形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法的核准國家是美國, 證書號碼是6737303, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫, 專利發明人是鄭弘隆, 周維揚, 許財源, 王右武, 何家充, 廖奇璋.

序號	825
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法
執行單位	工研院電子所
產出單位	(空)
計畫名稱	下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫
專利發明人	鄭弘隆 \| 周維揚 \| 許財源 \| 王右武 \| 何家充 \| 廖奇璋
核准國家	美國
獲證日期	(空)
證書號碼	6737303
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明提供一種形成具有分子排列之有機半導體層的方法，其包括以下步驟。首先，在一基板上形成一可感光排列之有機分子層。接著，使用偏極光，經由一光罩對於該可感光排列之有機分子層進行曝光，使該可感光排列之有機分子層具有分子排列，而形成一配向膜。最後，在配向膜上形成一有機半導體層，使得有機半導體層延著配向膜之排列而具有分子排列。本發明利用偏極光和光罩曝光製程，可以在同一基板之不同區域上，形成有不同分子排列的有機半導體層。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	謝旺廷
電話	03-5913551
傳真	(空)
電子信箱	wthsieh@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為通訊光電，95年改為電資通光
特殊情形	(空)

序號

825

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫

專利發明人

鄭弘隆 | 周維揚 | 許財源 | 王右武 | 何家充 | 廖奇璋

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6737303

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種形成具有分子排列之有機半導體層的方法，其包括以下步驟。首先，在一基板上形成一可感光排列之有機分子層。接著，使用偏極光，經由一光罩對於該可感光排列之有機分子層進行曝光，使該可感光排列之有機分子層具有分子排列，而形成一配向膜。最後，在配向膜上形成一有機半導體層，使得有機半導體層延著配向膜之排列而具有分子排列。本發明利用偏極光和光罩曝光製程，可以在同一基板之不同區域上，形成有不同分子排列的有機半導體層。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

謝旺廷

電話

03-5913551

傳真

(空)

電子信箱

wthsieh@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為通訊光電，95年改為電資通光

特殊情形

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形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I297553 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電光所 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 電子與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆周維揚許財源王右武何家充廖奇璋 @ 技術司專利資料集
形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 4684543 \| 專利期間起: 100/02/18 \| 專利期間訖: 112/07/23 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 鄭弘隆 \| 周維揚 \| 許財源 \| 王右武 \| 何家充 \| 廖奇璋 @ 技術司專利資料集

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4"10"20" 奈米碳管背光技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1.Brightness>4000 nits_x000D_；2.efficiency>5 lm/W \| 潛力預估: 可搶攻LCD-TV之背光源市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
LTPS-TFT Top emission AMOLED 模組與製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Panel Size : 3.8”；Pixel number：320 x 3 x240；Resolution：QVGA；Pixel pitch：80 um x 240 um；Aperture rati... \| 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
輕、薄、耐衝擊之上板塑膠化彩色液晶顯示技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院電子資訊與通訊光電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 可搶攻Note Book、手機、ＰＤＡ市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
20吋奈米碳管場發射顯示技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Size:20”；均勻度 \| 潛力預估: 可搶攻戶外資訊顯示,車用顯示器市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
CNT-BLU技術商品化規格驗證	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 20吋, 亮度>6000nits；81點亮度均勻度(/平均值)>70%_x000D_；表面溫度 \| 潛力預估: 可搶攻LCD-TV等背光源市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
CNT-FED/CNT-BLU材料驗證	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: Ag 電極: line/width< 30μm/30μm, sintering T100V/μm, pattern/etching hole \| 潛力預估: 可搶攻自發光之顯示器(CNT-FED)或LCD-TV之背光源(CNT-BLU)市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 10” QVGA-320x3x240_x000D_；pixel size=500μm X 500μm_x000D_；250 nits；spacer=100 μm _x000D_ \| 潛力預估: 可搶攻車用顯示器、戶外資訊顯示器、背光板等.市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集
LTPS-TFT AMOLED模組與製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 10” VGA_x000D_；Pixel number：640 x 3 x480_x000D_；Pixel pitch：90 um x 120 um_x000D_；Aperture ratio： 30... \| 潛力預估: 可搶攻車用型顯示器市場，極具市場潛力 @ 技術司可移轉技術資料集

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與形成具有分子排列之有機半導體層的方法，以及形成包括此有機半導體層之有機元件的方法同分類的技術司專利資料集

噴墨筆的墨水壓力調節裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL01103984.1 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 許成偉 \| 蘇士豪 \| 侯怡仲 \| 王介文 \| 藍元亮
噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,666,545 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉建宏 \| 劉健群 \| 張智超 \| 胡紀平 \| 陳俊融
壓力調節裝置及利用此壓力調節裝置之噴墨印頭	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,644,795 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林順泉 \| 張智超 \| 蘇士豪 \| 陳俊融 \| 李柏勳 \| 羅啟賓
微流模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 186642 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊進成 \| 毛慶宜 \| 吳周霖
生物晶片製造治具之影像對位裝置及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 191424 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 蘇士豪 \| 楊孟達 \| 劉健群 \| 張智超
以投射方式製作影像顯示器面板之裝置以及導電基板形成圖案之裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 198956 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉貞豪 \| 陳俊融
產生虛擬鍵盤顯示器之裝置及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206612 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉貞豪 \| 陳俊融
應用於高密度元件之金氧半場效電晶體及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195330 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉建宏 \| 劉健群 \| 陳俊融 \| 胡紀平
噴墨頭晶片結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220131 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 劉健群 \| 陳俊融
反射式液晶投影顯示器之光學引擎	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 184615 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 詹勝雄 \| 沈偉 \| 莊福明
液晶投影機之冷卻裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193369 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 李文宗 \| 張淵仁
無鬼影之背投影顯示螢幕	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 193378 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林晃巖 \| 黎邦 \| 田萬頂
視差屏障式裸眼立體顯示裝置	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,727,866 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 王迺岳 \| 李獻仁 \| 蔡朝旭
碟片夾持機構	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 3602746 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 吳敏德 \| 邱琬雯 \| 潘旭斌 \| 徐弘光 \| 陳俊民 \| 楊志軒 \| 劉雅君
磁鐵吸附式自動升降盤片壓覆具	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL99122876.6 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 梁瑞麟 \| 張裕修

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執行單位

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