用在真空顯示面板之吸氣劑總成
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文用在真空顯示面板之吸氣劑總成的核准國家是中華民國, 證書號碼是195740, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是李正中, 簡瑞峰.

序號	744
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	用在真空顯示面板之吸氣劑總成
執行單位	工研院電子所
產出單位	(空)
計畫名稱	下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人	李正中 \| 簡瑞峰
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	195740
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	使用在真空顯示面板（vacuum display panels）之吸氣劑總成（Getter assembly）。本吸器劑總成包含了非汽化（non-evaporative）吸器劑及汽化（evaporative）吸器劑，主要之特點為吸氣計並列在一起，藉此，汽化吸氣劑作後所放射（emitted）之物質對非汽化吸器劑產生障蔽（shield），及非汽化吸器劑作用所產生之氣體不影響真空顯示面板內之真空狀態。於最佳實施例中，真空顯示面板之厚度，足以輕易的將本吸器劑總成放入。若真空顯示面板太薄，則如變形實例，可調整此一吸氣劑總成，將本吸氣劑總城外接於真空顯示面板上，以無線電波（radial frequency）產生感應對流而作用，以取代電極（feedthough electrode）。利用於特定位置之吸氣劑總成，可使真空顯示面板維持並達到10-6至10-7托（torr）的高真空狀態。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	謝旺廷
電話	03-5913551
傳真	(空)
電子信箱	wthsieh@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形	(空)

序號

744

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

用在真空顯示面板之吸氣劑總成

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

李正中 | 簡瑞峰

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

195740

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

使用在真空顯示面板（vacuum display panels）之吸氣劑總成（Getter assembly）。本吸器劑總成包含了非汽化（non-evaporative）吸器劑及汽化（evaporative）吸器劑，主要之特點為吸氣計並列在一起，藉此，汽化吸氣劑作後所放射（emitted）之物質對非汽化吸器劑產生障蔽（shield），及非汽化吸器劑作用所產生之氣體不影響真空顯示面板內之真空狀態。於最佳實施例中，真空顯示面板之厚度，足以輕易的將本吸器劑總成放入。若真空顯示面板太薄，則如變形實例，可調整此一吸氣劑總成，將本吸氣劑總城外接於真空顯示面板上，以無線電波（radial frequency）產生感應對流而作用，以取代電極（feedthough electrode）。利用於特定位置之吸氣劑總成，可使真空顯示面板維持並達到10-6至10-7托（torr）的高真空狀態。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

謝旺廷

電話

03-5913551

傳真

(空)

電子信箱

wthsieh@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電，95年改為電資通光

特殊情形

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安庭物業有限公司(林峰慶)	處分日期: 20231026 \| 處分金額或滯納金: 195740 \| 公告日期: 20231211 \| 處分字號: 保退一字第11269911105號 \| 違反法規內容: 雇主未按時繳納勞工退休金致加徵滯納金。 @ 違反勞動法令事業單位-勞工退休金條例

友輝光電股份有限公司

@ 上櫃公司各產業EPS統計資訊

安庭物業有限公司(林峰慶)

處分日期: 20231026 | 處分金額或滯納金: 195740 | 公告日期: 20231211 | 處分字號: 保退一字第11269911105號 | 違反法規內容: 雇主未按時繳納勞工退休金致加徵滯納金。

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全光學激發雷射外調制式之原子鐘裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200261 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 姚鵬 \| 陳志光
控制奈米碳管長度之方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200165 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 戴鴻名 \| 施能謙 \| 陳燦林
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即時紅外化學影像光譜裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 203435 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李耀昌 \| 王浩偉
光譜偏移式奈米近接裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200276 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明 \| 王浩偉

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