混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料
- 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料的執行單位是工研院材化所, 產出年度是105, 計畫名稱是民生福祉領域工業基礎技術研究計畫, 領域是民生福祉, 技術規格是黑色光阻液技術規格:粒徑 ≦ 150 nm、Zeta電位 = ± 0~2 mV、黏度 ≦ 100 cP、表面阻抗 ≧ 1010 (Ω/□), 潛力預估是1.新型乳化聚合技術,可製作高均勻、高圓度包覆碳黑粉體材料。2.低黏度黑色光阻液,可塗佈薄型黑色光阻膜。3.完整黃光微影平台,可供業者進行BM圖案化與驗證分析。.

序號8083
產出年度105
技術名稱-中文混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域民生福祉
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文觸控面板表面蓋板需有一層遮光邊框層,其材料為黑色矩陣光阻層(BM)。但薄型觸控面板(如OGS、SSG,…等)通常在高溫硬烤後,會降低BM表面阻抗,導致trace金屬線部份導通,而影響訊號。所以BM之黑色色料亟需要具有高絕緣表面之碳黑。本發明揭露一種高絕緣混成碳黑,包含:一碳黑核心,以及一網狀交聯高分子膜,其中該網狀交聯高分子膜係由一組合物經交聯所得之產物所組成。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格黑色光阻液技術規格:粒徑 ≦ 150 nm、Zeta電位 = ± 0~2 mV、黏度 ≦ 100 cP、表面阻抗 ≧ 1010 (Ω/□)
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍LCD面板、觸控面板
潛力預估1.新型乳化聚合技術,可製作高均勻、高圓度包覆碳黑粉體材料。2.低黏度黑色光阻液,可塗佈薄型黑色光阻膜。3.完整黃光微影平台,可供業者進行BM圖案化與驗證分析。
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真-
電子信箱ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址http://-
所須軟硬體設備研磨分散/光阻合成產業相關
需具備之專業人才-
同步更新日期2023-07-22

序號

8083

產出年度

105

技術名稱-中文

混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料

執行單位

工研院材化所

產出單位

(空)

計畫名稱

民生福祉領域工業基礎技術研究計畫

領域

民生福祉

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

觸控面板表面蓋板需有一層遮光邊框層,其材料為黑色矩陣光阻層(BM)。但薄型觸控面板(如OGS、SSG,…等)通常在高溫硬烤後,會降低BM表面阻抗,導致trace金屬線部份導通,而影響訊號。所以BM之黑色色料亟需要具有高絕緣表面之碳黑。本發明揭露一種高絕緣混成碳黑,包含:一碳黑核心,以及一網狀交聯高分子膜,其中該網狀交聯高分子膜係由一組合物經交聯所得之產物所組成。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

黑色光阻液技術規格:粒徑 ≦ 150 nm、Zeta電位 = ± 0~2 mV、黏度 ≦ 100 cP、表面阻抗 ≧ 1010 (Ω/□)

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

LCD面板、觸控面板

潛力預估

1.新型乳化聚合技術,可製作高均勻、高圓度包覆碳黑粉體材料。2.低黏度黑色光阻液,可塗佈薄型黑色光阻膜。3.完整黃光微影平台,可供業者進行BM圖案化與驗證分析。

聯絡人員

吳清茂

電話

03-5918245

傳真

-

電子信箱

ChingMaoWu@itri.org.tw

參考網址

http://-

所須軟硬體設備

研磨分散/光阻合成產業相關

需具備之專業人才

-

同步更新日期

2023-07-22

根據名稱 混成碳黑 及包含其之塗佈組合物與遮光材料 找到的相關資料

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# 混成碳黑 及包含其之塗佈組合物與遮光材料 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號17434
產出年度105
領域別民生福祉
專利名稱-中文混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料
執行單位工研院材化所
產出單位工研院材化所
計畫名稱民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
專利發明人吳清茂 ,林思吟
核准國家中華民國
獲證日期105/02/23
證書號碼I519608
專利期間起105/02/01
專利期間訖122/12/26
專利性質發明
技術摘要-中文碳黑表面包覆層製作技術
技術摘要-英文(空)
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真03-5820215
電子信箱chingmaowu@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 17434
產出年度: 105
領域別: 民生福祉
專利名稱-中文: 混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料
執行單位: 工研院材化所
產出單位: 工研院材化所
計畫名稱: 民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
專利發明人: 吳清茂 ,林思吟
核准國家: 中華民國
獲證日期: 105/02/23
證書號碼: I519608
專利期間起: 105/02/01
專利期間訖: 122/12/26
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 碳黑表面包覆層製作技術
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 吳清茂
電話: 03-5918245
傳真: 03-5820215
電子信箱: chingmaowu@itri.org.tw
參考網址: (空)
備註: (空)
特殊情形: (空)

# 混成碳黑 及包含其之塗佈組合物與遮光材料 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號17437
產出年度105
領域別民生福祉
專利名稱-中文混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料
執行單位工研院材化所
產出單位工研院材化所
計畫名稱民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
專利發明人吳清茂 ,林思吟
核准國家美國
獲證日期105/07/28
證書號碼9,359,483
專利期間起105/06/07
專利期間訖124/01/14
專利性質發明
技術摘要-中文碳黑表面包覆層製作技術
技術摘要-英文(空)
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真03-5820215
電子信箱chingmaowu@itri.org.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
序號: 17437
產出年度: 105
領域別: 民生福祉
專利名稱-中文: 混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料
執行單位: 工研院材化所
產出單位: 工研院材化所
計畫名稱: 民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
專利發明人: 吳清茂 ,林思吟
核准國家: 美國
獲證日期: 105/07/28
證書號碼: 9,359,483
專利期間起: 105/06/07
專利期間訖: 124/01/14
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 碳黑表面包覆層製作技術
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 吳清茂
電話: 03-5918245
傳真: 03-5820215
電子信箱: chingmaowu@itri.org.tw
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# 03-5918245 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 1

序號6852
產出年度103
技術名稱-中文機能性顏料混合分散技術
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域民生福祉
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術係開發一種混成碳黑及其黑色光阻組成物,其中包括,一網狀交聯高分子膜,完全包覆該碳黑核心之所有表面,其中該網狀交聯高分子膜係由一組合物經交聯所得之產物所組成。 工作項目: -裸碳黑高均質微細化與碎形型態調控 -交聯高分子殼膜聚合合成與製程優化 -高絕緣交聯型單體配方設計
技術現況敘述-英文(空)
技術規格-Particle size/PDI: ≦130 (nm), PDI≦ 0.2 -Zeta potential: ± 0~2 mV -Mass fractal dimension (Dm): Dm=2~3 -Film Surface Resistance: 10^12~10^14 (Ω/□)
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍本計畫建立之機能性顏料混合分散技術,可協助國內業者深耕高安定與高顯色奈米級顏料之製作能力,目前該技術可應於高絕緣/高耐熱BM邊框材料領域發展。
潛力預估-
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真03-5910035
電子信箱ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址-
所須軟硬體設備-
需具備之專業人才-
序號: 6852
產出年度: 103
技術名稱-中文: 機能性顏料混合分散技術
執行單位: 工研院材化所
產出單位: (空)
計畫名稱: 民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域: 民生福祉
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 本技術係開發一種混成碳黑及其黑色光阻組成物,其中包括,一網狀交聯高分子膜,完全包覆該碳黑核心之所有表面,其中該網狀交聯高分子膜係由一組合物經交聯所得之產物所組成。 工作項目: -裸碳黑高均質微細化與碎形型態調控 -交聯高分子殼膜聚合合成與製程優化 -高絕緣交聯型單體配方設計
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: -Particle size/PDI: ≦130 (nm), PDI≦ 0.2 -Zeta potential: ± 0~2 mV -Mass fractal dimension (Dm): Dm=2~3 -Film Surface Resistance: 10^12~10^14 (Ω/□)
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 本計畫建立之機能性顏料混合分散技術,可協助國內業者深耕高安定與高顯色奈米級顏料之製作能力,目前該技術可應於高絕緣/高耐熱BM邊框材料領域發展。
潛力預估: -
聯絡人員: 吳清茂
電話: 03-5918245
傳真: 03-5910035
電子信箱: ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址: -
所須軟硬體設備: -
需具備之專業人才: -

# 03-5918245 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 2

序號7411
產出年度104
技術名稱-中文機能性顏料混合分散技術
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域民生福祉
已申請專利之國家中華民國
已獲得專利之國家
技術現況敘述-中文(1)目前國內觸控面板業者使用邊框黑色光阻色膏用量高達145噸/年(~29億/年),但製程浪費用量達6~7成。 (2)因應薄型化OGS/OPS/SSG以及On-cell觸控面板,需要可spin塗佈微影之高耐熱與高絕緣之黑色光阻 ,而不是網印製程之高黏度黑色色膏。 (3)本技術係開發一種混成碳黑及其黑色光阻組成物,其中包括,一網狀交聯高分子膜,完全包覆該碳黑核心之所有表面,其中該網狀交聯高分子膜係由一組合物經交聯所得之產物所組成。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格Particle size/PDI: ≦130 (nm), PDI≦ 0.2 -Zeta potential: ± 0~2 mV -Mass fractal dimension (Dm): Dm=2~3 -Film Surface Resistance: 10^12~10^14 (Ω/sq)
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍顏料分散、黑色光阻、Black Matrix材料、觸控面板/LCD面板相關製造業
潛力預估本計畫建立之機能性顏料混合分散技術,可協助國內業者深耕高安定與高顯色奈米級顏料之製作能力,目前該技術可應於高絕緣/高耐熱BM邊框材料領域發展。
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真03-5912805
電子信箱ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備奈米研磨機
需具備之專業人才顏料分散人才
序號: 7411
產出年度: 104
技術名稱-中文: 機能性顏料混合分散技術
執行單位: 工研院材化所
產出單位: (空)
計畫名稱: 民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域: 民生福祉
已申請專利之國家: 中華民國
已獲得專利之國家:
技術現況敘述-中文: (1)目前國內觸控面板業者使用邊框黑色光阻色膏用量高達145噸/年(~29億/年),但製程浪費用量達6~7成。 (2)因應薄型化OGS/OPS/SSG以及On-cell觸控面板,需要可spin塗佈微影之高耐熱與高絕緣之黑色光阻 ,而不是網印製程之高黏度黑色色膏。 (3)本技術係開發一種混成碳黑及其黑色光阻組成物,其中包括,一網狀交聯高分子膜,完全包覆該碳黑核心之所有表面,其中該網狀交聯高分子膜係由一組合物經交聯所得之產物所組成。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: Particle size/PDI: ≦130 (nm), PDI≦ 0.2 -Zeta potential: ± 0~2 mV -Mass fractal dimension (Dm): Dm=2~3 -Film Surface Resistance: 10^12~10^14 (Ω/sq)
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 顏料分散、黑色光阻、Black Matrix材料、觸控面板/LCD面板相關製造業
潛力預估: 本計畫建立之機能性顏料混合分散技術,可協助國內業者深耕高安定與高顯色奈米級顏料之製作能力,目前該技術可應於高絕緣/高耐熱BM邊框材料領域發展。
聯絡人員: 吳清茂
電話: 03-5918245
傳真: 03-5912805
電子信箱: ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址:
所須軟硬體設備: 奈米研磨機
需具備之專業人才: 顏料分散人才

# 03-5918245 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 3

序號7543
產出年度104
技術名稱-中文圖案轉寫材料設計與驗證技術
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫
領域智慧科技
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文本技術計畫建立建立奈米壓印用軟模材料設計與驗證平台技術,包括:(1) 新型UV型含氟混成樹脂材料配方設計篩選機制;(2) Polymeric stamp系奈米圖案翻模/離型製程最適化、圖案尺寸誤差分析。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格1.光硬化型之含氟樹脂材料。2.尺寸安定 性(ΔL) < 20 %。3.轉印尺度:Pitch 200~400 nm﹔Line/Height~ 100~200nm/100~200nm
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍本技術可應用於抗油水 & 光擴散 多功能光學膜、可拋棄式奈米壓印轉寫軟模。
潛力預估1.提升國內業者次微米級高分子軟模轉寫能力。 2.協助業者建立表面型態與變溫尺寸安定性驗證技術。
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真03-5835087
電子信箱ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備光電產業廠商
需具備之專業人才化學、化工相關背景人才
序號: 7543
產出年度: 104
技術名稱-中文: 圖案轉寫材料設計與驗證技術
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫
領域: 智慧科技
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 本技術計畫建立建立奈米壓印用軟模材料設計與驗證平台技術,包括:(1) 新型UV型含氟混成樹脂材料配方設計篩選機制;(2) Polymeric stamp系奈米圖案翻模/離型製程最適化、圖案尺寸誤差分析。
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 1.光硬化型之含氟樹脂材料。2.尺寸安定 性(ΔL) < 20 %。3.轉印尺度:Pitch 200~400 nm﹔Line/Height~ 100~200nm/100~200nm
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 本技術可應用於抗油水 & 光擴散 多功能光學膜、可拋棄式奈米壓印轉寫軟模。
潛力預估: 1.提升國內業者次微米級高分子軟模轉寫能力。 2.協助業者建立表面型態與變溫尺寸安定性驗證技術。
聯絡人員: 吳清茂
電話: 03-5918245
傳真: 03-5835087
電子信箱: ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址:
所須軟硬體設備: 光電產業廠商
需具備之專業人才: 化學、化工相關背景人才

# 03-5918245 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 4

序號8103
產出年度105
技術名稱-中文機能性顏料混合分散技術
執行單位工研院材化所
產出單位(空)
計畫名稱民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域民生福祉
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文開發一具有分散鏈功能之高絕緣高耐熱碳黑粉體,除可提高黑色光阻絕緣性外,亦可調整光阻液流變性。已完成混成碳黑分散鏈合成技術、高絕緣交聯型單體配方設計、高絕緣黑色光阻配方優化、黑色光阻圖案化微影驗證
技術現況敘述-英文(空)
技術規格粒徑 = 100 ~ 250 nm、Zeta電位 = ± 0~2 mV、黏度 ≦ 10 cP、表面阻抗 ≧ 1010 (Ω/sq)、光學密度 ≧ 2.0
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍顏料分散、黑色光阻、觸控面板/LCD面板相關製造業
潛力預估本計畫建立之顏料分散鏈合成技術,可協助國內業者深耕高安定與高顯色奈米級顏料之製作能力,目前該技術可應於高絕緣/高耐熱BM材料領域發展
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真-
電子信箱ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址-
所須軟硬體設備奈米研磨機
需具備之專業人才顏料分散、光阻合成人才
序號: 8103
產出年度: 105
技術名稱-中文: 機能性顏料混合分散技術
執行單位: 工研院材化所
產出單位: (空)
計畫名稱: 民生福祉領域工業基礎技術研究計畫
領域: 民生福祉
已申請專利之國家: (空)
已獲得專利之國家: (空)
技術現況敘述-中文: 開發一具有分散鏈功能之高絕緣高耐熱碳黑粉體,除可提高黑色光阻絕緣性外,亦可調整光阻液流變性。已完成混成碳黑分散鏈合成技術、高絕緣交聯型單體配方設計、高絕緣黑色光阻配方優化、黑色光阻圖案化微影驗證
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: 粒徑 = 100 ~ 250 nm、Zeta電位 = ± 0~2 mV、黏度 ≦ 10 cP、表面阻抗 ≧ 1010 (Ω/sq)、光學密度 ≧ 2.0
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: 顏料分散、黑色光阻、觸控面板/LCD面板相關製造業
潛力預估: 本計畫建立之顏料分散鏈合成技術,可協助國內業者深耕高安定與高顯色奈米級顏料之製作能力,目前該技術可應於高絕緣/高耐熱BM材料領域發展
聯絡人員: 吳清茂
電話: 03-5918245
傳真: -
電子信箱: ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址: -
所須軟硬體設備: 奈米研磨機
需具備之專業人才: 顏料分散、光阻合成人才

# 03-5918245 於 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集 - 5

序號8218
產出年度105
技術名稱-中文圖案轉寫材料設計技術
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院環境建構總計畫
領域智慧科技
已申請專利之國家
已獲得專利之國家
技術現況敘述-中文開發高轉寫率、微奈米結構等材料技術驗證平台技術。協助業者能快速精準驗證材料的高轉寫率性能
技術現況敘述-英文(空)
技術規格?熱硬化型樹脂材料 ?尺寸安定性(ΔL) < 20 % ?轉印尺度 ≦ 2 μm (依PSS-Mask圖案而定) ?透光度 ≧ 85%
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍LED藍寶石基板相關製造業
潛力預估提升國內業者次微米級高分子軟模轉寫能力,以及協助業者建立表面型態與變溫尺寸安定性驗證技術。
聯絡人員吳清茂
電話03-5918245
傳真
電子信箱ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備可控溫與高真空壓印機、乾式蝕刻機 及相關製程人才
需具備之專業人才可控溫與高真空壓印機、乾式蝕刻機 及相關製程人才
序號: 8218
產出年度: 105
技術名稱-中文: 圖案轉寫材料設計技術
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院環境建構總計畫
領域: 智慧科技
已申請專利之國家:
已獲得專利之國家:
技術現況敘述-中文: 開發高轉寫率、微奈米結構等材料技術驗證平台技術。協助業者能快速精準驗證材料的高轉寫率性能
技術現況敘述-英文: (空)
技術規格: ?熱硬化型樹脂材料 ?尺寸安定性(ΔL) < 20 % ?轉印尺度 ≦ 2 μm (依PSS-Mask圖案而定) ?透光度 ≧ 85%
技術成熟度: 實驗室階段
可應用範圍: LED藍寶石基板相關製造業
潛力預估: 提升國內業者次微米級高分子軟模轉寫能力,以及協助業者建立表面型態與變溫尺寸安定性驗證技術。
聯絡人員: 吳清茂
電話: 03-5918245
傳真:
電子信箱: ChingMaoWu@itri.org.tw
參考網址:
所須軟硬體設備: 可控溫與高真空壓印機、乾式蝕刻機 及相關製程人才
需具備之專業人才: 可控溫與高真空壓印機、乾式蝕刻機 及相關製程人才
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與混成碳黑、及包含其之塗佈組合物與遮光材料同分類的經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

高介電值閘極介電物技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 高介電常數:k>20,等效厚度小於1.4奈米,漏電流小於氧化矽3個數量級 | 潛力預估: 本技術是與應變電子具潛力的CMOS前瞻技術

相變化記憶體元件與製程技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 提升相變化薄膜與電極之間的附著力達到 40Mpa、設計縮減記憶胞之電極接觸面積小於 8750nm2。 | 潛力預估: OUM是未來可取代Flash之新興記憶體,最令人注目的新記憶體,成長空間極大

應變矽CMOS元件與製程技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 矽鍺虛擬基材製程技術開發 - 膜厚 < 1.0um, 線穿缺陷密度 < 104~5/cm2 載子移動率增效 – 電子 > 60%, 電洞> 60% | 潛力預估: 本技術是High-k具潛力的CMOS前瞻技術

應變矽製程技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 具離子佈植之氮化矽薄膜做為應力源之製程技術- 氮化矽膜厚 < 100nm, 佈植元素為一般半導體常用之元素,可與CMOS製程相容 | 潛力預估: 本技術是與High-k具潛力的CMOS千瞻技術

無鉛製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1.材料, 鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%, 鹵素含量 小於900ppm 2.產品定點含鉛量檢測與分析標準 | 潛力預估: 市場規模包含IC設計、材料、設備、製造、測試等,涵蓋所有消費性家電,市場影響之大無庸置疑。

射頻內藏被動元件之模型程式庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展計畫 | 領域: | 技術規格: 開發射頻內藏被動元件基板結構設計,包括內藏被動元件結構、內藏被動元件及寄生元件模型、元件程式庫、射頻基板材料評估應用與量測驗證,內藏被動元件射頻藍芽模組驗證。建立隨尺寸變化(Scaling Model... | 潛力預估: 印刷電路板廠可建立自己製程專屬的內藏被動元件程式庫,提供客戶設計階段導入應用之服務,提昇產業技術門檻與競爭力。

無鉛製程技術資訊平台建立

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 對於無鉛驗證標準工作之努力可從產業服務、無鉛技術輔導及可靠度驗證說明:無鉛定義(未刻意添加下,材料、鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%,鹵素含量小於900ppm)、產品定點含鉛量檢測(取樣標準與定點定義... | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS; Restriction of Hazardous Substances)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用...

加強型行動終端應用程式發展平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 適用於PDA Phone、Smart Phone等行動式終端產品之應用程式開發,包括下列各項軟體技術: 行動應用程式開發模組、行動應用開發模擬器、應用程式監控/除錯套件、行動終端環境管理工具、行動應用... | 潛力預估: 為國內少數自行開發整合之應用程式開發平台,提供包括Java、WAP WML及Native C應用程式開發,具備完整的原始碼,除配合英華達MAP業界科專第三代手機平台技術研發外,將來更可作為其它個人電...

行動服務交付平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: Compliant to OMA DRM 1.0 standard、Compliant to Nokia/Ericsson DRM spec、Support OMA DRM Delivery meth... | 潛力預估: 建立國內研發行動數位內容保護的核心技術與能量、可以有效取代進口,降低製造廠商生產成本、提供國內廠商既有產品的加值功能,以最經濟的方式升級成為具備DRM功能的終端裝置、可針對特殊應用需求,進行客製化設計

行動終端垂直應用平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: J2ME JSR180 SIP API:1.Support peer-to-peer model、2.protocol for communication services;Responsive KV... | 潛力預估: 提升本國Smart Mobile IP Phone製造商之嵌入式軟體自製率3%,降低5%的生產成本,縮短10%的Time-to-market,提升產品出貨量達3%。

行動影音傳輸整合工具

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 受限於頻寬與行動裝置的能力,多媒體內容在行動裝置上的應用一直受限,目前警局限於靜態圖片與語音資料。本技術提供有效率、高畫質之行動裝置多媒體solution,保含多媒體簡訊、視訊壓縮、視訊轉碼、視訊串流... | 潛力預估: 協助技轉廠商運用MPEG4影音技術研發成果,開發視訊會議、視訊編輯、PDA軟體、手機線上遊戲等多媒體軟體及視訊晶片產品,自主掌握關鍵技術,降低國內廠商產品開發成本。

行動終端平台3D線上互動引擎

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 行動終端平台 3D 場景漸進載入技術、行動終端平台 3D 物件場景管理技術、行動終端平台自動貼圖資源管理技術、行動網路環境 3D 內容下載技術、行動網路環境線上多互動 SESSION 管理技術、行動終... | 潛力預估: 應用行動終端平台3D線上互動引擎可加速內容廠商開發時程,降低開發成本,並帶起新的手機應用程式及新一代的界面,有利國內手機廠推行其獨特的手機,提供在世界上的市佔率。

服務整合平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 網路前瞻應用技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: Service Entry, Service Registry, Message Broker, Authentication&Authorization, Identity Management, ... | 潛力預估: 本技術成果配合電子化政府共通作業平台之推行建置,將使國內電子化政府技術往前邁進一大步,並領先國外各國電子化政府。而在電子化政府共通作業平台逐步成功後,將確保本平台技術之實用性與可靠性。未來,除了國內電...

協同運作流程管理平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 網路前瞻應用技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 1.流程模塑、流程執行及流程監控的核心功能:Process Definition Designer、Process Engine、Process Monitor、Schedule 2.支援傳統工作流程... | 潛力預估: 可協助軟體廠商掌握流程管理核心技術,縮短產品開發或專案建置時程,並增進其競爭利基,進而協助企業達成流程自動化與有效管理的需求。

Wireless/Wired Ethernet Switching Technology

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 通訊軟體關鍵技術開發五年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 本系統已成功建立一套完整的L2/L3 Switching平台軟體解決方案,其所具有的特性大致區分如下:1. L2 Switch功能:主要以MAC為主之通訊協定,例如:LACP、GVRP、RSTP、MS... | 潛力預估: 由於本項技術提供Wired/Wireless Ethernet Switching完整的軟體解決方案,解決了長久以來廠商無法落實技術生根的問題,因此對於國內網路通訊產業的推廣及提昇必定有相當大的助益...

高介電值閘極介電物技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 高介電常數:k>20,等效厚度小於1.4奈米,漏電流小於氧化矽3個數量級 | 潛力預估: 本技術是與應變電子具潛力的CMOS前瞻技術

相變化記憶體元件與製程技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 提升相變化薄膜與電極之間的附著力達到 40Mpa、設計縮減記憶胞之電極接觸面積小於 8750nm2。 | 潛力預估: OUM是未來可取代Flash之新興記憶體,最令人注目的新記憶體,成長空間極大

應變矽CMOS元件與製程技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 矽鍺虛擬基材製程技術開發 - 膜厚 < 1.0um, 線穿缺陷密度 < 104~5/cm2 載子移動率增效 – 電子 > 60%, 電洞> 60% | 潛力預估: 本技術是High-k具潛力的CMOS前瞻技術

應變矽製程技術

執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 具離子佈植之氮化矽薄膜做為應力源之製程技術- 氮化矽膜厚 < 100nm, 佈植元素為一般半導體常用之元素,可與CMOS製程相容 | 潛力預估: 本技術是與High-k具潛力的CMOS千瞻技術

無鉛製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 1.材料, 鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%, 鹵素含量 小於900ppm 2.產品定點含鉛量檢測與分析標準 | 潛力預估: 市場規模包含IC設計、材料、設備、製造、測試等,涵蓋所有消費性家電,市場影響之大無庸置疑。

射頻內藏被動元件之模型程式庫技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展計畫 | 領域: | 技術規格: 開發射頻內藏被動元件基板結構設計,包括內藏被動元件結構、內藏被動元件及寄生元件模型、元件程式庫、射頻基板材料評估應用與量測驗證,內藏被動元件射頻藍芽模組驗證。建立隨尺寸變化(Scaling Model... | 潛力預估: 印刷電路板廠可建立自己製程專屬的內藏被動元件程式庫,提供客戶設計階段導入應用之服務,提昇產業技術門檻與競爭力。

無鉛製程技術資訊平台建立

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院材料與化工領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 對於無鉛驗證標準工作之努力可從產業服務、無鉛技術輔導及可靠度驗證說明:無鉛定義(未刻意添加下,材料、鍍層與銲點含鉛量小於0.1wt%,鹵素含量小於900ppm)、產品定點含鉛量檢測(取樣標準與定點定義... | 潛力預估: 隨著歐盟(EU)通過2006年7月有害物質禁用(RoHS; Restriction of Hazardous Substances)之指令。此禁令將有效禁止電子類產品中之鉛含量,衝擊之大涵蓋所有使用...

加強型行動終端應用程式發展平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 適用於PDA Phone、Smart Phone等行動式終端產品之應用程式開發,包括下列各項軟體技術: 行動應用程式開發模組、行動應用開發模擬器、應用程式監控/除錯套件、行動終端環境管理工具、行動應用... | 潛力預估: 為國內少數自行開發整合之應用程式開發平台,提供包括Java、WAP WML及Native C應用程式開發,具備完整的原始碼,除配合英華達MAP業界科專第三代手機平台技術研發外,將來更可作為其它個人電...

行動服務交付平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: Compliant to OMA DRM 1.0 standard、Compliant to Nokia/Ericsson DRM spec、Support OMA DRM Delivery meth... | 潛力預估: 建立國內研發行動數位內容保護的核心技術與能量、可以有效取代進口,降低製造廠商生產成本、提供國內廠商既有產品的加值功能,以最經濟的方式升級成為具備DRM功能的終端裝置、可針對特殊應用需求,進行客製化設計

行動終端垂直應用平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: J2ME JSR180 SIP API:1.Support peer-to-peer model、2.protocol for communication services;Responsive KV... | 潛力預估: 提升本國Smart Mobile IP Phone製造商之嵌入式軟體自製率3%,降低5%的生產成本,縮短10%的Time-to-market,提升產品出貨量達3%。

行動影音傳輸整合工具

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 受限於頻寬與行動裝置的能力,多媒體內容在行動裝置上的應用一直受限,目前警局限於靜態圖片與語音資料。本技術提供有效率、高畫質之行動裝置多媒體solution,保含多媒體簡訊、視訊壓縮、視訊轉碼、視訊串流... | 潛力預估: 協助技轉廠商運用MPEG4影音技術研發成果,開發視訊會議、視訊編輯、PDA軟體、手機線上遊戲等多媒體軟體及視訊晶片產品,自主掌握關鍵技術,降低國內廠商產品開發成本。

行動終端平台3D線上互動引擎

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 手持式設備嵌入式系統軟體技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 行動終端平台 3D 場景漸進載入技術、行動終端平台 3D 物件場景管理技術、行動終端平台自動貼圖資源管理技術、行動網路環境 3D 內容下載技術、行動網路環境線上多互動 SESSION 管理技術、行動終... | 潛力預估: 應用行動終端平台3D線上互動引擎可加速內容廠商開發時程,降低開發成本,並帶起新的手機應用程式及新一代的界面,有利國內手機廠推行其獨特的手機,提供在世界上的市佔率。

服務整合平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 網路前瞻應用技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: Service Entry, Service Registry, Message Broker, Authentication&Authorization, Identity Management, ... | 潛力預估: 本技術成果配合電子化政府共通作業平台之推行建置,將使國內電子化政府技術往前邁進一大步,並領先國外各國電子化政府。而在電子化政府共通作業平台逐步成功後,將確保本平台技術之實用性與可靠性。未來,除了國內電...

協同運作流程管理平台

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 網路前瞻應用技術發展四年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 1.流程模塑、流程執行及流程監控的核心功能:Process Definition Designer、Process Engine、Process Monitor、Schedule 2.支援傳統工作流程... | 潛力預估: 可協助軟體廠商掌握流程管理核心技術,縮短產品開發或專案建置時程,並增進其競爭利基,進而協助企業達成流程自動化與有效管理的需求。

Wireless/Wired Ethernet Switching Technology

執行單位: 資策會 | 產出年度: 93 | 產出單位: 資策會 | 計畫名稱: 通訊軟體關鍵技術開發五年計畫 | 領域: 通訊與光電 | 技術規格: 本系統已成功建立一套完整的L2/L3 Switching平台軟體解決方案,其所具有的特性大致區分如下:1. L2 Switch功能:主要以MAC為主之通訊協定,例如:LACP、GVRP、RSTP、MS... | 潛力預估: 由於本項技術提供Wired/Wireless Ethernet Switching完整的軟體解決方案,解決了長久以來廠商無法落實技術生根的問題,因此對於國內網路通訊產業的推廣及提昇必定有相當大的助益...

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