專利名稱-中文控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法的核准國家是美國, 證書號碼是6750834, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是沈毓仁.
序號 | 782 |
產出年度 | 93 |
領域別 | (空) |
專利名稱-中文 | 控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法 |
執行單位 | 工研院電子所 |
產出單位 | (空) |
計畫名稱 | 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 |
專利發明人 | 沈毓仁 |
核准國家 | 美國 |
獲證日期 | (空) |
證書號碼 | 6750834 |
專利期間起 | (空) |
專利期間訖 | (空) |
專利性質 | 發明 |
技術摘要-中文 | 一種控制液晶顯示器之電壓-穿透率特徵曲線的方法。此液晶顯示器是由複數個像素所構成,其中每一個像素係包括液晶及一控制電晶體,上述控制電晶體的汲極與閘極分別連接至對應之資料線與掃瞄線,而其源極則連接至液晶一側之電極。另外,液晶另一側之電極則連接至共電極。此方法的特徵在於調變共電極電壓波形,藉以改變液晶顯示器之驅動電壓對顯示器之穿透率的關係,藉以降低資料驅動裝置所需的臨界電壓,增加有效工作電壓範圍。 |
技術摘要-英文 | (空) |
聯絡人員 | 謝旺廷 |
電話 | 03-5913551 |
傳真 | (空) |
電子信箱 | wthsieh@itri.org.tw |
參考網址 | http://www.itri.org.tw |
備註 | 原領域別為通訊光電,95年改為電資通光 |
特殊情形 | (空) |
序號782 |
產出年度93 |
領域別(空) |
專利名稱-中文控制液晶顯示器之電壓---穿透率特徵曲線的方法 |
執行單位工研院電子所 |
產出單位(空) |
計畫名稱下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 |
專利發明人沈毓仁 |
核准國家美國 |
獲證日期(空) |
證書號碼6750834 |
專利期間起(空) |
專利期間訖(空) |
專利性質發明 |
技術摘要-中文一種控制液晶顯示器之電壓-穿透率特徵曲線的方法。此液晶顯示器是由複數個像素所構成,其中每一個像素係包括液晶及一控制電晶體,上述控制電晶體的汲極與閘極分別連接至對應之資料線與掃瞄線,而其源極則連接至液晶一側之電極。另外,液晶另一側之電極則連接至共電極。此方法的特徵在於調變共電極電壓波形,藉以改變液晶顯示器之驅動電壓對顯示器之穿透率的關係,藉以降低資料驅動裝置所需的臨界電壓,增加有效工作電壓範圍。 |
技術摘要-英文(空) |
聯絡人員謝旺廷 |
電話03-5913551 |
傳真(空) |
電子信箱wthsieh@itri.org.tw |
參考網址http://www.itri.org.tw |
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光 |
特殊情形(空) |
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(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 沈毓仁 ...) | 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200771 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊 | 楊和興 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190469 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6680755 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 日本 | 證書號碼: 3522705 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190470 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6778161 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200112 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 廖明俊 | 徐正池 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206462 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200771 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊 | 楊和興 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190469 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6680755 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 陳建志 | 陳明道 | 廖明俊 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 日本 | 證書號碼: 3522705 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190470 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6778161 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200112 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁 | 廖明俊 | 徐正池 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206462 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳慶逸 | 沈毓仁 @ 技術司專利資料集 |
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(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5913551 ...) | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_;2.efficiency>5 lm/W | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Panel Size : 3.8”;Pixel number:320 x 3 x240;Resolution:QVGA;Pixel pitch:80 um x 240 um;Aperture rati... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、PDA市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Size:20”;均勻度 | 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits;81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_;表面溫度 | 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole | 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_;pixel size=500μm X 500μm_x000D_;250 nits;spacer=100 μm _x000D_ | 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 10” VGA_x000D_;Pixel number:640 x 3 x480_x000D_;Pixel pitch:90 um x 120 um_x000D_;Aperture ratio: 30... | 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場,極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集 |
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 199489 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文 | 邱松茂 | 羅萬中 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207037 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文 | 劉伍健 | 卓廷彬 | 楊玉森 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 210407 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 劉伍健 | 楊玉森 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184907 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 張瑞模 | 陳建仁 | 蔡兆豐 | 陳正義 | 鄭勝元 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 211530 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱 | 江文欽 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 214980 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林志浩 | 蔡行知 | 魏江銘 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220003 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽 | 林庭凱 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195390 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文 | 楊玉森 | 邱松茂 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222536 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪 | 林進順 |
| 核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634651 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽 | 林庭凱 |
| 核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634266 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱 | 江文欽 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201043 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 翁震杰 | 賴逸林 | 鄭勝元 |
| 核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 639900 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪 | 林進順 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201861 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 謝興達 | 曾光宏 | 侯信男 | 黃仁隆 | 曾界彰 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204712 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林進順 | 古嘉琳 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 199489 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文 | 邱松茂 | 羅萬中 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 207037 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文 | 劉伍健 | 卓廷彬 | 楊玉森 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 210407 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 劉伍健 | 楊玉森 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184907 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 張瑞模 | 陳建仁 | 蔡兆豐 | 陳正義 | 鄭勝元 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 211530 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱 | 江文欽 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 214980 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林志浩 | 蔡行知 | 魏江銘 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220003 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽 | 林庭凱 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195390 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 朱繼文 | 楊玉森 | 邱松茂 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222536 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪 | 林進順 |
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634651 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 江文欽 | 林庭凱 |
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 634266 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林庭凱 | 江文欽 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201043 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 翁震杰 | 賴逸林 | 鄭勝元 |
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 639900 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 仲之豪 | 林進順 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201861 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 謝興達 | 曾光宏 | 侯信男 | 黃仁隆 | 曾界彰 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 204712 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 金屬工業關鍵性零組件加工技術四年計畫 | 專利發明人: 林進順 | 古嘉琳 |
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