微粒研磨方法及其裝置
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專利名稱-中文微粒研磨方法及其裝置的核准國家是美國, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是周大鑫, 李文宇, 陳來毅, 證書號碼是6,719,610.
| 序號 | 1022 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 微粒研磨方法及其裝置 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 周大鑫, 李文宇, 陳來毅 |
| 核准國家 | 美國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 6,719,610 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種微粒研磨方法及其裝置，係以兩種不同的力場來分別驅動原料粒子和研磨介質；使研磨介質和原料粒子係藉由不同的驅動力朝不同的方向流動，並且互相撞擊以產生研磨效果；同時，藉由力場的控制使研磨介質侷限於研磨區域中流動，而原料粒子則經由另一力場的控制持續經過研磨區域之後再進入迴路中循環流動；使原料粒子和研磨介質經由不同力場往不同方向流動而自然分開，以替代機械結構的分離方法；因此，不需受限於機械結構本身的孔徑大小，可達更小粒徑的分離效果。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 同步更新日期 | 2023-07-05 |
序號1022 |
產出年度93 |
領域別(空) |
專利名稱-中文微粒研磨方法及其裝置 |
執行單位工研院機械所 |
產出單位(空) |
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫 |
專利發明人周大鑫, 李文宇, 陳來毅 |
核准國家美國 |
獲證日期(空) |
證書號碼6,719,610 |
專利期間起(空) |
專利期間訖(空) |
專利性質發明 |
技術摘要-中文一種微粒研磨方法及其裝置，係以兩種不同的力場來分別驅動原料粒子和研磨介質；使研磨介質和原料粒子係藉由不同的驅動力朝不同的方向流動，並且互相撞擊以產生研磨效果；同時，藉由力場的控制使研磨介質侷限於研磨區域中流動，而原料粒子則經由另一力場的控制持續經過研磨區域之後再進入迴路中循環流動；使原料粒子和研磨介質經由不同力場往不同方向流動而自然分開，以替代機械結構的分離方法；因此，不需受限於機械結構本身的孔徑大小，可達更小粒徑的分離效果。 |
技術摘要-英文(空) |
聯絡人員呂美玲 |
電話03-5915898 |
傳真03-5820316 |
電子信箱meilingleu@itri.org.tw |
參考網址http://www.itri.org.tw |
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
特殊情形(空) |
同步更新日期2023-07-05 |
| 序號 | 1753 |
| 產出年度 | 94 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 微粒研磨方法及其裝置 |
| 執行單位 | 工研院院本部 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 周大鑫、李文宇、陳來毅 |
| 核准國家 | 日本 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 3688261 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種微粒研磨方法及其裝置，係以兩種不同的力場來分別驅動原料粒子和研磨介質；使研磨介質和原料粒子係藉由不同的驅動力朝不同的方向流動，並且互相撞擊以產生研磨效果；同時，藉由力場的控制使研磨介質侷限於研磨區域中流動，而原料粒子則經由另一力場的控制持續經過研磨區域之後再進入迴路中循環流動；使原料粒子和研磨介質經由不同力場往不同方向流動而自然分開，以替代機械結構的分離方法；因此，不需受限於機械結構本身的孔徑大小，可達更小粒徑的分離效果。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 劉展洋 |
| 電話 | 03-5916037 |
| 傳真 | 03-5917431 |
| 電子信箱 | JamesLiu@Itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為生技醫藥，95年改為生醫材化 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1753 |
| 產出年度: 94 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 微粒研磨方法及其裝置 |
| 執行單位: 工研院院本部 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 周大鑫、李文宇、陳來毅 |
| 核准國家: 日本 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 3688261 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種微粒研磨方法及其裝置，係以兩種不同的力場來分別驅動原料粒子和研磨介質；使研磨介質和原料粒子係藉由不同的驅動力朝不同的方向流動，並且互相撞擊以產生研磨效果；同時，藉由力場的控制使研磨介質侷限於研磨區域中流動，而原料粒子則經由另一力場的控制持續經過研磨區域之後再進入迴路中循環流動；使原料粒子和研磨介質經由不同力場往不同方向流動而自然分開，以替代機械結構的分離方法；因此，不需受限於機械結構本身的孔徑大小，可達更小粒徑的分離效果。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 劉展洋 |
| 電話: 03-5916037 |
| 傳真: 03-5917431 |
| 電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw |
| 參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為生技醫藥，95年改為生醫材化 |
| 特殊情形: (空) |
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(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5915898 ...)| 序號 | 1007 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 鑽石/鑽石薄膜之延性加工技術 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 蔡宏營, 林宏彝, 吳東權 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 189523 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 本發明係提供一種鑽石類材質之延性加工技術，其中包括：提供一熱量加熱鑽石類 材質後施力於該受熱之鑽石類材質，藉由該加熱及施力可對鑽石類材質進行延性加 工；對鑽石薄膜施行延性加工技術時包括：一熱量加熱鑽石薄膜並以京輪研磨該受 熱之鑽石類材質，藉由該加熱及計算京輪研磨(grinding)臨界切深 (或加工壓力大 小) 可對鑽石類材質進行延性加工。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1007 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 鑽石/鑽石薄膜之延性加工技術 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 蔡宏營, 林宏彝, 吳東權 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 189523 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 本發明係提供一種鑽石類材質之延性加工技術，其中包括：提供一熱量加熱鑽石類 材質後施力於該受熱之鑽石類材質，藉由該加熱及施力可對鑽石類材質進行延性加 工；對鑽石薄膜施行延性加工技術時包括：一熱量加熱鑽石薄膜並以京輪研磨該受 熱之鑽石類材質，藉由該加熱及計算京輪研磨(grinding)臨界切深 (或加工壓力大 小) 可對鑽石類材質進行延性加工。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 1008 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 林熙翔, 陳建洋 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 189396 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1008 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 林熙翔, 陳建洋 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 189396 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 1009 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 林熙翔, 陳建洋 |
| 核准國家 | 美國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 6,730,922 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1009 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 林熙翔, 陳建洋 |
| 核准國家: 美國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 6,730,922 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 1010 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 蔡宏營, 潘正堂, 周敏傑, 陳世洲, 林育生 |
| 核准國家 | 美國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 6,656,668 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程，藉由在以一 光罩上設有預定之曲線圖案，該曲線圖案於沿一直線方向上的寬度並不是 定值。當準分子雷射光源透過光罩上之曲線圖案照射並衝擊一基板上所塗 佈之高分子材而使其剝離蝕刻。並且當進行照射時，同時將基板沿著垂直 於該直線方向移動，使高分子材於沿著該直線方向上的不同位置處係受到 不同時間長度的照射，造成不同蝕刻深度，因而可將高分子材蝕刻成預定 形狀之立體圖案。並且，藉由兩次不同方向或是不同光罩圖案的照射蝕刻 ，可得到類球面或非球面的微陣列結構。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1010 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 蔡宏營, 潘正堂, 周敏傑, 陳世洲, 林育生 |
| 核准國家: 美國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 6,656,668 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程，藉由在以一 光罩上設有預定之曲線圖案，該曲線圖案於沿一直線方向上的寬度並不是 定值。當準分子雷射光源透過光罩上之曲線圖案照射並衝擊一基板上所塗 佈之高分子材而使其剝離蝕刻。並且當進行照射時，同時將基板沿著垂直 於該直線方向移動，使高分子材於沿著該直線方向上的不同位置處係受到 不同時間長度的照射，造成不同蝕刻深度，因而可將高分子材蝕刻成預定 形狀之立體圖案。並且，藉由兩次不同方向或是不同光罩圖案的照射蝕刻 ，可得到類球面或非球面的微陣列結構。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 1011 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 微鏡片定位裝置 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 潘正堂, 陳世洲, 李國賓, 楊賢敏, 謝宸碩 |
| 核准國家 | 中國大陸 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | ZL01110627.1 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種微鏡片定位裝置，主要包括水平定位單元、垂直定位單元及免干擾機制單元， 其中水平定位單元具有可固定微鏡片之功能，使微鏡片在攜帶及運送過程中，避免 震動、碰撞造成之微鏡片移位或損壞；垂直定位單元具有可將微鏡片作精準垂直定 位的功能；免干擾機制單元則可保障微鏡片免於微鏡片陣列中其他微鏡片之操作磁 場及外界磁場之干擾，故可保障微鏡片陣列之整體運作不受磁場干擾。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1011 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 微鏡片定位裝置 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 潘正堂, 陳世洲, 李國賓, 楊賢敏, 謝宸碩 |
| 核准國家: 中國大陸 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: ZL01110627.1 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種微鏡片定位裝置，主要包括水平定位單元、垂直定位單元及免干擾機制單元， 其中水平定位單元具有可固定微鏡片之功能，使微鏡片在攜帶及運送過程中，避免 震動、碰撞造成之微鏡片移位或損壞；垂直定位單元具有可將微鏡片作精準垂直定 位的功能；免干擾機制單元則可保障微鏡片免於微鏡片陣列中其他微鏡片之操作磁 場及外界磁場之干擾，故可保障微鏡片陣列之整體運作不受磁場干擾。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 1012 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 微結構探針卡之製法及其成品 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 周敏傑, 王宏杰, 彭駿光, 吳東權, 蔡宏營 |
| 核准國家 | 日本 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 3584219 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種探針卡之製法及其成品，其製法包含：準備基材；在基材上若干位置分別蝕刻 一長槽氣臂空間及一自懸臂空間底部一端凹入之針頭空間；在懸臂空間及針頭空間 內電鑄成型懸臂及針頭；在基材頂面塗佈光阻，並以光刻法將光阻對應各懸臂遠離 針頭一端之部份蝕穿成穿透空缺；在光阻頂面覆上絕緣之座板，並以光刻法成型貫 穿座板並與懸臂接通之基座空間；在基座空間內電鑄成型探針基座；去除基材及光 阻。依此製出之探針卡具有探針密度高、接觸性佳、可作高速測試等優點。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1012 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 微結構探針卡之製法及其成品 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 周敏傑, 王宏杰, 彭駿光, 吳東權, 蔡宏營 |
| 核准國家: 日本 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 3584219 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種探針卡之製法及其成品，其製法包含：準備基材；在基材上若干位置分別蝕刻 一長槽氣臂空間及一自懸臂空間底部一端凹入之針頭空間；在懸臂空間及針頭空間 內電鑄成型懸臂及針頭；在基材頂面塗佈光阻，並以光刻法將光阻對應各懸臂遠離 針頭一端之部份蝕穿成穿透空缺；在光阻頂面覆上絕緣之座板，並以光刻法成型貫 穿座板並與懸臂接通之基座空間；在基座空間內電鑄成型探針基座；去除基材及光 阻。依此製出之探針卡具有探針密度高、接觸性佳、可作高速測試等優點。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 1013 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 改良之近場光學飛行頭 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人 | 羅士哲, 王鴻年, 林熙翔 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 221801 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 新型 |
| 技術摘要-中文 | 一種可進行近場光學記錄之飛行頭，係包含一可維持於光碟片近場距離之承載台， 其前端設一固態浸沒式鏡片（ＳＩＬ），較內側設一可將雷射光聚焦至該ＳＩＬ之 聚焦鏡片；本創作提供之改良結構之一，係在該ＳＩＬ之折射面上鍍一光散射層及 一介電層，當受光或受熱時可分解出銀原子，銀原子能增強雷射光通過折射面之電 磁波，形同開啟一微小之光學孔穴；另一方式係在該折射面上鍍一遮罩層及一介電 層，其折射率可因雷射光之熱能而改變，使聚焦處開啟一微小孔穴供電磁波通過； 如此，射至光碟片之雷射光點較小，可作線寬更細之近場曝光。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 呂美玲 |
| 電話 | 03-5915898 |
| 傳真 | 03-5820316 |
| 電子信箱 | meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1013 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 改良之近場光學飛行頭 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 羅士哲, 王鴻年, 林熙翔 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 221801 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 新型 |
| 技術摘要-中文: 一種可進行近場光學記錄之飛行頭，係包含一可維持於光碟片近場距離之承載台， 其前端設一固態浸沒式鏡片（ＳＩＬ），較內側設一可將雷射光聚焦至該ＳＩＬ之 聚焦鏡片；本創作提供之改良結構之一，係在該ＳＩＬ之折射面上鍍一光散射層及 一介電層，當受光或受熱時可分解出銀原子，銀原子能增強雷射光通過折射面之電 磁波，形同開啟一微小之光學孔穴；另一方式係在該折射面上鍍一遮罩層及一介電 層，其折射率可因雷射光之熱能而改變，使聚焦處開啟一微小孔穴供電磁波通過； 如此，射至光碟片之雷射光點較小，可作線寬更細之近場曝光。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號: 1014 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 以雙離子槍濺鍍薄膜於微米/奈米級結構表面之方法 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
| 專利發明人: 蘇建彰, 蔡宏營, 林宏彝, 蔡哲正 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 196456 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種以雙離子槍濺鍍薄膜於微結構表面之方法，係利用一濺鍍離子槍對一靶材進行 轟擊以將靶材原子鍍製到一基板上形成薄膜，一加工離子槍則對該微結構表面剛形 成有薄膜之基板預定位置處進行轟擊加工，以促使該處表面獲得均勻膜厚。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 呂美玲 |
| 電話: 03-5915898 |
| 傳真: 03-5820316 |
| 電子信箱: meilingleu@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
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| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳昭宏, 高永安 | 證書號碼: 204991 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃雅軒, 蔡耀弘 | 證書號碼: 185584 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林一平, 逄愛君, 陳春秀, 馮文生 | 證書號碼: 205010 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張勤振, 黃雅軒 | 證書號碼: 189479 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 彭吳忠謀 | 證書號碼: 195162 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 薛德輝, 王佳盈, 劉俊麟 | 證書號碼: 192253 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳建中, 劉昭復, 陳怡彥, 劉正一, 黃立吾 | 證書號碼: 197668 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 郭志忠, 郭啟祥 | 證書號碼: 189698 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王慧明, 林一中 | 證書號碼: 190379 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 盧澄乾 | 證書號碼: 205101 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳芳祝, 馬尚智 | 證書號碼: 206673 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 賴義盛 | 證書號碼: 197237 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林一平, 楊舜仁, 馮文生 | 證書號碼: 192304 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳芳祝, 蔡靜玲 | 證書號碼: 200697 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林一中, 邱中人 | 證書號碼: I221989 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳昭宏, 高永安 | 證書號碼: 204991 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃雅軒, 蔡耀弘 | 證書號碼: 185584 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林一平, 逄愛君, 陳春秀, 馮文生 | 證書號碼: 205010 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 張勤振, 黃雅軒 | 證書號碼: 189479 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 彭吳忠謀 | 證書號碼: 195162 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 薛德輝, 王佳盈, 劉俊麟 | 證書號碼: 192253 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳建中, 劉昭復, 陳怡彥, 劉正一, 黃立吾 | 證書號碼: 197668 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 郭志忠, 郭啟祥 | 證書號碼: 189698 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王慧明, 林一中 | 證書號碼: 190379 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 盧澄乾 | 證書號碼: 205101 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳芳祝, 馬尚智 | 證書號碼: 206673 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 賴義盛 | 證書號碼: 197237 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林一平, 楊舜仁, 馮文生 | 證書號碼: 192304 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳芳祝, 蔡靜玲 | 證書號碼: 200697 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林一中, 邱中人 | 證書號碼: I221989 |
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