無電鍍銅化學藥水應用在TFT-LCD閘極
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技術名稱-中文無電鍍銅化學藥水應用在TFT-LCD閘極的執行單位是工研院化工所, 產出年度是94, 計畫名稱是工研院材料與化工領域環境建構計畫, 技術規格是銅導線層厚度, 潛力預估是未來第六世代以上大面積或是可撓性Panel TFT的金屬層主要沉積技術.

序號969
產出年度94
技術名稱-中文無電鍍銅化學藥水應用在TFT-LCD閘極
執行單位工研院化工所
產出單位(空)
計畫名稱工研院材料與化工領域環境建構計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文目前在將燒杯實驗擴大到G2 size基板,此技術的特色有以下的 :‧ Conformity and uniformuty- better than PVD in via and trench‧ equipment cost down- cost less than PVD‧ cycle time reduced‧ mass production‧ self-alignment or selective depositio
技術現況敘述-英文(空)
技術規格銅導線層厚度
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍大面積平面顯示器,可橈式平面顯示器
潛力預估未來第六世代以上大面積或是可撓性Panel TFT的金屬層主要沉積技術
聯絡人員陳玄芳
電話03-5915176
傳真03-5820207
電子信箱franksfchen@itri.org.tw
參考網址(空)
所須軟硬體設備化學化工背景
需具備之專業人才平面顯示器產業
同步更新日期2023-07-22

序號

969

產出年度

94

技術名稱-中文

無電鍍銅化學藥水應用在TFT-LCD閘極

執行單位

工研院化工所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院材料與化工領域環境建構計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

目前在將燒杯實驗擴大到G2 size基板,此技術的特色有以下的 :‧ Conformity and uniformuty- better than PVD in via and trench‧ equipment cost down- cost less than PVD‧ cycle time reduced‧ mass production‧ self-alignment or selective depositio

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

銅導線層厚度

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

大面積平面顯示器,可橈式平面顯示器

潛力預估

未來第六世代以上大面積或是可撓性Panel TFT的金屬層主要沉積技術

聯絡人員

陳玄芳

電話

03-5915176

傳真

03-5820207

電子信箱

franksfchen@itri.org.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

化學化工背景

需具備之專業人才

平面顯示器產業

同步更新日期

2023-07-22

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智能型跨越障礙行走設備之應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 使車輪傾斜角度可達水平面上53度至水平面下47度,並可簡易且準確調整車輪傾斜角度,可跨越250mm高的門檻或樓板段差。 | 潛力預估: 本設備可作為居家照護機器人之移動平台,在未來老年化社會發展下,勢必成為居家設備中重要之關鍵模組。預估未來將可成為熱銷商品。

電漿束液晶配向製程驗證與系統模組大型化技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 配向尺寸可達G3(550*650mm),配向均勻性佳。技術規格:錨定能~10-5J/m2,預傾角:0~10度,VHR>95%,Rdc | 潛力預估: 目前配向效果遠高於光配向,與離子束配向結果相當但設備價格低。

平面顯示器陣列圖案瑕疵檢測系統整合應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 檢測物: TFT-LCD陣列圖案、彩色濾光片;檢測速率: 75 M pixel/sec;最小瑕疵: 10μm | 潛力預估: 高速多個CCD攝影機同步取像控制技術;快速瑕疵檢測法則

Roll-to-Roll精密捲繞對位技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: Roll to Roll輸送基材寬度:300mm,單板基材尺寸:300mm × 210mm,對位精度:±2.5μm,Cell gap精度:±2μm。 | 潛力預估: 搭配視覺、水平載台及伺服系統來進行高精度對位,較傳統的捲繞機構更適用於電子級產品之設備上。

精密PCB鑽孔控制技術系統整合應用

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 鑽孔速度:400孔/分鐘_x000D_/檔案管理_x000D_/座標顯示_x000D_/加工路徑顯示_x000D_/翻、排版指令_x000D_/多次鑽孔功能_x000D_/擴鑽圓孔/長槽擴鑽指令_x0... | 潛力預估: 具備刀具偏擺/摩耗自動補償、加工件精修以及自動尋找插銷孔功能,節省刀具成本以及增加機器運作效能。

直接驅動電機應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 直驅馬達之設計規格,最高轉速150rpm,最大轉矩250Nm,擎留轉矩100Nm,解晰度(8192p/r’4)0.01°,3種無反電動勢感知起動電氣角偵測方法。建立自行研發旋轉式直接驅動伺服系統基礎。 | 潛力預估: 可設計與製作主流產品相容性規格,產生關鍵性零件與系統之可替代性

先進生技設備應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: Heat up rate>3C/sec;Cool down rate>2C/sec_x000D_;Test time | 潛力預估: 縮短檢測時間,減少檢體與試劑用量

生物反應器關鍵技術之應用

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 溫度控制精度≦ ±0.2℃;環境pH值控制精度≦±0.02 pH;溶氣控制精度≦ ±2 % | 潛力預估: 製程需求設計產品

放電加工創成控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 未來奈米科技、光電通訊、生醫科技對微細加工製作零組件或模具勢必有強烈需求,未來市場前途看好,微細加工的方法有微雷射加工、電子光束加工、蝕刻等方法,而放電加工為非傳統加工方式,係利用火花放電所產生的熱能...

半導體切割技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 切割寬度 3~5 μm ,最小切割道寬度25μm | 潛力預估: 硬脆材料切割市場

串列網路伺服運動控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 串列網路伺服軸:8軸(Mitsubishi SSCNET),可擴充至16軸_x000D_/ 泛用開迴路:4軸_x000D_/ 泛用閉迴路:1軸,可擴充至5軸_x000D_/ 數位轉類比:2組(16 b... | 潛力預估: 可實現高速、高精度的定位控制,及多軸即時同步運動控制,在不用增加控制母板下,硬體軸數與IO點數擴充彈性大,為國內光電半導體設備與CNC工具機業,提供了一個降低系統配線複雜度與維護簡單化的有效解決方案。

一種使用超音波能量的晶圓鍵合製程方法

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 鍵合溫度:Max.200℃,鍵合時間:Max.10mi | 潛力預估: 可搶攻半導體照明市場,極具市場淺力

一種晶片晶圓鍵合之自適性調整與支撐機構

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 平面度:1μm,耐重:>1000㎏,平行調整角度範圍:5°,尺寸:2吋 | 潛力預估: 可搶攻半導體照明市場,極具市場淺力

真空加熱氣浮傳輸技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸: 620*750 mm (I.e. 第3.5代LCD面板尺寸) | 潛力預估: 基板尺寸放大至1100×1250mm (I.E. 第5代LCD面板尺寸), 等相關技術應用

晶圓電鍍設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 金凸塊電鍍均勻性< 5% | 潛力預估: 可搶攻凸塊電鍍設備市場

智能型跨越障礙行走設備之應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 使車輪傾斜角度可達水平面上53度至水平面下47度,並可簡易且準確調整車輪傾斜角度,可跨越250mm高的門檻或樓板段差。 | 潛力預估: 本設備可作為居家照護機器人之移動平台,在未來老年化社會發展下,勢必成為居家設備中重要之關鍵模組。預估未來將可成為熱銷商品。

電漿束液晶配向製程驗證與系統模組大型化技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 配向尺寸可達G3(550*650mm),配向均勻性佳。技術規格:錨定能~10-5J/m2,預傾角:0~10度,VHR>95%,Rdc | 潛力預估: 目前配向效果遠高於光配向,與離子束配向結果相當但設備價格低。

平面顯示器陣列圖案瑕疵檢測系統整合應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 檢測物: TFT-LCD陣列圖案、彩色濾光片;檢測速率: 75 M pixel/sec;最小瑕疵: 10μm | 潛力預估: 高速多個CCD攝影機同步取像控制技術;快速瑕疵檢測法則

Roll-to-Roll精密捲繞對位技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: Roll to Roll輸送基材寬度:300mm,單板基材尺寸:300mm × 210mm,對位精度:±2.5μm,Cell gap精度:±2μm。 | 潛力預估: 搭配視覺、水平載台及伺服系統來進行高精度對位,較傳統的捲繞機構更適用於電子級產品之設備上。

精密PCB鑽孔控制技術系統整合應用

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 鑽孔速度:400孔/分鐘_x000D_/檔案管理_x000D_/座標顯示_x000D_/加工路徑顯示_x000D_/翻、排版指令_x000D_/多次鑽孔功能_x000D_/擴鑽圓孔/長槽擴鑽指令_x0... | 潛力預估: 具備刀具偏擺/摩耗自動補償、加工件精修以及自動尋找插銷孔功能,節省刀具成本以及增加機器運作效能。

直接驅動電機應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 直驅馬達之設計規格,最高轉速150rpm,最大轉矩250Nm,擎留轉矩100Nm,解晰度(8192p/r’4)0.01°,3種無反電動勢感知起動電氣角偵測方法。建立自行研發旋轉式直接驅動伺服系統基礎。 | 潛力預估: 可設計與製作主流產品相容性規格,產生關鍵性零件與系統之可替代性

先進生技設備應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: Heat up rate>3C/sec;Cool down rate>2C/sec_x000D_;Test time | 潛力預估: 縮短檢測時間,減少檢體與試劑用量

生物反應器關鍵技術之應用

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高值產業及機器人技術研發計畫 | 領域: | 技術規格: 溫度控制精度≦ ±0.2℃;環境pH值控制精度≦±0.02 pH;溶氣控制精度≦ ±2 % | 潛力預估: 製程需求設計產品

放電加工創成控制器應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 創成放電加工技術間隙伺服控制、放電軌跡路徑加工控制、3D曲面放電加工控制、自動換電極功能、電極尺寸偵測及補償功能及創成放電電源(ON Time=500ns、Ip=0.5A、9段電容選擇)。 | 潛力預估: 未來奈米科技、光電通訊、生醫科技對微細加工製作零組件或模具勢必有強烈需求,未來市場前途看好,微細加工的方法有微雷射加工、電子光束加工、蝕刻等方法,而放電加工為非傳統加工方式,係利用火花放電所產生的熱能...

半導體切割技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 切割寬度 3~5 μm ,最小切割道寬度25μm | 潛力預估: 硬脆材料切割市場

串列網路伺服運動控制應用技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 串列網路伺服軸:8軸(Mitsubishi SSCNET),可擴充至16軸_x000D_/ 泛用開迴路:4軸_x000D_/ 泛用閉迴路:1軸,可擴充至5軸_x000D_/ 數位轉類比:2組(16 b... | 潛力預估: 可實現高速、高精度的定位控制,及多軸即時同步運動控制,在不用增加控制母板下,硬體軸數與IO點數擴充彈性大,為國內光電半導體設備與CNC工具機業,提供了一個降低系統配線複雜度與維護簡單化的有效解決方案。

一種使用超音波能量的晶圓鍵合製程方法

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 鍵合溫度:Max.200℃,鍵合時間:Max.10mi | 潛力預估: 可搶攻半導體照明市場,極具市場淺力

一種晶片晶圓鍵合之自適性調整與支撐機構

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 平面度:1μm,耐重:>1000㎏,平行調整角度範圍:5°,尺寸:2吋 | 潛力預估: 可搶攻半導體照明市場,極具市場淺力

真空加熱氣浮傳輸技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸: 620*750 mm (I.e. 第3.5代LCD面板尺寸) | 潛力預估: 基板尺寸放大至1100×1250mm (I.E. 第5代LCD面板尺寸), 等相關技術應用

晶圓電鍍設備技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 金凸塊電鍍均勻性< 5% | 潛力預估: 可搶攻凸塊電鍍設備市場

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