萬噸,環保型難燃TPR為未來趨勢,配合歐盟2006年禁用溴係難燃劑法規,商機無限
聯絡人員蘇文炯
電話(03)4458047
傳真(03)4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備混練加工設施、材料分析設備
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員
同步更新日期2023-07-22

序號

583

產出年度

93

技術名稱-中文

SEBS based之低煙無鹵耐燃級TPR材料性能評估

執行單位

中科院化學所

產出單位

(空)

計畫名稱

功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

合成橡膠基材、環保耐燃劑、相容性助劑等混練加工成低煙無鹵耐燃彈性體

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

難燃等級UL94 V-0、LOI > 28、煙濃度Dm < 300、Tb > 50 (kg/cm2)、Eb > 300 (%)、HS < 90 (Shore A)、MFI < 30 ( g/10min , 210℃×5kg)、Sp.gr < 1.3

技術成熟度

雛型

可應用範圍

電線被覆、電腦排線、連接器接頭、電腦防塵套、電腦腳墊

潛力預估

熱可塑性彈性體(TPR)為新興高分子合成材料,年成長率6-7%,以大陸用量20萬噸,將快速攀升至45萬噸,環保型難燃TPR為未來趨勢,配合歐盟2006年禁用溴係難燃劑法規,商機無限

聯絡人員

蘇文炯

電話

(03)4458047

傳真

(03)4719940

電子信箱

lcc36@tsrp.org.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

混練加工設施、材料分析設備

需具備之專業人才

化學或化工研發與操作人員

同步更新日期

2023-07-22

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# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號7800
產出年度100
領域別材料化工
專利名稱-中文EpoxyResin,CuringAgentand9,10-Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthreneDerivative
執行單位中科院化學所
產出單位中科院四所
計畫名稱高值化學品技術開發與應用四年計畫
專利發明人蘇文?、劉俊谷、鄭如忠、戴憲宏、林慶炫
核准國家美國
獲證日期100/03/01
證書號碼7897702B2
專利期間起100/03/01
專利期間訖117/11/24
專利性質發明
技術摘要-中文Theinventiondisclosesanovelcross-linkedepoxyresinwithflame-retardantpropertiesandmethodforproducingthesame.Thepolymericmaterialoftheinventionincludesanepoxyresin,acuringagentandamodificationagent.Particularly,themodificationagentisaderivativeof9,10-Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene10-oxide(DOPO).Moreover,thecuringagentis4,4-diaminodiphenylmethane(DDM),ortris(4-aminephenyl)amine(NNH).
技術摘要-英文(空)
聯絡人員蘇文?
電話03-4458047
傳真03-4719940
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 7800
產出年度: 100
領域別: 材料化工
專利名稱-中文: EpoxyResin,CuringAgentand9,10-Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthreneDerivative
執行單位: 中科院化學所
產出單位: 中科院四所
計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫
專利發明人: 蘇文?、劉俊谷、鄭如忠、戴憲宏、林慶炫
核准國家: 美國
獲證日期: 100/03/01
證書號碼: 7897702B2
專利期間起: 100/03/01
專利期間訖: 117/11/24
專利性質: 發明
技術摘要-中文: Theinventiondisclosesanovelcross-linkedepoxyresinwithflame-retardantpropertiesandmethodforproducingthesame.Thepolymericmaterialoftheinventionincludesanepoxyresin,acuringagentandamodificationagent.Particularly,themodificationagentisaderivativeof9,10-Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthrene10-oxide(DOPO).Moreover,thecuringagentis4,4-diaminodiphenylmethane(DDM),ortris(4-aminephenyl)amine(NNH).
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 蘇文?
電話: 03-4458047
傳真: 03-4719940
電子信箱: csist@csistdup.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號582
產出年度93
技術名稱-中文透明功能性導電樹脂研究
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文在塑膠表面進行原位(in situ)pyrrole聚合;可應用於PC、nylon、PET、PMMA等
技術現況敘述-英文(空)
技術規格透光率:大於70%(at 550nm),表面電阻:104~109Ω/sq
技術成熟度雛型
可應用範圍抗靜電包裝高分子材、無塵室防靜電板材、EMI/RFI遮蔽材、雷達波吸收材等
潛力預估因應EMI管制措施等,市場年成長率可達34%
聯絡人員蘇文炯
電話(03)4458047
傳真(03)4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備化學合成反應設備、表面電阻量測儀、透光反射量測儀等
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員
序號: 582
產出年度: 93
技術名稱-中文: 透明功能性導電樹脂研究
執行單位: 中科院化學所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 在塑膠表面進行原位(in situ)pyrrole聚合;可應用於PC、nylon、PET、PMMA等
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 透光率:大於70%(at 550nm),表面電阻:104~109Ω/sq
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 抗靜電包裝高分子材、無塵室防靜電板材、EMI/RFI遮蔽材、雷達波吸收材等
潛力預估: 因應EMI管制措施等,市場年成長率可達34%
聯絡人員: 蘇文炯
電話: (03)4458047
傳真: (03)4719940
電子信箱: lcc36@tsrp.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 化學合成反應設備、表面電阻量測儀、透光反射量測儀等
需具備之專業人才: 化學或化工研發與操作人員

# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號584
產出年度93
技術名稱-中文無鹵難燃熱熔膠研製
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文聚烯烴基材、環保耐燃劑、相容性助劑等混練加工成接著性強,使用方便淺色產品
技術現況敘述-英文(空)
技術規格難燃等級UL94 V-0、耐熱吊重(1Kg) > 80℃、軟化點 > 150℃、黏度(180℃) 8000 ~ 11500 mPas、接著剪斷強度(25℃) > 2.0 N/mm2、接著剪斷強度(-10℃) > 0.3 N/mm2
技術成熟度雛型
可應用範圍電子電器零件固定絕緣、電源供應器填充絕緣,織物接著貼合,建築汽車隔熱材、裝潢材、填縫材等
潛力預估熱熔膠年產值約36100公噸,其中難燃級佔5%,年成長率6-7%,環保型熱熔膠為未來趨勢,配合歐盟2006年禁用溴係難燃劑法規,商機無限
聯絡人員蘇文炯
電話(03)4458047
傳真(03)4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備混練加工設施、材料分析設備
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員
序號: 584
產出年度: 93
技術名稱-中文: 無鹵難燃熱熔膠研製
執行單位: 中科院化學所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 聚烯烴基材、環保耐燃劑、相容性助劑等混練加工成接著性強,使用方便淺色產品
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 難燃等級UL94 V-0、耐熱吊重(1Kg) > 80℃、軟化點 > 150℃、黏度(180℃) 8000 ~ 11500 mPas、接著剪斷強度(25℃) > 2.0 N/mm2、接著剪斷強度(-10℃) > 0.3 N/mm2
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 電子電器零件固定絕緣、電源供應器填充絕緣,織物接著貼合,建築汽車隔熱材、裝潢材、填縫材等
潛力預估: 熱熔膠年產值約36100公噸,其中難燃級佔5%,年成長率6-7%,環保型熱熔膠為未來趨勢,配合歐盟2006年禁用溴係難燃劑法規,商機無限
聯絡人員: 蘇文炯
電話: (03)4458047
傳真: (03)4719940
電子信箱: lcc36@tsrp.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 混練加工設施、材料分析設備
需具備之專業人才: 化學或化工研發與操作人員

# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號585
產出年度93
技術名稱-中文三聚氰胺衍生物包覆聚磷酸銨研究
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文以市售的三聚氰胺衍生物包覆聚磷酸銨,提升聚磷酸銨的耐水解性,增進磷氮協效性與應用的相容性
技術現況敘述-英文(空)
技術規格磷含量30-31%,聚合度n>1000
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍添加型無鹵難燃劑,可應用於聚烴類材質難燃化
潛力預估高磷含量的無機磷化物在適當相容性材質具高使用價值,以自製三聚氰胺衍生物應用於包覆,可提升產品應用範圍與增加其效益
聯絡人員蘇文炯
電話(03)4458047
傳真(03)4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備化學合成反應設備
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員
序號: 585
產出年度: 93
技術名稱-中文: 三聚氰胺衍生物包覆聚磷酸銨研究
執行單位: 中科院化學所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 以市售的三聚氰胺衍生物包覆聚磷酸銨,提升聚磷酸銨的耐水解性,增進磷氮協效性與應用的相容性
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 磷含量30-31%,聚合度n>1000
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 添加型無鹵難燃劑,可應用於聚烴類材質難燃化
潛力預估: 高磷含量的無機磷化物在適當相容性材質具高使用價值,以自製三聚氰胺衍生物應用於包覆,可提升產品應用範圍與增加其效益
聯絡人員: 蘇文炯
電話: (03)4458047
傳真: (03)4719940
電子信箱: lcc36@tsrp.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 化學合成反應設備
需具備之專業人才: 化學或化工研發與操作人員

# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號586
產出年度93
技術名稱-中文鄰苯酚膦化反應技術
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文包含膦化反應條件、純化反應條件、衍生物氧化反應條件等技術建立
技術現況敘述-英文(空)
技術規格產品磷含量>10%,酸價<0.1%
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍膦化物具有耐高溫與耐候性佳的特性,應用於製備抗氧化劑與難燃劑
潛力預估應用本技術可衍生開發新型難燃劑,或新型雙功能抗氧化劑,配合環保法規,商機無限
聯絡人員蘇文炯
電話(03)4458047
傳真(03)4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備化學合成反應設備
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員
序號: 586
產出年度: 93
技術名稱-中文: 鄰苯酚膦化反應技術
執行單位: 中科院化學所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 包含膦化反應條件、純化反應條件、衍生物氧化反應條件等技術建立
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 產品磷含量>10%,酸價<0.1%
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 膦化物具有耐高溫與耐候性佳的特性,應用於製備抗氧化劑與難燃劑
潛力預估: 應用本技術可衍生開發新型難燃劑,或新型雙功能抗氧化劑,配合環保法規,商機無限
聯絡人員: 蘇文炯
電話: (03)4458047
傳真: (03)4719940
電子信箱: lcc36@tsrp.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 化學合成反應設備
需具備之專業人才: 化學或化工研發與操作人員

# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 6

序號737
產出年度94
技術名稱-中文有機奈米導電樹脂研究
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發展與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文在PC、nylon、PET、PMMA等材質表面進行原位(in situ)聚合,表面透明導電,電阻值可調變。不含界面活性劑/碳黑/重金屬,不受濕度影響。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格覆膜厚度50-250nm、表面電阻104~109Ω/sq、透光率>70%(550nm)
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍無塵室防靜電披覆膜、EMI遮蔽材、偵測感測元件、變色智慧窗、金屬防腐蝕。
潛力預估因應EMI管制措施等,市場年成長率可達34%。
聯絡人員蘇文炯
電話(03)4458047
傳真(03)4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備化學合成反應設備、表面電阻量測儀、透光反射量測儀等。
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員。
序號: 737
產出年度: 94
技術名稱-中文: 有機奈米導電樹脂研究
執行單位: 中科院化學所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發展與應用四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 在PC、nylon、PET、PMMA等材質表面進行原位(in situ)聚合,表面透明導電,電阻值可調變。不含界面活性劑/碳黑/重金屬,不受濕度影響。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 覆膜厚度50-250nm、表面電阻104~109Ω/sq、透光率>70%(550nm)
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 無塵室防靜電披覆膜、EMI遮蔽材、偵測感測元件、變色智慧窗、金屬防腐蝕。
潛力預估: 因應EMI管制措施等,市場年成長率可達34%。
聯絡人員: 蘇文炯
電話: (03)4458047
傳真: (03)4719940
電子信箱: lcc36@tsrp.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 化學合成反應設備、表面電阻量測儀、透光反射量測儀等。
需具備之專業人才: 化學或化工研發與操作人員。

# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 7

序號738
產出年度94
技術名稱-中文環保型耐燃熱熔膠研製
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發展與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文聚烯烴基材、環保耐燃劑、相容性助劑、耐燃耐候、熱安定性佳、接著性強
技術現況敘述-英文(空)
技術規格UL94 V-0、耐熱吊重(1Kg)>80℃、軟化點>150℃、黏度(180℃)8000~11500mPas、接著剪斷強度(25℃)>2.0 N/mm2、接著剪斷強度(-10℃)>0.3 N/mm2
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍電子電器:零件固定絕緣、電源供應器填充絕緣;紡織:織物接著貼合;建築汽車:隔熱材、裝潢材、填縫材
潛力預估目前世界上尚未有廠家成功開發出無鹵環保型耐燃熱熔膠,但都已積極投入開發中;然而各大電子廠受限於歐美環保法規限制,對於環保型耐燃熱熔膠之需求十分殷切。
聯絡人員蘇文炯
電話(03)4458047
傳真(03)4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備加熱攪拌槽、物性化性檢測設備、難燃分析檢測等。
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員。
序號: 738
產出年度: 94
技術名稱-中文: 環保型耐燃熱熔膠研製
執行單位: 中科院化學所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發展與應用四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 聚烯烴基材、環保耐燃劑、相容性助劑、耐燃耐候、熱安定性佳、接著性強
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: UL94 V-0、耐熱吊重(1Kg)>80℃、軟化點>150℃、黏度(180℃)8000~11500mPas、接著剪斷強度(25℃)>2.0 N/mm2、接著剪斷強度(-10℃)>0.3 N/mm2
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 電子電器:零件固定絕緣、電源供應器填充絕緣;紡織:織物接著貼合;建築汽車:隔熱材、裝潢材、填縫材
潛力預估: 目前世界上尚未有廠家成功開發出無鹵環保型耐燃熱熔膠,但都已積極投入開發中;然而各大電子廠受限於歐美環保法規限制,對於環保型耐燃熱熔膠之需求十分殷切。
聯絡人員: 蘇文炯
電話: (03)4458047
傳真: (03)4719940
電子信箱: lcc36@tsrp.org.tw
參考網址: (空)
所須軟硬體設備: 加熱攪拌槽、物性化性檢測設備、難燃分析檢測等。
需具備之專業人才: 化學或化工研發與操作人員。

# 03 4458047 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 8

序號1746
產出年度95
技術名稱-中文PEBM製備法
執行單位中科院化學所
產出單位(空)
計畫名稱功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本製程使用機械式研磨法,較傳統製程有下列優點:1.不產生鹽酸、無廢液;2.產量高;3.反應快速;4.溶劑可重複使用。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1.含磷量15%、碳22%、氮26%;2.包覆後可與油共容;3.水中溶解度約0.3g/100ml H2O,20℃;4.平均粒徑6~8μm。
技術成熟度雛型
可應用範圍為磷氮碳膨脹型難燃劑,可使用於polypropylene、polyolefins及其他塑橡膠,作為塗料或其他高分子材料之難燃添加劑。
潛力預估傳統使用之溴系及重金屬難燃劑,已因環保因素被國際社會檢討禁用中;本產品可取代溴系難燃劑,使用於各類難燃配方中,市場需求量大。
聯絡人員蘇文炯
電話03-4458047
傳真03-4719940
電子信箱lcc36@tsrp.org.tw
參考網址http://cs.mnd.gov.tw/
所須軟硬體設備1.機械研磨機(球磨機或平台式研磨機),最好俱加熱功能,可增溫至100℃;2.過濾裝置;3.烘箱。
需具備之專業人才化學或化工研發與操作人員
序號: 1746
產出年度: 95
技術名稱-中文: PEBM製備法
執行單位: 中科院化學所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
領域: (空)
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 本製程使用機械式研磨法,較傳統製程有下列優點:1.不產生鹽酸、無廢液;2.產量高;3.反應快速;4.溶劑可重複使用。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 1.含磷量15%、碳22%、氮26%;2.包覆後可與油共容;3.水中溶解度約0.3g/100ml H2O,20℃;4.平均粒徑6~8μm。
技術成熟度: 雛型
可應用範圍: 為磷氮碳膨脹型難燃劑,可使用於polypropylene、polyolefins及其他塑橡膠,作為塗料或其他高分子材料之難燃添加劑。
潛力預估: 傳統使用之溴系及重金屬難燃劑,已因環保因素被國際社會檢討禁用中;本產品可取代溴系難燃劑,使用於各類難燃配方中,市場需求量大。
聯絡人員: 蘇文炯
電話: 03-4458047
傳真: 03-4719940
電子信箱: lcc36@tsrp.org.tw
參考網址: http://cs.mnd.gov.tw/
所須軟硬體設備: 1.機械研磨機(球磨機或平台式研磨機),最好俱加熱功能,可增溫至100℃;2.過濾裝置;3.烘箱。
需具備之專業人才: 化學或化工研發與操作人員
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與SEBS based之低煙無鹵耐燃級TPR材料性能評估同分類的經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

重金屬結合與固定化技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 所開發peptide對鎘吸附力為90ug/mg protein,含鎘60ppm之重金屬廢水去鎘除率有95%以上,peptide三次重複使用吸附力維持90%以上。 | 潛力預估: 歐美之生物技術公司利用生物性重金屬吸附蛋白發展一系列的製劑,提供了一個有效且快速的解決工具。2002年美國Ohio州立大學Sayre博士估計每年這類的製劑全球市場值約為13億美元。

污染物生物降解活性偵測技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可於24小時內快速檢測污染場址或水體中之微生物族群分佈及安全性,快速進行處理應變措施。 | 潛力預估: 未來可應用於環境污染風險及生物復育、生物處理監測。

高濃度重金屬廢水生物處理技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 處理用微生物菌群可耐受銅濃度300 mg/L以上;可有效去除人工合成廢水中銅金屬50 %以上;可去除實際工業化學銅廢水中銅50 %以上。 | 潛力預估: 開發印刷電路板、電鍍產業廢水處理技術,提昇環保設備製造業,環工顧問業,環境工程業技術水準;預估未來10年將有10廠家使用,產值可達1,500萬。

工業原料暨高價值輔?再生系統

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 脫氫酵素活性達100IU/ protei | 潛力預估: 減少開發酵素製程成本與減少製程廢棄物處理成本

奈米材料綠色生產技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立的生物系統具有高度的多樣性,產生的金奈米之特性依微生物種類之不同而不同,目前已可產出不同粒徑規格的產品,最小之粒徑可達7 nM。 | 潛力預估: 有效擴展奈米材料之來源,提供生物奈米材料特有之性質。

奈米級生物礦材開發

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立磁礦菌微氧控制發酵生產系統,生產條件PH7.0、溶氧50ppb、溫度25℃,磁礦材產率7.0mg/L/day | 潛力預估: 磁礦材可以最作為民生化工分離回收程序之載體, 作為環境污染檢測感測器載體。

有機廢水生物淨化技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 有機負荷1500mg/L,水力停留時間24小時,廢水COD去除效率達到90%以上. | 潛力預估: 可徹底解決光電/半導體產業有機廢水問題,提升該產業水回收再利用比例

以分子選殖方式建構 V2 C端表達載體系統並建構nociceptin receptor V2 tail 及 d opioid receptor receptor V2 tail 表達質體

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: G蛋白偶聯接受體藥物研發二年計畫 | 領域: | 技術規格: 本系統可用以快速修飾所選殖GPCR受體基因之C端,將原本形成之pits form變更為vesicle form。對於Transfluor技術平台引進及建立而言,可以降低因訊號太弱所導致之結果誤判,加... | 潛力預估: 研究顯示,DOR主要在調節心肌對交感神經及副交感神經之敏感度,但一些新證據顯示DOR可能與保護心肌缺氧有關。全世界急性心肌缺氧市場約為五億美元,慢性心肌缺氧市場約為十五億美元,相關藥物僅有Genete...

RK5F-NOR、pRK5F-NOR/pNRKhygro-caGRK及NORV2PURO 瞬間轉染的pits / vesicles形成結果比較

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: G蛋白偶聯接受體藥物研發二年計畫 | 領域: | 技術規格: 以細胞瞬間轉染方式分析NOR、NOR伴轉染caGRK、NORV2等三種受體對agonist之反應,以螢光顯微鏡作為分析工具,具體觀察agonist刺激後所形成之pits與vesicle反應。 | 潛力預估: 對於GFP-arrestin穩定表達細胞株進行轉染與伴轉染技術之建立,可進一步了解該細胞株對於轉染種類及成分之感受性與效率。此外,經由比較分析NOR、NOR伴轉染caGRK、NORV2等三種受體對ag...

比較在NORV2PURO transient transfection和以2μM nociceptin 刺激後, 細胞在不同時間點及不同劑量下之pits/vesicles形成

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: G蛋白偶聯接受體藥物研發二年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 分別經由比較分析不同時間點、不同劑量,觀察NOR agonist對於NOR受體之活化狀況,可以深入分析受體對agonist之動力學資料,進而確認所構築受體之反應性,比較所構築受體與原始受體反應狀況之...

鑽石晶圓拋光技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 2~4吋鑽石晶圓表面粗糙度有效降低為20nm以下 | 潛力預估: 以加工設備較為低廉及製程溫度並不高,能有效的縮短加工時間並使成本降低,不同的拋光製程及設備可使國內的產業擺脫長期依賴國外技術的現象

藍寶石基板製程技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: TTV<10μm,Ra<0.3nm,Bow\Warp<10μm | 潛力預估: 目前國內預估藍寶石晶圓年需求量約120萬片,產值約達十億元,商機值得投入

硬脆薄膜奈米製造技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 4吋鑽石晶圓,鑽石膜厚度≦20μm,平均表面粗糙度(Ra) ≦20nm | 潛力預估: 攻佔TFT LCD切刀市場(兩億/年),提供鑽石厚膜協助廠商及早進入市場

微結構光學膜片製造技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: (1)柱間隔5μm~100μm,棱柱高度5μm ~100μm,棱柱角度30o~150o (2)透鏡直徑2 μm~500μm,透鏡高度2 μm~100μm,最小透鏡間隙 0 μm | 潛力預估: 目前平面顯示器相關產品需求非常大而且未來照明產業的相關應用也將非常廣泛

SOI晶圓製程技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: (1)全域厚度變異≦3μm / ψ150mm,表面粗糙度Ra≦5 A (2)絕緣層厚度 0.5μm~2μm,絕緣層膜厚均勻性≦5% (3)元件層厚度≧8μm (4)元件層厚度均勻性 ±5% | 潛力預估: SOI應用領域相當廣泛,如:微機電元件、High Power IC、光通訊元件等。以SOI晶圓取代目前微機電相關製程技術,可大幅提升產品競爭力,因此,預估在未來3年內SOI晶圓市場將會有爆炸性之成長

重金屬結合與固定化技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 所開發peptide對鎘吸附力為90ug/mg protein,含鎘60ppm之重金屬廢水去鎘除率有95%以上,peptide三次重複使用吸附力維持90%以上。 | 潛力預估: 歐美之生物技術公司利用生物性重金屬吸附蛋白發展一系列的製劑,提供了一個有效且快速的解決工具。2002年美國Ohio州立大學Sayre博士估計每年這類的製劑全球市場值約為13億美元。

污染物生物降解活性偵測技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 可於24小時內快速檢測污染場址或水體中之微生物族群分佈及安全性,快速進行處理應變措施。 | 潛力預估: 未來可應用於環境污染風險及生物復育、生物處理監測。

高濃度重金屬廢水生物處理技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 處理用微生物菌群可耐受銅濃度300 mg/L以上;可有效去除人工合成廢水中銅金屬50 %以上;可去除實際工業化學銅廢水中銅50 %以上。 | 潛力預估: 開發印刷電路板、電鍍產業廢水處理技術,提昇環保設備製造業,環工顧問業,環境工程業技術水準;預估未來10年將有10廠家使用,產值可達1,500萬。

工業原料暨高價值輔?再生系統

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 脫氫酵素活性達100IU/ protei | 潛力預估: 減少開發酵素製程成本與減少製程廢棄物處理成本

奈米材料綠色生產技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立的生物系統具有高度的多樣性,產生的金奈米之特性依微生物種類之不同而不同,目前已可產出不同粒徑規格的產品,最小之粒徑可達7 nM。 | 潛力預估: 有效擴展奈米材料之來源,提供生物奈米材料特有之性質。

奈米級生物礦材開發

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 建立磁礦菌微氧控制發酵生產系統,生產條件PH7.0、溶氧50ppb、溫度25℃,磁礦材產率7.0mg/L/day | 潛力預估: 磁礦材可以最作為民生化工分離回收程序之載體, 作為環境污染檢測感測器載體。

有機廢水生物淨化技術

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 環保生技產品與技術研發四年計畫 | 領域: | 技術規格: 有機負荷1500mg/L,水力停留時間24小時,廢水COD去除效率達到90%以上. | 潛力預估: 可徹底解決光電/半導體產業有機廢水問題,提升該產業水回收再利用比例

以分子選殖方式建構 V2 C端表達載體系統並建構nociceptin receptor V2 tail 及 d opioid receptor receptor V2 tail 表達質體

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: G蛋白偶聯接受體藥物研發二年計畫 | 領域: | 技術規格: 本系統可用以快速修飾所選殖GPCR受體基因之C端,將原本形成之pits form變更為vesicle form。對於Transfluor技術平台引進及建立而言,可以降低因訊號太弱所導致之結果誤判,加... | 潛力預估: 研究顯示,DOR主要在調節心肌對交感神經及副交感神經之敏感度,但一些新證據顯示DOR可能與保護心肌缺氧有關。全世界急性心肌缺氧市場約為五億美元,慢性心肌缺氧市場約為十五億美元,相關藥物僅有Genete...

RK5F-NOR、pRK5F-NOR/pNRKhygro-caGRK及NORV2PURO 瞬間轉染的pits / vesicles形成結果比較

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: G蛋白偶聯接受體藥物研發二年計畫 | 領域: | 技術規格: 以細胞瞬間轉染方式分析NOR、NOR伴轉染caGRK、NORV2等三種受體對agonist之反應,以螢光顯微鏡作為分析工具,具體觀察agonist刺激後所形成之pits與vesicle反應。 | 潛力預估: 對於GFP-arrestin穩定表達細胞株進行轉染與伴轉染技術之建立,可進一步了解該細胞株對於轉染種類及成分之感受性與效率。此外,經由比較分析NOR、NOR伴轉染caGRK、NORV2等三種受體對ag...

比較在NORV2PURO transient transfection和以2μM nociceptin 刺激後, 細胞在不同時間點及不同劑量下之pits/vesicles形成

執行單位: 生技中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: G蛋白偶聯接受體藥物研發二年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 分別經由比較分析不同時間點、不同劑量,觀察NOR agonist對於NOR受體之活化狀況,可以深入分析受體對agonist之動力學資料,進而確認所構築受體之反應性,比較所構築受體與原始受體反應狀況之...

鑽石晶圓拋光技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 2~4吋鑽石晶圓表面粗糙度有效降低為20nm以下 | 潛力預估: 以加工設備較為低廉及製程溫度並不高,能有效的縮短加工時間並使成本降低,不同的拋光製程及設備可使國內的產業擺脫長期依賴國外技術的現象

藍寶石基板製程技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: TTV<10μm,Ra<0.3nm,Bow\Warp<10μm | 潛力預估: 目前國內預估藍寶石晶圓年需求量約120萬片,產值約達十億元,商機值得投入

硬脆薄膜奈米製造技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 4吋鑽石晶圓,鑽石膜厚度≦20μm,平均表面粗糙度(Ra) ≦20nm | 潛力預估: 攻佔TFT LCD切刀市場(兩億/年),提供鑽石厚膜協助廠商及早進入市場

微結構光學膜片製造技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: (1)柱間隔5μm~100μm,棱柱高度5μm ~100μm,棱柱角度30o~150o (2)透鏡直徑2 μm~500μm,透鏡高度2 μm~100μm,最小透鏡間隙 0 μm | 潛力預估: 目前平面顯示器相關產品需求非常大而且未來照明產業的相關應用也將非常廣泛

SOI晶圓製程技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: (1)全域厚度變異≦3μm / ψ150mm,表面粗糙度Ra≦5 A (2)絕緣層厚度 0.5μm~2μm,絕緣層膜厚均勻性≦5% (3)元件層厚度≧8μm (4)元件層厚度均勻性 ±5% | 潛力預估: SOI應用領域相當廣泛,如:微機電元件、High Power IC、光通訊元件等。以SOI晶圓取代目前微機電相關製程技術,可大幅提升產品競爭力,因此,預估在未來3年內SOI晶圓市場將會有爆炸性之成長

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