微幫浦結構
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文微幫浦結構的核准國家是中華民國, 執行單位是中科院材料所, 產出年度是99, 專利性質是發明, 計畫名稱是光電醫療檢測技術開發計畫, 專利發明人是蔡登宏、黃科志、康德人、洪薪閔、楊貴朱, 證書號碼是發明第I323314.

序號6349
產出年度99
領域別生技醫藥
專利名稱-中文微幫浦結構
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱光電醫療檢測技術開發計畫
專利發明人蔡登宏、黃科志、康德人、洪薪閔、楊貴朱
核准國家中華民國
獲證日期99/04/11
證書號碼發明第I323314
專利期間起99/09/11
專利期間訖115/12/18
專利性質發明
技術摘要-中文本發明為一種微幫浦結構,係由一微馬達之一軸心連接並驅動一內轉子,再由該內轉子帶動一外轉子進行共軛轉動,該微幫浦結構所有元件依據其外形輪廓作為組裝定位,接合處以膠合或焊接完成組裝,而達成水密功能。本發明之微幫浦結構藉由內、外轉子間之氣室體積與壓力變化驅使流體流動而達成輸送流體之目的,更由脈波寬度調變(PWM)電路控制微幫浦結構所接收之電源訊號之運作週期(Duty Cycle),而有效控制微幫浦結構之流量。另外,本發明之微幫浦結構由於馬達負荷小及流量精度高,而用於提升輸送流體之效能,對於有空間限制及成本考量之流體輸送最有效益。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員蔡登宏
電話03-4712201#357125
傳真03-4711024
電子信箱hohh@csnet.gov.tw
參考網址(空)
備註(空)
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

6349

產出年度

99

領域別

生技醫藥

專利名稱-中文

微幫浦結構

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

光電醫療檢測技術開發計畫

專利發明人

蔡登宏、黃科志、康德人、洪薪閔、楊貴朱

核准國家

中華民國

獲證日期

99/04/11

證書號碼

發明第I323314

專利期間起

99/09/11

專利期間訖

115/12/18

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明為一種微幫浦結構,係由一微馬達之一軸心連接並驅動一內轉子,再由該內轉子帶動一外轉子進行共軛轉動,該微幫浦結構所有元件依據其外形輪廓作為組裝定位,接合處以膠合或焊接完成組裝,而達成水密功能。本發明之微幫浦結構藉由內、外轉子間之氣室體積與壓力變化驅使流體流動而達成輸送流體之目的,更由脈波寬度調變(PWM)電路控制微幫浦結構所接收之電源訊號之運作週期(Duty Cycle),而有效控制微幫浦結構之流量。另外,本發明之微幫浦結構由於馬達負荷小及流量精度高,而用於提升輸送流體之效能,對於有空間限制及成本考量之流體輸送最有效益。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

蔡登宏

電話

03-4712201#357125

傳真

03-4711024

電子信箱

hohh@csnet.gov.tw

參考網址

(空)

備註

(空)

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 微幫浦結構 於 經濟部產業技術司–專利資料集

序號2556
產出年度95
領域別(空)
專利名稱-中文PDMS無閥幫浦結構及其製程
執行單位工研院院本部
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人劉敏生、王啟川、楊秉純、鄭有青、張文政
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I256374
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種PDMS無閥微幫浦結構及其製程,PDMS無閥微幫浦結構係包括一PDMS結構體、一設置於PDMS結構體上之薄膜、及一設置於薄膜上之壓電致動器;PDMS結構體上,又包括凹陷形成連通流道結構之一輸入槽體、一輸入噴嘴結構、一腔體、一輸出噴嘴結構、及一輸出槽體;其中,壓電致動器係相對設置於腔體上方,以藉由其對腔體之上下作動,控制PDMS無閥微幫浦結構內之流體流動;而以PDMS作為PDMS結構體之材料,乃得利用翻模製程降低生產成本,並獲致結構簡單、並具彈性與較佳生物相容性之微幫浦結構。_x000D_A PDMS valve-less micro pump structure includes a PDMS body having a contour surface, a membrane covering the contour surface of the PDMS body, and a PZT actuator located on the membrane. The contour surface of the PDMS body to be sealed by the membrane and the PZT actuator has in series a lead-in cavity, a lead-in nozzle structure, a main cavity, a lead-out nozzle structure, and a lead-out cavity. The PZT actuator is located right above the main cavity. By providing the PDMS as a material to form the body of the micro pump, the micro pump can then be mass-produced with less cost and simpler structuring. Also, substantial elasticity and bio-compatibility for the micro pump can be achieved.
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形(空)
序號: 2556
產出年度: 95
領域別: (空)
專利名稱-中文: PDMS無閥幫浦結構及其製程
執行單位: 工研院院本部
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人: 劉敏生、王啟川、楊秉純、鄭有青、張文政
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: I256374
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種PDMS無閥微幫浦結構及其製程,PDMS無閥微幫浦結構係包括一PDMS結構體、一設置於PDMS結構體上之薄膜、及一設置於薄膜上之壓電致動器;PDMS結構體上,又包括凹陷形成連通流道結構之一輸入槽體、一輸入噴嘴結構、一腔體、一輸出噴嘴結構、及一輸出槽體;其中,壓電致動器係相對設置於腔體上方,以藉由其對腔體之上下作動,控制PDMS無閥微幫浦結構內之流體流動;而以PDMS作為PDMS結構體之材料,乃得利用翻模製程降低生產成本,並獲致結構簡單、並具彈性與較佳生物相容性之微幫浦結構。_x000D_A PDMS valve-less micro pump structure includes a PDMS body having a contour surface, a membrane covering the contour surface of the PDMS body, and a PZT actuator located on the membrane. The contour surface of the PDMS body to be sealed by the membrane and the PZT actuator has in series a lead-in cavity, a lead-in nozzle structure, a main cavity, a lead-out nozzle structure, and a lead-out cavity. The PZT actuator is located right above the main cavity. By providing the PDMS as a material to form the body of the micro pump, the micro pump can then be mass-produced with less cost and simpler structuring. Also, substantial elasticity and bio-compatibility for the micro pump can be achieved.
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註: 原領域別為通訊光電,95年改為電資通光
特殊情形: (空)
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# 03-4712201 357125 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號4105
產出年度97
領域別(空)
專利名稱-中文可拋棄兩段式內視鏡
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱生醫檢測技術開發計畫
專利發明人黃科志、康德人、翁炳國、郭維武、吳憲明
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼7442166
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文(空)
技術摘要-英文(空)
聯絡人員黃科志
電話03-4712201#357125
傳真03-4711204
電子信箱黃科志
參考網址(空)
備註0
特殊情形(空)
序號: 4105
產出年度: 97
領域別: (空)
專利名稱-中文: 可拋棄兩段式內視鏡
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 生醫檢測技術開發計畫
專利發明人: 黃科志、康德人、翁炳國、郭維武、吳憲明
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 7442166
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: (空)
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 黃科志
電話: 03-4712201#357125
傳真: 03-4711204
電子信箱: 黃科志
參考網址: (空)
備註: 0
特殊情形: (空)

# 03-4712201 357125 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號1571
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文高深寬比微結構電沉積設備
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱功能性微細結構四年計畫
專利發明人黃科志,楊鏡堂,孫炳欽,黃宏芳,康德人,陳順林,許文榮,吳憲明
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼M261829
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種可電沉積高深寬比金屬微結構的設備。本裝置採用尺寸安定性陽極,陽極是中空多孔的圓盤狀結構,在陽極上鑽有適當的微細孔,電鑄液由陽極噴向陰極。陰極的矽晶圓水平置放,其上的高深寬比的微孔朝上,電鑄時在陰極產生的氫氣,容易因為浮力上升離開微孔,輔以超音波震盪器震盪陰極,將可大幅提昇去除氫氣的能力;由微細孔產生的噴流加上超音波震盪的效果,增加微孔內的質傳效能,降低電鑄件中空孔洞的形成。陰極以馬達帶動旋轉,使得陽極僅需鑽適當的微細孔,噴流的效果即可達到整個矽晶圓面積。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員黃科志
電話03-4712201轉357125
傳真03-4712201
電子信箱chensl2005@yahoo.com.tw
參考網址(空)
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1571
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 高深寬比微結構電沉積設備
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫
專利發明人: 黃科志,楊鏡堂,孫炳欽,黃宏芳,康德人,陳順林,許文榮,吳憲明
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: M261829
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種可電沉積高深寬比金屬微結構的設備。本裝置採用尺寸安定性陽極,陽極是中空多孔的圓盤狀結構,在陽極上鑽有適當的微細孔,電鑄液由陽極噴向陰極。陰極的矽晶圓水平置放,其上的高深寬比的微孔朝上,電鑄時在陰極產生的氫氣,容易因為浮力上升離開微孔,輔以超音波震盪器震盪陰極,將可大幅提昇去除氫氣的能力;由微細孔產生的噴流加上超音波震盪的效果,增加微孔內的質傳效能,降低電鑄件中空孔洞的形成。陰極以馬達帶動旋轉,使得陽極僅需鑽適當的微細孔,噴流的效果即可達到整個矽晶圓面積。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 黃科志
電話: 03-4712201轉357125
傳真: 03-4712201
電子信箱: chensl2005@yahoo.com.tw
參考網址: (空)
備註: 原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-4712201 357125 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號1802
產出年度94
領域別(空)
專利名稱-中文奈米防霧抗刮膜
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱功能性微細結構四年計畫
專利發明人蕭章能,楊貴朱,康德人,吳憲明,許文榮
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼M269224
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種具超親水、防霧特性的新型透明膜,最外層經奈米粒子塗層處理,此塗層同時具有耐磨防刮之特性,可用於汽車外部照後鏡,避免雨中行駛造成視線模糊;此塗層亦可披覆於任何隔熱紙最外層,用於車內,防止起霧,確保行車安全。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員蕭章能
電話03-4712201轉357125
傳真03-4712201
電子信箱chensl2005@yahoo.com.tw
參考網址(空)
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 1802
產出年度: 94
領域別: (空)
專利名稱-中文: 奈米防霧抗刮膜
執行單位: 中科院材料所
產出單位: (空)
計畫名稱: 功能性微細結構四年計畫
專利發明人: 蕭章能,楊貴朱,康德人,吳憲明,許文榮
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: M269224
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種具超親水、防霧特性的新型透明膜,最外層經奈米粒子塗層處理,此塗層同時具有耐磨防刮之特性,可用於汽車外部照後鏡,避免雨中行駛造成視線模糊;此塗層亦可披覆於任何隔熱紙最外層,用於車內,防止起霧,確保行車安全。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 蕭章能
電話: 03-4712201轉357125
傳真: 03-4712201
電子信箱: chensl2005@yahoo.com.tw
參考網址: (空)
備註: 原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形: (空)
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與微幫浦結構同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 6778161

矽單晶液晶顯示器及製作方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖 | 證書號碼: 6721027

簡易式塊狀彈性體的製程方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維, 盧明, 林志榮 | 證書號碼: 6605525

蝕刻玻璃面板之裝置及方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳泰宏, 黃元璋 | 證書號碼: 6673195

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 184692

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 6714268

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 191581

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 6677189

薄膜電晶體面板的製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 李啟聖, 張鈞傑 | 證書號碼: 6713328

增快液晶顯示器應答速度之驅動系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 廖明俊, 徐正池 | 證書號碼: 200112

可調式訊號干擾積體電路系統及其量測方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 李明林, 徐欽山 | 證書號碼: 6683469

子母貫通孔結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 張慧如, 李明林, 何宗哲 | 證書號碼: 6717071

一種GAMMA校正驅動系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王博文, 陳明道, 陳尚立 | 證書號碼: 193940

三極結構電子發射源之製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李正中, 何家充, 許志榮, 鄭華琦, 張悠揚 | 證書號碼: 6705910

低溫多晶矽的製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林憲信, 李介文, 鄭紹良, 陳力俊, 彭遠清, 王文通 | 證書號碼: 206403

中心對稱之GAMMA電壓校正電路

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳明道, 沈毓仁 | 證書號碼: 6778161

矽單晶液晶顯示器及製作方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 莊立聖 | 證書號碼: 6721027

簡易式塊狀彈性體的製程方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 盧思維, 盧明, 林志榮 | 證書號碼: 6605525

蝕刻玻璃面板之裝置及方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳泰宏, 黃元璋 | 證書號碼: 6673195

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 184692

陽光下可顯示的顯示器的畫素元件結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王文俊, 莊立聖 | 證書號碼: 6714268

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 191581

具有自我對準輕摻雜汲極結構之多晶矽薄膜電晶體

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 廖宗能, 陳志強 | 證書號碼: 6677189

薄膜電晶體面板的製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東, 李啟聖, 張鈞傑 | 證書號碼: 6713328

增快液晶顯示器應答速度之驅動系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 沈毓仁, 廖明俊, 徐正池 | 證書號碼: 200112

可調式訊號干擾積體電路系統及其量測方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 李明林, 徐欽山 | 證書號碼: 6683469

子母貫通孔結構

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 張慧如, 李明林, 何宗哲 | 證書號碼: 6717071

一種GAMMA校正驅動系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 王博文, 陳明道, 陳尚立 | 證書號碼: 193940

三極結構電子發射源之製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李正中, 何家充, 許志榮, 鄭華琦, 張悠揚 | 證書號碼: 6705910

低溫多晶矽的製作方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林憲信, 李介文, 鄭紹良, 陳力俊, 彭遠清, 王文通 | 證書號碼: 206403

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