晶圓磨床構造
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文晶圓磨床構造的核准國家是中華民國, 證書號碼是I224037, 專利性質是發明, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫, 專利發明人是湯國裕, 黃榮宏, 陳來毅.

序號	979
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	晶圓磨床構造
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人	湯國裕 \| 黃榮宏 \| 陳來毅
核准國家	中華民國
獲證日期	(空)
證書號碼	I224037
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種晶圓磨床構造具有側向力緩衝能力，且具有精確之承載平台傾斜調整能力，及可配合固有晶圓尺寸之規格作吸附晶圓構造調整，提供用於具精確研磨晶圓需求之應用場所，即是使得晶圓傾斜度得到調整而且該晶圓得以精確地研磨﹔其包含：本體外殼模組、旋轉工作台模組、氣壓軸承模組、及調整機構模組等等。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	賴麗惠
電話	03-5915788
傳真	(空)
電子信箱	LHL@itri.org.tw
參考網址	http://www.itri.org.tw
備註	原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形	(空)

序號

979

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

晶圓磨床構造

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫

專利發明人

湯國裕 | 黃榮宏 | 陳來毅

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I224037

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種晶圓磨床構造具有側向力緩衝能力，且具有精確之承載平台傾斜調整能力，及可配合固有晶圓尺寸之規格作吸附晶圓構造調整，提供用於具精確研磨晶圓需求之應用場所，即是使得晶圓傾斜度得到調整而且該晶圓得以精確地研磨﹔其包含：本體外殼模組、旋轉工作台模組、氣壓軸承模組、及調整機構模組等等。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

賴麗惠

電話

03-5915788

傳真

(空)

電子信箱

LHL@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

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晶圓磨床構造	核准國家: 美國 \| 證書號碼: \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 95 \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 湯國裕 \| 黃榮宏 \| 陳來毅 @ 技術司專利資料集
晶圓磨床构造	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200410001426.5 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 湯國裕黃榮宏陳來毅 @ 技術司專利資料集

晶圓磨床構造

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晶圓磨床构造

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無間隙3-D微結構陣列模仁之製程	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201594 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林坤龍 \| 周敏傑 \| 潘正堂 @ 技術司專利資料集
無間隙3-D微結構陣列模仁之製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,746,823 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林坤龍 \| 周敏傑 \| 潘正堂 @ 技術司專利資料集
降低鎳基合金鍍層內應力之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6699379 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 柯世宗 \| 李仁智 \| 葛明德 \| 王樂民 \| 宋鈺 \| 楊詔中 \| 黃雅如 @ 技術司專利資料集
球形工件加工裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 211484 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林衛助 \| 蔡坤龍 @ 技術司專利資料集
物件與膠膜分離之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194407 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉俊賢 \| 黃國興 \| 徐嘉彬 \| 洪嘉宏 @ 技術司專利資料集
可三維即時修正之尋光方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 188264 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 周甘霖 \| 李閔凱 @ 技術司專利資料集
隔膜閥	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 218453 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林春宏 \| 蔡陳德 \| 吳錦清 \| 何榮振 \| 王漢聰 @ 技術司專利資料集
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增快液晶顯示器應答速度之驅動系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200112 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 沈毓仁 \| 廖明俊 \| 徐正池
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奈米碳管場發射顯示器之陰極板與製程	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6811457 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 鄭華琦 \| 李正中 \| 廖貞慧 \| 張悠揚 \| 許志榮 \| 何家充
具低切換雜訊之構裝結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6683781 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 何宗哲 \| 李明林 \| 張慧如 \| 賴信助
低串聯阻抗薄膜電晶體I之製作方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6670224 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李啟聖 \| 常鼎國 \| 陳丕夫 \| 康育銘 \| 戴遠東
傾斜散射反射板的製造方法與結構	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6692902 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 翁逸君 \| 魏明達 \| 張上文
低成本且可大面積化製作奈米碳管場發射顯示器之方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6692791 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 張悠揚 \| 許志榮 \| 李鈞道 \| 李正中
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可調式電容及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 185849 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 \| 專利發明人: 邱景宏 \| 顏凱翔 \| 林瑞進 \| 吳家宏 \| 周坤和

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