有限場除法器之機構與方法 Method for realizing finite field divider architecture(交通大學/電子系)
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技術名稱-中文有限場除法器之機構與方法 Method for realizing finite field divider architecture(交通大學/電子系)的執行單位是學界科專辦公室, 產出年度是99, 計畫名稱是學界科專計畫, 技術規格是美國專利申請案號11/780,090, 潛力預估是適用有線及無線通訊之IC設計公司.

序號4538
產出年度99
技術名稱-中文有限場除法器之機構與方法 Method for realizing finite field divider architecture(交通大學/電子系)
執行單位學界科專辦公室
產出單位(空)
計畫名稱學界科專計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文專利申請中
技術現況敘述-英文(空)
技術規格美國專利申請案號11/780,090
技術成熟度雛形
可應用範圍通訊相關產品
潛力預估適用有線及無線通訊之IC設計公司
聯絡人員張志華
電話03-5738251
傳真03-5131441
電子信箱alpha@mail.nctu.edu.tw
參考網址http://www.tlo.nctu.edu.tw
所須軟硬體設備電腦、matlab、C complier、EDA工具
需具備之專業人才通道編碼
同步更新日期2024-09-03

序號

4538

產出年度

99

技術名稱-中文

有限場除法器之機構與方法 Method for realizing finite field divider architecture(交通大學/電子系)

執行單位

學界科專辦公室

產出單位

(空)

計畫名稱

學界科專計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

專利申請中

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

美國專利申請案號11/780,090

技術成熟度

雛形

可應用範圍

通訊相關產品

潛力預估

適用有線及無線通訊之IC設計公司

聯絡人員

張志華

電話

03-5738251

傳真

03-5131441

電子信箱

alpha@mail.nctu.edu.tw

參考網址

http://www.tlo.nctu.edu.tw

所須軟硬體設備

電腦、matlab、C complier、EDA工具

需具備之專業人才

通道編碼

同步更新日期

2024-09-03

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鈀/鍺/銅n型摻雜砷化鎵歐姆接觸(國立交通大學/材料系)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 美國,證書號: 7368822B2,有效期限: 2006/03/17~2026/03/16 | 潛力預估: 雛形

@ 經濟部產業技術司可移轉技術資料集

攝影機參數校正方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明為一種攝影機參數校正方法,主要是基於受到地心引力影響的運動物體對攝影機或相機進行校正。此方法首先使運動物體由於受到的地心引力影響而構成拋物線之運動軌跡、使攝影機以特定的快門速度,對在運動路徑中運... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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智慧型監控分析系統與方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: ?本發明智慧型監控分析系統與方法,主要用來監控場所中是否存在有入侵物件(例如小偷),並即時地把關於小偷的影像或圖像傳給相關者(例如屋主),以提供屋主自行判定是否確實有小偷,不至於電腦誤判。在本發明系統... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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增進連續輸入影像時車牌偵測效能之方法及系統(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明提供一種增進連續輸入影像時車牌偵測效能之方法及系統,其係透過時空特性以減少搜尋空間來達成,包括一文字邊緣偵測模組、車牌字元候選區域偵測模組及重複區域偵測模組,首先從輸入系統之影像中偵測可能的文字... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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用於影像擷取裝置的校正方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係一種用於影像擷取裝置的校正方法,乃針對單一影像擷取裝置與多台影像擷取裝置的動態校正方法,對一單一影像擷取裝置主要是利用影像特徵點位移來獲取轉動角度與傾斜角度的變化量,對於多台影像擷取裝置則再加... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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影像視訊融合技術於監控系統之應用(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係關於一種整合式影像監視系統,將多個攝影機的視訊整合於一大範圍的影像,並可快速平順地切換監控角度,以用來監控一區域之整合系統及其對應之方法。 | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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移動物體偵測方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明揭露一種移動物體偵測方法,包含提供一影像集合,影像集合至少包含具有時間序列關係的第一影像與第二影像,且第一影像早於第二影像,在第一影像的適當區域設定一偵測範圍,移動偵測範圍以形成一移動向量。藉由... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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利用超音波與電腦視覺偵測之自動導航裝置及其導航方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係揭露一種利用超音波與電腦視覺偵測之自動導航裝置及其導航方法,首先讓一使用者帶領一自動導航裝置,使自動導航裝置學習並規劃一航行路徑,接著使自動導航裝置獨立導航,且於此時可利用超音波與電腦視覺偵測... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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鈀/鍺/銅n型摻雜砷化鎵歐姆接觸(國立交通大學/材料系)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 美國,證書號: 7368822B2,有效期限: 2006/03/17~2026/03/16 | 潛力預估: 雛形

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攝影機參數校正方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明為一種攝影機參數校正方法,主要是基於受到地心引力影響的運動物體對攝影機或相機進行校正。此方法首先使運動物體由於受到的地心引力影響而構成拋物線之運動軌跡、使攝影機以特定的快門速度,對在運動路徑中運... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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智慧型監控分析系統與方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: ?本發明智慧型監控分析系統與方法,主要用來監控場所中是否存在有入侵物件(例如小偷),並即時地把關於小偷的影像或圖像傳給相關者(例如屋主),以提供屋主自行判定是否確實有小偷,不至於電腦誤判。在本發明系統... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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增進連續輸入影像時車牌偵測效能之方法及系統(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明提供一種增進連續輸入影像時車牌偵測效能之方法及系統,其係透過時空特性以減少搜尋空間來達成,包括一文字邊緣偵測模組、車牌字元候選區域偵測模組及重複區域偵測模組,首先從輸入系統之影像中偵測可能的文字... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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用於影像擷取裝置的校正方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係一種用於影像擷取裝置的校正方法,乃針對單一影像擷取裝置與多台影像擷取裝置的動態校正方法,對一單一影像擷取裝置主要是利用影像特徵點位移來獲取轉動角度與傾斜角度的變化量,對於多台影像擷取裝置則再加... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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影像視訊融合技術於監控系統之應用(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係關於一種整合式影像監視系統,將多個攝影機的視訊整合於一大範圍的影像,並可快速平順地切換監控角度,以用來監控一區域之整合系統及其對應之方法。 | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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移動物體偵測方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明揭露一種移動物體偵測方法,包含提供一影像集合,影像集合至少包含具有時間序列關係的第一影像與第二影像,且第一影像早於第二影像,在第一影像的適當區域設定一偵測範圍,移動偵測範圍以形成一移動向量。藉由... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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利用超音波與電腦視覺偵測之自動導航裝置及其導航方法(國立交通大學電腦視覺研發中心)

執行單位: 學界科專辦公室 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 學界科專計畫 | 領域: | 技術規格: 本發明係揭露一種利用超音波與電腦視覺偵測之自動導航裝置及其導航方法,首先讓一使用者帶領一自動導航裝置,使自動導航裝置學習並規劃一航行路徑,接著使自動導航裝置獨立導航,且於此時可利用超音波與電腦視覺偵測... | 潛力預估: 可技術移轉、建教合作

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PAC Architecture&Integration技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Asymmetric dual core architecture 2.Three-layer AHB bus structure (Basic) 3.Flexible and scalable... | 潛力預估: 1. Low-power SoC Platform for portable applications 2. Bi-product: DVFS low-power design solution pa...

Low Power Design Methodology&Environment 技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Design Methodology:Multi-Vth,Multi-VDD,DVFS Design, Implementation,and Verification Methodology 2.... | 潛力預估: 廣泛應用於可攜式電子產品SoC,將大幅提升國內IC廠商產品在國際市場之競爭力

Low Power Circuit Design技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: PLL:12MHz in, 456MHz out, 24Mhz Stepping, RMS Jitter 35ps, P-P Jitter 150ps. MAC: Two 16 bit 2's com... | 潛力預估: 可應用於各種時脈產生,及數位濾波器,及資料暫存設計

高密度通道光譜影像量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm | 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足,但製程良率偏低,且檢測速度遠不及產出率,需求快速光譜檢測新一代技術,本技術可直接針對此需求提供服務。

高密度光譜分析技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm | 潛力預估: 可取代目前國外高價產品,可創造產值5億

垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 | 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器,在亞洲市場的產值每年可達數億元,其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。

3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭,尺寸/形狀空間解析度:8~15μm。(2)機台y-方向移動速度:40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)空間解析度:7.7 μm。(2)深度範圍:< 200μm。 | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

次世代微影疊對量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: Accuracy<3nm | 潛力預估: 可搶攻半導體檢測

光纖干涉式位置感測器

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: Resolution:1nm | 潛力預估: 可搶攻非接觸位置感測器市場

控制奈米碳管長度之方法與裝置

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: Tip length <200nm | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡、奈米操控器市場

創新壓電管驅動器技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 3D nano-imaging. | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡探針市場

原子力顯微鏡技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 3D nano-imaging. | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡市場

設備可靠度電腦化維修管理系統(CMMS)

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 派工單自動規劃、物料安全存量自動控管、檢測資料輸入管理 | 潛力預估: ˙ 提高工廠設備之使用率,節省設備維修成本效益達每廠每年達35%以上。 ˙ 減少化工類工廠因設備故障所產生之停工損失,每年每廠達450萬元以上增加競爭力及安全性。

安全衛生專家管理系統

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 化學品暴露危害評估、個人作業歷程管理、作業危害分析、作業環境測定規劃、環測數據管理與統計、健康資訊管理。 | 潛力預估: ˙ 作業安全分析、暴露濃度管理與分析、健康管理與分析、職業傷病預警 ˙ 本系統可有效解決長期以來無法掌控的人員職安衛管理問題,此一系統可完整地產生各項分析報表,針對職業傷病發生之機率予以推估,降低生...

PAC Architecture&Integration技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Asymmetric dual core architecture 2.Three-layer AHB bus structure (Basic) 3.Flexible and scalable... | 潛力預估: 1. Low-power SoC Platform for portable applications 2. Bi-product: DVFS low-power design solution pa...

Low Power Design Methodology&Environment 技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Design Methodology:Multi-Vth,Multi-VDD,DVFS Design, Implementation,and Verification Methodology 2.... | 潛力預估: 廣泛應用於可攜式電子產品SoC,將大幅提升國內IC廠商產品在國際市場之競爭力

Low Power Circuit Design技術

執行單位: 工研院晶片中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 晶片系統關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: PLL:12MHz in, 456MHz out, 24Mhz Stepping, RMS Jitter 35ps, P-P Jitter 150ps. MAC: Two 16 bit 2's com... | 潛力預估: 可應用於各種時脈產生,及數位濾波器,及資料暫存設計

高密度通道光譜影像量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm | 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足,但製程良率偏低,且檢測速度遠不及產出率,需求快速光譜檢測新一代技術,本技術可直接針對此需求提供服務。

高密度光譜分析技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm | 潛力預估: 可取代目前國外高價產品,可創造產值5億

垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 | 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器,在亞洲市場的產值每年可達數億元,其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。

3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭,尺寸/形狀空間解析度:8~15μm。(2)機台y-方向移動速度:40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)空間解析度:7.7 μm。(2)深度範圍:< 200μm。 | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

次世代微影疊對量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: Accuracy<3nm | 潛力預估: 可搶攻半導體檢測

光纖干涉式位置感測器

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: Resolution:1nm | 潛力預估: 可搶攻非接觸位置感測器市場

控制奈米碳管長度之方法與裝置

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: Tip length <200nm | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡、奈米操控器市場

創新壓電管驅動器技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 3D nano-imaging. | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡探針市場

原子力顯微鏡技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 3D nano-imaging. | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡市場

設備可靠度電腦化維修管理系統(CMMS)

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 派工單自動規劃、物料安全存量自動控管、檢測資料輸入管理 | 潛力預估: ˙ 提高工廠設備之使用率,節省設備維修成本效益達每廠每年達35%以上。 ˙ 減少化工類工廠因設備故障所產生之停工損失,每年每廠達450萬元以上增加競爭力及安全性。

安全衛生專家管理系統

執行單位: 工研院環安中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 產業環境與安全衛生應用技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 化學品暴露危害評估、個人作業歷程管理、作業危害分析、作業環境測定規劃、環測數據管理與統計、健康資訊管理。 | 潛力預估: ˙ 作業安全分析、暴露濃度管理與分析、健康管理與分析、職業傷病預警 ˙ 本系統可有效解決長期以來無法掌控的人員職安衛管理問題,此一系統可完整地產生各項分析報表,針對職業傷病發生之機率予以推估,降低生...

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