壓電管
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文壓電管的核准國家是中華民國, 證書號碼是190341, 專利性質是發明, 執行單位是工研院量測中心, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫, 專利發明人是張貴凱, 施能謙, 陳燦林.

序號614
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文壓電管
執行單位工研院量測中心
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人張貴凱 | 施能謙 | 陳燦林
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼190341
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種壓電管,適用於掃描機構中,可以提供高解析度及多樣化的操作模式,可應用於奈米級表面形貌量測機構,如一掃描探針顯微鏡(Scanning probe microscope),此壓電管(Piezo-electrical tube)具有多段分割電極,使掃描機構具有不同解析度及不同掃描區域操作模式,可針對樣品表面特徵而採用最適當之模式實施檢測,以獲得最佳表面特徵檢測影像結果。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員金娟如
電話03-5743816
傳真03-5720621
電子信箱judyking@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)

序號

614

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

壓電管

執行單位

工研院量測中心

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫

專利發明人

張貴凱 | 施能謙 | 陳燦林

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

190341

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種壓電管,適用於掃描機構中,可以提供高解析度及多樣化的操作模式,可應用於奈米級表面形貌量測機構,如一掃描探針顯微鏡(Scanning probe microscope),此壓電管(Piezo-electrical tube)具有多段分割電極,使掃描機構具有不同解析度及不同掃描區域操作模式,可針對樣品表面特徵而採用最適當之模式實施檢測,以獲得最佳表面特徵檢測影像結果。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

金娟如

電話

03-5743816

傳真

03-5720621

電子信箱

judyking@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

根據識別碼 190341 找到的相關資料

新北市三重區重新路五段333號十一樓

總價元: 21000000 | 房地(土地+建物)+車位 | 建物移轉總面積平方公尺: 141.1 | 土地移轉總面積平方公尺: 17.78 | 建築完成年月: 1130227 | 都市土地使用分區: | 建物型態: 住宅大樓(11層含以上有電梯) | 主要用途: 住家用 | 交易年月日: 1111121

@ 不動產實價登錄資訊-買賣案件

新北市三重區重新路五段333號十一樓

總價元: 21000000 | 房地(土地+建物)+車位 | 建物移轉總面積平方公尺: 141.1 | 土地移轉總面積平方公尺: 17.78 | 建築完成年月: 1130227 | 都市土地使用分區: | 建物型態: 住宅大樓(11層含以上有電梯) | 主要用途: 住家用 | 交易年月日: 1111121

@ 不動產實價登錄資訊-買賣案件

[ 搜尋所有 190341 ... ]

根據名稱 壓電管 找到的相關資料

(以下顯示 2 筆) (或要:直接搜尋所有 壓電管 ...)

壓電管掃瞄平面定位誤差修正裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I230780 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳譽元、陳燦林、張中柱、張貴凱、梁仁德

@ 技術司專利資料集

創新壓電管驅動器技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 3D nano-imaging. | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡探針市場

@ 技術司可移轉技術資料集

壓電管掃瞄平面定位誤差修正裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I230780 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳譽元、陳燦林、張中柱、張貴凱、梁仁德

@ 技術司專利資料集

創新壓電管驅動器技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: 3D nano-imaging. | 潛力預估: 可搶攻原子立顯微鏡探針市場

@ 技術司可移轉技術資料集

[ 搜尋所有 壓電管 ... ]

根據姓名 張貴凱 施能謙 陳燦林 找到的相關資料

(以下顯示 2 筆) (或要:直接搜尋所有 張貴凱 施能謙 陳燦林 ...)

力量感測器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I230791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 張貴凱、戴鴻名、施能謙、陳燦林

@ 技術司專利資料集

探針檢測裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 196398 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 施能謙, 張貴凱, 陳燦林

@ 技術司專利資料集

力量感測器

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I230791 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 張貴凱、戴鴻名、施能謙、陳燦林

@ 技術司專利資料集

探針檢測裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 196398 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 施能謙, 張貴凱, 陳燦林

@ 技術司專利資料集

[ 搜尋所有 張貴凱 施能謙 陳燦林 ... ]

根據電話 03-5743816 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5743816 ...)

高密度通道光譜影像量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm | 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足,但製程良率偏低,且檢測速度遠不及產出率,需求快速光譜檢測新一代技術,本技術可直接針對此需求提供服務。

@ 技術司可移轉技術資料集

高密度光譜分析技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm | 潛力預估: 可取代目前國外高價產品,可創造產值5億

@ 技術司可移轉技術資料集

垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 | 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器,在亞洲市場的產值每年可達數億元,其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。

@ 技術司可移轉技術資料集

3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭,尺寸/形狀空間解析度:8~15μm。(2)機台y-方向移動速度:40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

@ 技術司可移轉技術資料集

HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)空間解析度:7.7 μm。(2)深度範圍:< 200μm。 | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

@ 技術司可移轉技術資料集

三維形貌量測探頭技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度:≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 | 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。

@ 技術司可移轉技術資料集

電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 214743 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林

@ 技術司專利資料集

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184318 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄

@ 技術司專利資料集

高密度通道光譜影像量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm | 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足,但製程良率偏低,且檢測速度遠不及產出率,需求快速光譜檢測新一代技術,本技術可直接針對此需求提供服務。

@ 技術司可移轉技術資料集

高密度光譜分析技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm | 潛力預估: 可取代目前國外高價產品,可創造產值5億

@ 技術司可移轉技術資料集

垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 | 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器,在亞洲市場的產值每年可達數億元,其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。

@ 技術司可移轉技術資料集

3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭,尺寸/形狀空間解析度:8~15μm。(2)機台y-方向移動速度:40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

@ 技術司可移轉技術資料集

HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)空間解析度:7.7 μm。(2)深度範圍:< 200μm。 | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

@ 技術司可移轉技術資料集

三維形貌量測探頭技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度:≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 | 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。

@ 技術司可移轉技術資料集

電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 214743 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林

@ 技術司專利資料集

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184318 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄

@ 技術司專利資料集

[ 搜尋所有 03-5743816 ... ]

在『技術司專利資料集』資料集內搜尋:


與壓電管同分類的技術司專利資料集

氣動式微流體驅動裝置及方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6682311 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾永強, 吳得群, 郭遠峰, 黃士豪

用於陽極接合間隙物之SOG材料

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184703 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蕭名君, 蘇凱農, 李正中, 林鵬, 陳三元

用於陽極接合間隙物之SOG材料

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6617264 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蕭名君, 蘇凱農, 李正中, 林鵬, 陳三元

熱性能量測系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191653 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝

熱性能量測系統及其方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6663278 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝

接合支撐柱於場發射顯示器中的陽極板上之方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200260 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 楊學安, 李正中, 蕭名君, 黃榮堂

形成彩色濾光片於畫素驅動元件上的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692983 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑

可撓式薄膜電晶體顯示器的製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184717 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥, 王文通, 戴遠東, 林炯暐, 陳麒麟, 廖宗能, 李啟聖

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220265 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6769945 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中

場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206590 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚, 何家充, 王右武

主動矩陣有機發光二極體(AMOLED)之畫素結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 202661 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒

主動矩陣有機發光二極體AMOLED之畫素結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6753655 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒

形成具有分子排列之有機半導體層的方法,以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6737303 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 周維揚, 許財源, 王右武, 何家充, 廖奇璋

薄膜電晶體和發光二極體之有機整合元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189563 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 王右武, 趙慶勳, 李正中, 許財源

氣動式微流體驅動裝置及方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6682311 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾永強, 吳得群, 郭遠峰, 黃士豪

用於陽極接合間隙物之SOG材料

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184703 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蕭名君, 蘇凱農, 李正中, 林鵬, 陳三元

用於陽極接合間隙物之SOG材料

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6617264 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 蕭名君, 蘇凱農, 李正中, 林鵬, 陳三元

熱性能量測系統及其方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191653 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝

熱性能量測系統及其方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6663278 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 簡恆傑, 曾明溪, 柯文旺, 王志耀, 陳宜孝

接合支撐柱於場發射顯示器中的陽極板上之方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200260 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 楊學安, 李正中, 蕭名君, 黃榮堂

形成彩色濾光片於畫素驅動元件上的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6692983 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑

可撓式薄膜電晶體顯示器的製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184717 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥, 王文通, 戴遠東, 林炯暐, 陳麒麟, 廖宗能, 李啟聖

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220265 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中

一種場發射顯示器之三極結構的製程

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6769945 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張悠揚, 鄭華琦, 許志榮, 趙慶勳, 陳光中

場發射顯示器之三極結構及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206590 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚, 何家充, 王右武

主動矩陣有機發光二極體(AMOLED)之畫素結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 202661 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒

主動矩陣有機發光二極體AMOLED之畫素結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6753655 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 施俊任, 陳尚立, 陳建儒

形成具有分子排列之有機半導體層的方法,以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6737303 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 周維揚, 許財源, 王右武, 何家充, 廖奇璋

薄膜電晶體和發光二極體之有機整合元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189563 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 鄭弘隆, 王右武, 趙慶勳, 李正中, 許財源

 |