非銦透明導電薄膜材料與低溫薄膜製程技術
- 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文非銦透明導電薄膜材料與低溫薄膜製程技術的執行單位是工研院南分院, 產出年度是101, 計畫名稱是南部新興產業發展關鍵技術計畫, 技術規格是GZO奈米粉體之粉體粒徑80~90 nm，3英吋GZO靶材相對密度99.6%。製程溫度=120℃時，GZO薄膜的電阻率(ρ)=5.62×10-4Ω-cm、片電阻為10.6 Ω/□、平均穿透率T=89.5%電阻均勻度為, 潛力預估是主要合作廠商如靶材廠與面板廠。.

序號	5874
產出年度	101
技術名稱-中文	非銦透明導電薄膜材料與低溫薄膜製程技術
執行單位	工研院南分院
產出單位	(空)
計畫名稱	南部新興產業發展關鍵技術計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	本技術製備出粒徑平均之GZO粉體，透過造粒、壓胚和燒結等步驟，獲得高緻密度靶材。再利用高密度電弧離子蒸鍍系統進行鍍膜，可在低溫（120℃）下得到高結晶性及高品質的GZO薄膜，免除現行濺鍍製程薄膜需要再經由熱處理才能獲得高結晶性薄膜的後續處理。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	GZO奈米粉體之粉體粒徑80~90 nm，3英吋GZO靶材相對密度99.6%。製程溫度=120℃時，GZO薄膜的電阻率(ρ)=5.62×10-4Ω-cm、片電阻為10.6 Ω/□、平均穿透率T=89.5%電阻均勻度為
技術成熟度	雛型
可應用範圍	ZnO-based透明導電膜、靶材、面板、精密機械製造業。
潛力預估	主要合作廠商如靶材廠與面板廠。
聯絡人員	許禎紋
電話	06-3847277
傳真	06-3847288
電子信箱	janice.hsu@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720
所須軟硬體設備	化學合成設備、冷均壓設備、燒結設備、真空度迷系統。
需具備之專業人才	粉末冶金、真空鍍膜。
同步更新日期	2023-07-22

序號

5874

產出年度

101

技術名稱-中文

非銦透明導電薄膜材料與低溫薄膜製程技術

執行單位

工研院南分院

產出單位

(空)

計畫名稱

南部新興產業發展關鍵技術計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

本技術製備出粒徑平均之GZO粉體，透過造粒、壓胚和燒結等步驟，獲得高緻密度靶材。再利用高密度電弧離子蒸鍍系統進行鍍膜，可在低溫（120℃）下得到高結晶性及高品質的GZO薄膜，免除現行濺鍍製程薄膜需要再經由熱處理才能獲得高結晶性薄膜的後續處理。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

GZO奈米粉體之粉體粒徑80~90 nm，3英吋GZO靶材相對密度99.6%。製程溫度=120℃時，GZO薄膜的電阻率(ρ)=5.62×10-4Ω-cm、片電阻為10.6 Ω/□、平均穿透率T=89.5%電阻均勻度為

技術成熟度

雛型

可應用範圍

ZnO-based透明導電膜、靶材、面板、精密機械製造業。

潛力預估

主要合作廠商如靶材廠與面板廠。

聯絡人員

許禎紋

電話

06-3847277

傳真

06-3847288

電子信箱

janice.hsu@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720

所須軟硬體設備

化學合成設備、冷均壓設備、燒結設備、真空度迷系統。

需具備之專業人才

粉末冶金、真空鍍膜。

同步更新日期

2023-07-22

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# 06-3847277 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號	5875
產出年度	101
技術名稱-中文	低雙折射率聚酯材料
執行單位	工研院南分院
產出單位	(空)
計畫名稱	南部新興產業發展關鍵技術計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	本技術開發低雙折射聚酯材料，建立合成、加工至延伸等一貫化薄膜開發系統，開發之薄膜材料未來能衍生應用於如擴散膜、相位差膜及光電用薄膜等產品。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	開發共聚酯材料PEAD、與PMTD，IV>0.7，薄膜尺寸安定溫度128.4~129.2℃，光學等向性(@入射角50)分別為71.5 nm、41.7 nm與9.9 nm皆小於PET者，薄膜透光度89.2~90.5%。
技術成熟度	雛型
可應用範圍	LCD光學保護膜、離型膜、增亮膜與低雙折射率、高尺寸安定性之光學級軟性基板等。
潛力預估	主要合作廠商如光學膜廠，預估光學聚酯薄膜之年產值可達125億。
聯絡人員	許禎紋
電話	06-3847277
傳真	06-3847288
電子信箱	janice.hsu@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720
所須軟硬體設備	聚酯反應槽、雙螺桿押出機、薄膜押出設備及薄膜延伸設備。
需具備之專業人才	化工、材料、高分子相關人才。

序號: 5875

產出年度: 101

技術名稱-中文: 低雙折射率聚酯材料

執行單位: 工研院南分院

產出單位: (空)

計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 本技術開發低雙折射聚酯材料，建立合成、加工至延伸等一貫化薄膜開發系統，開發之薄膜材料未來能衍生應用於如擴散膜、相位差膜及光電用薄膜等產品。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 開發共聚酯材料PEAD、與PMTD，IV>0.7，薄膜尺寸安定溫度128.4~129.2℃，光學等向性(@入射角50)分別為71.5 nm、41.7 nm與9.9 nm皆小於PET者，薄膜透光度89.2~90.5%。

技術成熟度: 雛型

可應用範圍: LCD光學保護膜、離型膜、增亮膜與低雙折射率、高尺寸安定性之光學級軟性基板等。

潛力預估: 主要合作廠商如光學膜廠，預估光學聚酯薄膜之年產值可達125億。

聯絡人員: 許禎紋

電話: 06-3847277

傳真: 06-3847288

電子信箱: janice.hsu@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720

所須軟硬體設備: 聚酯反應槽、雙螺桿押出機、薄膜押出設備及薄膜延伸設備。

需具備之專業人才: 化工、材料、高分子相關人才。

# 06-3847277 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號	5876
產出年度	101
技術名稱-中文	耐熱型PMMA材料
執行單位	工研院南分院
產出單位	(空)
計畫名稱	南部新興產業發展關鍵技術計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	PMMA材料具有優異光學性質，亦是顯示器重要零組件之一，產品應用深入各領域，本研究透過壓克力單體改質，增韌粒子合成，以及高分子鏈段設計，提升PMMA材料柔韌性、耐熱性，降低吸水率，開發可應用於各類光學產品之PMMA光學薄膜。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	材料抗拉伸強度46~68MPa，Tg>120°C，吸水率
技術成熟度	實驗室階段
可應用範圍	光學膜：高全光線透過率，高耐候性，可應用於各類光學電子產品。偏光板：可取代TAC膜，預估可節省約30~50%。應用於太陽能集光板之前板，具極佳耐候性及耐衝擊力。
潛力預估	主要合作廠商如光學膜廠，預估未來市場需求日增，每年可達30億元。
聯絡人員	許禎紋
電話	06-3847277
傳真	06-3847288
電子信箱	janice.hsu@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720
所須軟硬體設備	高扭力攪拌設備、薄膜壓出機。
需具備之專業人才	高分子相關、光電相關人才。

序號: 5876

產出年度: 101

技術名稱-中文: 耐熱型PMMA材料

執行單位: 工研院南分院

產出單位: (空)

計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: PMMA材料具有優異光學性質，亦是顯示器重要零組件之一，產品應用深入各領域，本研究透過壓克力單體改質，增韌粒子合成，以及高分子鏈段設計，提升PMMA材料柔韌性、耐熱性，降低吸水率，開發可應用於各類光學產品之PMMA光學薄膜。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 材料抗拉伸強度46~68MPa，Tg>120°C，吸水率

技術成熟度: 實驗室階段

可應用範圍: 光學膜：高全光線透過率，高耐候性，可應用於各類光學電子產品。偏光板：可取代TAC膜，預估可節省約30~50%。應用於太陽能集光板之前板，具極佳耐候性及耐衝擊力。

潛力預估: 主要合作廠商如光學膜廠，預估未來市場需求日增，每年可達30億元。

聯絡人員: 許禎紋

電話: 06-3847277

傳真: 06-3847288

電子信箱: janice.hsu@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720

所須軟硬體設備: 高扭力攪拌設備、薄膜壓出機。

需具備之專業人才: 高分子相關、光電相關人才。

# 06-3847277 於經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號	5877
產出年度	101
技術名稱-中文	奈米孔洞碳電極材料與超級電容技術
執行單位	工研院南分院
產出單位	(空)
計畫名稱	南部新興產業發展關鍵技術計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	本技術製備三維網絡奈米孔洞碳電極，調控微孔-中孔-大孔之孔洞結構，提升表面積，以因應超級電容器的需求。配合工研院開發之離子液体膠固態電解質，可得到能量密度較大之超級電容單元，以廣泛應用於儲電系統。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	奈米孔洞碳電極材料表面積>2000 m2/g，三維網絡結構含微孔(d50nm)，電荷儲存容量>250F/g，捲繞式超級電容單元組裝，能量密度>50Wh/kg。
技術成熟度	雛型
可應用範圍	超級電容器電極材料。
潛力預估	主要合作廠商如超級電容製造廠，國內市場產值每年約20億元，後續成長可期。
聯絡人員	許禎紋
電話	06-3847277
傳真	06-3847288
電子信箱	janice.hsu@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720
所須軟硬體設備	化學合成設備、高溫碳化設備、碳電極鍍膜設備、超級電容元件組裝設備。
需具備之專業人才	化工、材料、電化學、儲電技術相關人才。

序號: 5877

產出年度: 101

技術名稱-中文: 奈米孔洞碳電極材料與超級電容技術

執行單位: 工研院南分院

產出單位: (空)

計畫名稱: 南部新興產業發展關鍵技術計畫

領域: (空)

已申請專利之國家: (空)

已獲得專利之國家: (空)

技術現況敘述-中文: 本技術製備三維網絡奈米孔洞碳電極，調控微孔-中孔-大孔之孔洞結構，提升表面積，以因應超級電容器的需求。配合工研院開發之離子液体膠固態電解質，可得到能量密度較大之超級電容單元，以廣泛應用於儲電系統。

技術現況敘述-英文: (空)

技術規格: 奈米孔洞碳電極材料表面積>2000 m2/g，三維網絡結構含微孔(d50nm)，電荷儲存容量>250F/g，捲繞式超級電容單元組裝，能量密度>50Wh/kg。

技術成熟度: 雛型

可應用範圍: 超級電容器電極材料。

潛力預估: 主要合作廠商如超級電容製造廠，國內市場產值每年約20億元，後續成長可期。

聯絡人員: 許禎紋

電話: 06-3847277

傳真: 06-3847288

電子信箱: janice.hsu@itri.org.tw

參考網址: http://www.itri.org.tw/chi/is/p3.asp?RootNodeId=070&NavRootNodeId=071&nodeid=0720

所須軟硬體設備: 化學合成設備、高溫碳化設備、碳電極鍍膜設備、超級電容元件組裝設備。

需具備之專業人才: 化工、材料、電化學、儲電技術相關人才。

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一種使用雷射植入奈米碳管場發射子之製程方法	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 奈米碳管直徑:10μm \| 潛力預估: 可搶攻FPD市場，極具市場淺力
光開關對光平台技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 解析度：XYZ≦10nm、qx、qy、qz≦0.001度, 對位精度：0.1μm \| 潛力預估: 提高生產效益, 良率與品質, 降低人力成本
精密雷射加工控制技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 視窗環境人機介面顯示 /檔案管理 /加工路徑顯示 /翻、排版指令 /中斷點重新啟動功能 \| 潛力預估: 具備畫面瀏覽器功能，可由機器製造商自由編輯設定顯示畫面以增加系統專有特色功能，提高市場競爭力。
馬達直驅式旋轉主軸頭	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: C/A旋轉速度:60rpm_x000D_；C/A軸定位精度:10秒_x000D_；主軸轉速:15000rpm \| 潛力預估: 目前國內並無相關專業製造廠
精密微量射出成型和自動化技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 鎖模力:3～6噸；射出速度≧ 800 mm/sec；模板平行度≦20μm_x000D_；成品重量誤差≦0.1%；脫模與取出模組；堆疊模組；粉末微射出成型模組 \| 潛力預估: 本技術所指之微量射出成型技術，係指製作幾何外形以及重量皆屬微小級之產品，一般以小於10噸之射出成型機來成型。
半導體隔離應用技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 符合SEMI標準；潔淨等級Class 1或更佳；表面阻抗≦10^5 Ohms/sq；MCBF＞25,000次。 \| 潛力預估: 提供晶圓廠中光罩儲存傳送及載入機台更物美價廉的解決方案
2.0L/1.8L/1.6L汽車模組化引擎技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 型式：DOHC 直列4缸，引擎長度：536 mm，排氣量：1998c.c.，缸徑：86 mm，行程：86 mm，汽門數：每缸4閥，壓縮比：10.0，燃油：95 RON，冷卻方式：水冷，最大馬力：108... \| 潛力預估: 乾式汽缸套全鋁合金汽缸體設計發展技術、VVT系統整合應用技術、EGR系統整合應用技術、NLEV引擎設計及EMS整合應用技術
四行程125 C.C.水冷式機車引擎雛型機	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 排氣量：125 C.C. 點火方式：CDI_x000D_，供油方式：化油器冷卻方式：水冷式_x000D_，傳動方式：CVT 汽門數：2閥_x000D_，馬力7.0 kw/7500 rpm ，扭力10... \| 潛力預估: 建立四行程水冷式速克達機車引擎，含CVT匹配設計發展技術
1.2L四行程汽車引擎與後輪傳動五速手排變速箱雛型機	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 引擎：1200 c.c. 8汽門、水冷、直列四缸、微電腦控制多點式噴油。馬力50.6 kW/6000 rpm、扭力102 Nm/4500 rpm。變速箱：後輪傳動、五速手排單桿式換擋機構，具備擴充四... \| 潛力預估: 曲軸系及閥門系工程輔助分析、零組件專業工程資訊同步整合及配合發展,建立四行程水冷式速克達機車引擎，含CVT匹配設計發展技術,引擎管理系統調教及發展
大排氣量250C.C.機車雛型引擎開發	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 排氣量：250 CC 型式：V型汽缸_x000D_，閥門系統：4閥雙凸輪軸/缸，燃油系統：雙化油器_x000D_，冷卻系統：水冷式變速箱：國際檔六檔_x000D_，最大馬力﹕20.0kW@10... \| 潛力預估: 國內首具多缸V型結構之機車引擎，最大馬力轉速超過10000轉，單位輸出馬力達80kW/l、最高轉速13000rpm
四行程泛用小引擎雛型機	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 排氣量：26 CC _x000D_，點火方式：TCI _x000D_，供油方式：膜片式化油器 _x000D_，冷卻系統：氣冷式_x000D_，閥系統：2閥OHV設計 _x000D_，馬力0.53kW/... \| 潛力預估: 小型、輕量化與高轉速運轉之OHV閥系統設計，濕式機油潤滑系統，設計簡單，信賴度高，並可多角度翻轉使用
小引擎微電腦引擎管理系統	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 小引擎微電腦管理系統，涵蓋引擎控制策略、流程與程式軟體、引擎控制器硬體_x000D_。八位元微電腦控制器，具備下列功能:1.燃油控制：啟動控制、正常控制、加速控制、減速控制、切油控制、補償控制_x00... \| 潛力預估: 開迴路燃油控制或閉迴路燃油控制及機車引擎點火控制
微脈動噴油技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 陣列微泵浦：熱泡式無閥構造，晶片尺寸5.5x7.8mm，設80個微泵浦，噴孔徑80μm，可使用無鉛汽油。陣列微孔噴射泵浦：壓電板式無閥結構，噴孔板14x17mm，噴孔徑50μm，可噴射汽油_x000D... \| 潛力預估: 已可採用壓電板式微泵浦的架構，預期系統的穩定度、成本和效能將比熱泡式者為優應用噴嘴與擴散孔的流阻差異之特性,配合環繞式微流道設計與流體最佳參數調校,大幅提昇陣列微泵浦單位面積最大噴射量。利用迴流式負壓...
自行車傳/制動系統技術	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 27速Index System, 內變速器, Roller Brake；HCF動態疲勞測試；整車煞車系統測試(DIN-79100) \| 潛力預估: 運用系統化的創新專利設計流程，有效建立產品之專利技術。建立傳/制動系統功能驗證技術，作為發展系統設計之基礎
自行車電動助力模組	執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 先進車輛系統關鍵技術發展計畫 \| 領域: \| 技術規格: 無刷馬達：350W_x000D_，輔助方式：比例式、純電動模式 \| 潛力預估: 多重行車輔助模式，建立整車煞車系統功能驗證技術，作為發展系統設計之基礎