具微結構內含工作流體之長板型均熱板
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文具微結構內含工作流體之長板型均熱板的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 專利性質是新型, 計畫名稱是微奈米系統應用技術四年計畫, 專利發明人是葉嵐凱, 林哲瑋, 蔡明杰, 陳紹文, 徐金城, 周政泰, 證書號碼是219133.

序號1027
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文具微結構內含工作流體之長板型均熱板
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱微奈米系統應用技術四年計畫
專利發明人葉嵐凱, 林哲瑋, 蔡明杰, 陳紹文, 徐金城, 周政泰
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼219133
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種具微結構內含工作流體之長板型均熱板，其蒸發端係連接於發熱元件上，而冷凝端則連接於散熱裝置，其中，該均熱板為一中空腔體，其內依發熱源溫度分佈設有最佳化的毛細結構設計，並設有微流道，於抽除真空後，充填有部份工作流體；藉此，利用毛細結構的分佈將發熱元件表面均熱，再透過蒸發工作流體沿著微流道的流動，將蒸汽傳至散熱端進行散熱及冷凝回流，而以雙相流場的冷凝循環，達到均熱及高效能傳輸的目的。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

1027

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

具微結構內含工作流體之長板型均熱板

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

微奈米系統應用技術四年計畫

專利發明人

葉嵐凱, 林哲瑋, 蔡明杰, 陳紹文, 徐金城, 周政泰

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

219133

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

新型

技術摘要-中文

一種具微結構內含工作流體之長板型均熱板，其蒸發端係連接於發熱元件上，而冷凝端則連接於散熱裝置，其中，該均熱板為一中空腔體，其內依發熱源溫度分佈設有最佳化的毛細結構設計，並設有微流道，於抽除真空後，充填有部份工作流體；藉此，利用毛細結構的分佈將發熱元件表面均熱，再透過蒸發工作流體沿著微流道的流動，將蒸汽傳至散熱端進行散熱及冷凝回流，而以雙相流場的冷凝循環，達到均熱及高效能傳輸的目的。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

呂美玲

電話

03-5915898

傳真

03-5820316

電子信箱

meilingleu@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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子仙小築民宿

電話: 886-903-007289 | 地址: 臺東縣池上鄉福原村11鄰新生路169-7號 | 級別: | 服務資訊: | 停車資訊: 車位:小客車0輛、機車0輛、大客車0輛 | 描述: 位於台東縣的民宿

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子仙小築民宿

Tel: 886-903-007289 | Name: 子仙小築民宿 | Grade: | Serviceinfo: | Parkinginfo: Parking Space:Car 0、Motorcycle 0、Truck 0

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子仙小築民宿

Name: Zixian Xiaozhu homestay | Telephone: 886-903-007289 | Address: No. 169-7, Xinsheng Rd., Chishang Township, Taitung County 958 , Taiwan (R.O.C.) | Grade: | Description: Bed and Breakfast in Taitung | Serivce Information: | Parking Information: Parking Space:Car 0、Motorcycle 0、Truck 0

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子仙小築民宿

電話: 886-903-007289 | 地址: 臺東縣池上鄉福原村11鄰新生路169-7號 | 級別: | 服務資訊: | 停車資訊: 車位:小客車0輛、機車0輛、大客車0輛 | 描述: 位於台東縣的民宿

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長榮路二段與長榮路二段24巷口

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長榮路二段與長榮路二段24巷口

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平板型熱管之熱傳加強設計

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 徐金城、林哲瑋、蔡明杰、葉嵐凱、陳紹文、周政泰 | 證書號碼: I228964

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平板型熱管之熱傳加強結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 徐金城、林哲瑋、蔡明杰、葉嵐凱、陳紹文、周政泰 | 證書號碼: 6901994

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平板型熱管的熱傳加強結构

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 南部產業關鍵技術計畫 | 專利發明人: 徐金城 林哲瑋 蔡明杰 葉嵐凱 陳紹文 周政泰 | 證書號碼: ZL200310121710.1

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

散熱元件中具導流支撐結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 周政泰, 林哲瑋, 蔡明杰, 葉嵐凱, 陳紹文, 徐金城 | 證書號碼: 219134

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平板型熱管之熱傳加強設計

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 徐金城、林哲瑋、蔡明杰、葉嵐凱、陳紹文、周政泰 | 證書號碼: I228964

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

平板型熱管之熱傳加強結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 徐金城、林哲瑋、蔡明杰、葉嵐凱、陳紹文、周政泰 | 證書號碼: 6901994

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平板型熱管的熱傳加強結构

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 南部產業關鍵技術計畫 | 專利發明人: 徐金城 林哲瑋 蔡明杰 葉嵐凱 陳紹文 周政泰 | 證書號碼: ZL200310121710.1

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

散熱元件中具導流支撐結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 周政泰, 林哲瑋, 蔡明杰, 葉嵐凱, 陳紹文, 徐金城 | 證書號碼: 219134

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# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號1007
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文鑽石/鑽石薄膜之延性加工技術
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人蔡宏營, 林宏彝, 吳東權
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼189523
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係提供一種鑽石類材質之延性加工技術，其中包括：提供一熱量加熱鑽石類 材質後施力於該受熱之鑽石類材質，藉由該加熱及施力可對鑽石類材質進行延性加 工；對鑽石薄膜施行延性加工技術時包括：一熱量加熱鑽石薄膜並以京輪研磨該受 熱之鑽石類材質，藉由該加熱及計算京輪研磨(grinding)臨界切深 (或加工壓力大 小) 可對鑽石類材質進行延性加工。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1007
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 鑽石/鑽石薄膜之延性加工技術
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 蔡宏營, 林宏彝, 吳東權
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 189523
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係提供一種鑽石類材質之延性加工技術，其中包括：提供一熱量加熱鑽石類 材質後施力於該受熱之鑽石類材質，藉由該加熱及施力可對鑽石類材質進行延性加 工；對鑽石薄膜施行延性加工技術時包括：一熱量加熱鑽石薄膜並以京輪研磨該受 熱之鑽石類材質，藉由該加熱及計算京輪研磨(grinding)臨界切深 (或加工壓力大 小) 可對鑽石類材質進行延性加工。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號1008
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人林熙翔, 陳建洋
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼189396
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1008
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 林熙翔, 陳建洋
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 189396
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號1009
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人林熙翔, 陳建洋
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6,730,922
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1009
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 改善電子束近接效應之抗電子反射層結構
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 林熙翔, 陳建洋
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6,730,922
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種改善電子束近接效應之抗電子反射層結構，主要包含一基板、一電子阻劑層， 形成於該基板上方；以及至少一層抗電子反射層，形成於該基板、與該電子阻劑層 之間，其中，該抗電子反射層係允許一電子束循入射方向通過而達到該基板內部， 並能減少該電子束中經由該基板內部反射而返回至該電子阻劑層之電子數量。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號1010
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人蔡宏營, 潘正堂, 周敏傑, 陳世洲, 林育生
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6,656,668
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程，藉由在以一 光罩上設有預定之曲線圖案，該曲線圖案於沿一直線方向上的寬度並不是 定值。當準分子雷射光源透過光罩上之曲線圖案照射並衝擊一基板上所塗 佈之高分子材而使其剝離蝕刻。並且當進行照射時，同時將基板沿著垂直 於該直線方向移動，使高分子材於沿著該直線方向上的不同位置處係受到 不同時間長度的照射，造成不同蝕刻深度，因而可將高分子材蝕刻成預定 形狀之立體圖案。並且，藉由兩次不同方向或是不同光罩圖案的照射蝕刻 ，可得到類球面或非球面的微陣列結構。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1010
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 蔡宏營, 潘正堂, 周敏傑, 陳世洲, 林育生
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6,656,668
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種準分子雷射對微球面與非球面高分子結構陣列製程，藉由在以一 光罩上設有預定之曲線圖案，該曲線圖案於沿一直線方向上的寬度並不是 定值。當準分子雷射光源透過光罩上之曲線圖案照射並衝擊一基板上所塗 佈之高分子材而使其剝離蝕刻。並且當進行照射時，同時將基板沿著垂直 於該直線方向移動，使高分子材於沿著該直線方向上的不同位置處係受到 不同時間長度的照射，造成不同蝕刻深度，因而可將高分子材蝕刻成預定 形狀之立體圖案。並且，藉由兩次不同方向或是不同光罩圖案的照射蝕刻 ，可得到類球面或非球面的微陣列結構。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號1011
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文微鏡片定位裝置
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人潘正堂, 陳世洲, 李國賓, 楊賢敏, 謝宸碩
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL01110627.1
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種微鏡片定位裝置，主要包括水平定位單元、垂直定位單元及免干擾機制單元， 其中水平定位單元具有可固定微鏡片之功能，使微鏡片在攜帶及運送過程中，避免 震動、碰撞造成之微鏡片移位或損壞；垂直定位單元具有可將微鏡片作精準垂直定 位的功能；免干擾機制單元則可保障微鏡片免於微鏡片陣列中其他微鏡片之操作磁 場及外界磁場之干擾，故可保障微鏡片陣列之整體運作不受磁場干擾。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1011
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 微鏡片定位裝置
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 潘正堂, 陳世洲, 李國賓, 楊賢敏, 謝宸碩
核准國家: 中國大陸
獲證日期: (空)
證書號碼: ZL01110627.1
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種微鏡片定位裝置，主要包括水平定位單元、垂直定位單元及免干擾機制單元， 其中水平定位單元具有可固定微鏡片之功能，使微鏡片在攜帶及運送過程中，避免 震動、碰撞造成之微鏡片移位或損壞；垂直定位單元具有可將微鏡片作精準垂直定 位的功能；免干擾機制單元則可保障微鏡片免於微鏡片陣列中其他微鏡片之操作磁 場及外界磁場之干擾，故可保障微鏡片陣列之整體運作不受磁場干擾。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號1012
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文微結構探針卡之製法及其成品
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人周敏傑, 王宏杰, 彭駿光, 吳東權, 蔡宏營
核准國家日本
獲證日期(空)
證書號碼3584219
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種探針卡之製法及其成品，其製法包含：準備基材；在基材上若干位置分別蝕刻 一長槽氣臂空間及一自懸臂空間底部一端凹入之針頭空間；在懸臂空間及針頭空間 內電鑄成型懸臂及針頭；在基材頂面塗佈光阻，並以光刻法將光阻對應各懸臂遠離 針頭一端之部份蝕穿成穿透空缺；在光阻頂面覆上絕緣之座板，並以光刻法成型貫 穿座板並與懸臂接通之基座空間；在基座空間內電鑄成型探針基座；去除基材及光 阻。依此製出之探針卡具有探針密度高、接觸性佳、可作高速測試等優點。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1012
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 微結構探針卡之製法及其成品
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 周敏傑, 王宏杰, 彭駿光, 吳東權, 蔡宏營
核准國家: 日本
獲證日期: (空)
證書號碼: 3584219
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種探針卡之製法及其成品，其製法包含：準備基材；在基材上若干位置分別蝕刻 一長槽氣臂空間及一自懸臂空間底部一端凹入之針頭空間；在懸臂空間及針頭空間 內電鑄成型懸臂及針頭；在基材頂面塗佈光阻，並以光刻法將光阻對應各懸臂遠離 針頭一端之部份蝕穿成穿透空缺；在光阻頂面覆上絕緣之座板，並以光刻法成型貫 穿座板並與懸臂接通之基座空間；在基座空間內電鑄成型探針基座；去除基材及光 阻。依此製出之探針卡具有探針密度高、接觸性佳、可作高速測試等優點。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號1013
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文改良之近場光學飛行頭
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人羅士哲, 王鴻年, 林熙翔
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼221801
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種可進行近場光學記錄之飛行頭，係包含一可維持於光碟片近場距離之承載台， 其前端設一固態浸沒式鏡片（ＳＩＬ），較內側設一可將雷射光聚焦至該ＳＩＬ之 聚焦鏡片；本創作提供之改良結構之一，係在該ＳＩＬ之折射面上鍍一光散射層及 一介電層，當受光或受熱時可分解出銀原子，銀原子能增強雷射光通過折射面之電 磁波，形同開啟一微小之光學孔穴；另一方式係在該折射面上鍍一遮罩層及一介電 層，其折射率可因雷射光之熱能而改變，使聚焦處開啟一微小孔穴供電磁波通過； 如此，射至光碟片之雷射光點較小，可作線寬更細之近場曝光。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
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備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1013
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 改良之近場光學飛行頭
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 羅士哲, 王鴻年, 林熙翔
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 221801
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種可進行近場光學記錄之飛行頭，係包含一可維持於光碟片近場距離之承載台， 其前端設一固態浸沒式鏡片（ＳＩＬ），較內側設一可將雷射光聚焦至該ＳＩＬ之 聚焦鏡片；本創作提供之改良結構之一，係在該ＳＩＬ之折射面上鍍一光散射層及 一介電層，當受光或受熱時可分解出銀原子，銀原子能增強雷射光通過折射面之電 磁波，形同開啟一微小之光學孔穴；另一方式係在該折射面上鍍一遮罩層及一介電 層，其折射率可因雷射光之熱能而改變，使聚焦處開啟一微小孔穴供電磁波通過； 如此，射至光碟片之雷射光點較小，可作線寬更細之近場曝光。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915898 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號1014
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文以雙離子槍濺鍍薄膜於微米/奈米級結構表面之方法
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人蘇建彰, 蔡宏營, 林宏彝, 蔡哲正
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼196456
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種以雙離子槍濺鍍薄膜於微結構表面之方法，係利用一濺鍍離子槍對一靶材進行 轟擊以將靶材原子鍍製到一基板上形成薄膜，一加工離子槍則對該微結構表面剛形 成有薄膜之基板預定位置處進行轟擊加工，以促使該處表面獲得均勻膜厚。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員呂美玲
電話03-5915898
傳真03-5820316
電子信箱meilingleu@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1014
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 以雙離子槍濺鍍薄膜於微米/奈米級結構表面之方法
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 蘇建彰, 蔡宏營, 林宏彝, 蔡哲正
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 196456
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種以雙離子槍濺鍍薄膜於微結構表面之方法，係利用一濺鍍離子槍對一靶材進行 轟擊以將靶材原子鍍製到一基板上形成薄膜，一加工離子槍則對該微結構表面剛形 成有薄膜之基板預定位置處進行轟擊加工，以促使該處表面獲得均勻膜厚。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 呂美玲
電話: 03-5915898
傳真: 03-5820316
電子信箱: meilingleu@itri.org.tw
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)
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與具微結構內含工作流體之長板型均熱板同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

高高溫伸長率電解銅箔之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 192043

含細微化組織之合金靶材製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 劉武漢, 陳俊沐, 蘇健忠, 范元昌, 黃振東, 呂明生, 吳清勳 | 證書號碼: TW 197245

電子連接器之後端電磁遮蔽元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳立生, 章本華, 陳炤祖 | 證書號碼: US 6,705,897

具耐折性之電解銅箔的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 200903

具散熱結構之連接器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 章本華, 林欣衛, 廖子昌 | 證書號碼: TW 206075

軟性印刷電路板用壓延銅箔表面處理製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕, 翁榮洲, 劉金耀 | 證書號碼: TW 206917

廢棄晶片回收分離及純化之裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄, 溫志中, 鄭楚丕 | 證書號碼: TW 207333

場發射顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱正茂, 郭鐘亮, 張光榮, 賴詩文, 栗愛綱, 賴宏仁, 橫山明聰 | 證書號碼: TW I224352

液晶面板及其製造方

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦, 溫俊祥, 吳耀庭, 鄭淑惠, 詹明香, 安川淳一, 桑原一 | 證書號碼: 182317

具有低介電常數之高頻電路基板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎, 陳永志, 王先毅, 鄭龍正, 陳俊昇 | 證書號碼: 185492

一種可增加膽固醇液晶反射波寬的方法及其應用

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆 | 證書號碼: 6669999

有機電致發光元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 王宜凡, 翁文國, 呂伯彥 | 證書號碼: 190466

有機電致發光元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 王宜凡, 翁文國, 呂伯彥 | 證書號碼: 6649284

具聲波導件之吸音板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 李芳慶, 陳文華, 姜達銘, 楊宗龍 | 證書號碼: 218521

自發配向的膽固醇液晶型增亮膜的製法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆, 吳平耀, 朱文彬 | 證書號碼: 196478

高高溫伸長率電解銅箔之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 192043

含細微化組織之合金靶材製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 劉武漢, 陳俊沐, 蘇健忠, 范元昌, 黃振東, 呂明生, 吳清勳 | 證書號碼: TW 197245

電子連接器之後端電磁遮蔽元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳立生, 章本華, 陳炤祖 | 證書號碼: US 6,705,897

具耐折性之電解銅箔的製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 陳友忠, 李鴻坤, 翁榮洲 | 證書號碼: TW 200903

具散熱結構之連接器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 章本華, 林欣衛, 廖子昌 | 證書號碼: TW 206075

軟性印刷電路板用壓延銅箔表面處理製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱秋燕, 翁榮洲, 劉金耀 | 證書號碼: TW 206917

廢棄晶片回收分離及純化之裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 賴明雄, 溫志中, 鄭楚丕 | 證書號碼: TW 207333

場發射顯示器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 高性能金屬材料技術四年計畫 | 專利發明人: 邱正茂, 郭鐘亮, 張光榮, 賴詩文, 栗愛綱, 賴宏仁, 橫山明聰 | 證書號碼: TW I224352

液晶面板及其製造方

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 鄭華琦, 溫俊祥, 吳耀庭, 鄭淑惠, 詹明香, 安川淳一, 桑原一 | 證書號碼: 182317

具有低介電常數之高頻電路基板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 黃仕穎, 陳永志, 王先毅, 鄭龍正, 陳俊昇 | 證書號碼: 185492

一種可增加膽固醇液晶反射波寬的方法及其應用

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆 | 證書號碼: 6669999

有機電致發光元件

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 王宜凡, 翁文國, 呂伯彥 | 證書號碼: 190466

有機電致發光元件

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 王宜凡, 翁文國, 呂伯彥 | 證書號碼: 6649284

具聲波導件之吸音板

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 李芳慶, 陳文華, 姜達銘, 楊宗龍 | 證書號碼: 218521

自發配向的膽固醇液晶型增亮膜的製法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆, 吳平耀, 朱文彬 | 證書號碼: 196478

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