Large Areas Undistorted Imaging Apparatus For Light Speckles And Method Thereof
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專利名稱-中文Large Areas Undistorted Imaging Apparatus For Light Speckles And Method Thereof的核准國家是美國, 證書號碼是US7,593,113B2, 專利期間起是1998/2/15, 專利期間訖是117/02/15, 專利性質是發明, 執行單位是中科院材料所, 產出年度是99, 計畫名稱是光電感測辨識模組與應用技術計畫, 專利發明人是黃宜裕，陳銘，王茂燃，黃文政，馬心一，黃欽德，劉光新.

序號	7254
產出年度	99
領域別	電資通光
專利名稱-中文	Large Areas Undistorted Imaging Apparatus For Light Speckles And Method Thereof
執行單位	中科院材料所
產出單位	(空)
計畫名稱	光電感測辨識模組與應用技術計畫
專利發明人	黃宜裕 \| 陳銘 \| 王茂燃 \| 黃文政 \| 馬心一 \| 黃欽德 \| 劉光新
核准國家	美國
獲證日期	1999/9/22
證書號碼	US7,593,113B2
專利期間起	1998/2/15
專利期間訖	117/02/15
專利性質	發明
技術摘要-中文	本發明係為一種大面積不變形光斑取像裝置及其方法，該裝置包含一光發射器、一限光模組及一感測器，該限光模組設於該感測器前，該限光模組係包含複數限光件，該些限光件係排列為一維或二維陣列，當該光發射器發射一光源至一物體表面，產生至少一散射光，通過該限光模組限制該至少一散射光，並產生複數繞射光，該些繞射光相互干涉產生複數不變形光斑，且成像於該感測器上，最後依據該些光斑得到一大面積且不變形之光斑圖，且該光斑圖記錄了物體表面三維變化之特徵。2.應用領域：指紋識別，註冊個體識別，物面細微變化偵測。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	黃宜裕
電話	03-4712201#359354
傳真	03-4711024
電子信箱	csist_mrdc@csnet.gov.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

7254

產出年度

領域別

電資通光

專利名稱-中文

Large Areas Undistorted Imaging Apparatus For Light Speckles And Method Thereof

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

光電感測辨識模組與應用技術計畫

專利發明人

黃宜裕 | 陳銘 | 王茂燃 | 黃文政 | 馬心一 | 黃欽德 | 劉光新

核准國家

美國

獲證日期

1999/9/22

證書號碼

US7,593,113B2

專利期間起

1998/2/15

專利期間訖

117/02/15

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係為一種大面積不變形光斑取像裝置及其方法，該裝置包含一光發射器、一限光模組及一感測器，該限光模組設於該感測器前，該限光模組係包含複數限光件，該些限光件係排列為一維或二維陣列，當該光發射器發射一光源至一物體表面，產生至少一散射光，通過該限光模組限制該至少一散射光，並產生複數繞射光，該些繞射光相互干涉產生複數不變形光斑，且成像於該感測器上，最後依據該些光斑得到一大面積且不變形之光斑圖，且該光斑圖記錄了物體表面三維變化之特徵。2.應用領域：指紋識別，註冊個體識別，物面細微變化偵測。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

黃宜裕

電話

03-4712201#359354

傳真

03-4711024

電子信箱

csist_mrdc@csnet.gov.tw

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(空)

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特殊情形

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不變形光斑取像技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 96 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 在光斑影像不變形條件下，光斑取像裝置與觀測物面相對運動之可移動距離與取像裝置之鏡心到物面距離有關，理論及實驗證實當取像透鏡焦距為13.6mm時，不變形光斑取像可移動距離超過340um，且因為光斑影像不... \| 潛力預估: 由於本技術已有輕薄短小量產型雷射滑鼠光電讀取頭雛形產品設計，未來將繼續發展不同應用之光電讀取頭及相關軟硬體，從3C產業之個人隨身裝置，到工業精密自動系統，到金融等級身分識別系統等，預估持續開發本技術將... @ 技術司可移轉技術資料集
雷射光斑二維精密定位技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 97 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 定位面積：30x30平方公分絕對定位精度小於10um重覆定位精度小於10um。 \| 潛力預估: 對國內精密機械加工業的技術提升與產業加值有非常大幫助。 @ 技術司可移轉技術資料集
無法複製之身分識別技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 99 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1.單張身分卡識別時間小於1秒 2.ID識別卡錯判接受率: \| 潛力預估: 將會為本國產業開創新的市場，預估每年可產出5億元以上之相關商品 @ 技術司可移轉技術資料集
雷射光斑導覽技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 100 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 高靈敏度指控滑板模組(光學位移感測器線性度誤差小於 1.6%、角度解析度達 0.9度、在信號處理速度6000fps時，滑板移動速度可達1.2m/s) \| 潛力預估: 初期產品以家電賣場及家電廠為販售目標，保守估計國外與國內市場販售以10萬台為目標，年產值預估可達5億元。 2012年Smart TV 預估可操過1億台，以市佔率2%估算，未來OEM市場中將有每年高達6... @ 技術司可移轉技術資料集
Image Invariant Optical Speckle Capturing Device And Method	核准國家: 美國 \| 證書號碼: US7,715,016B2 \| 專利期間起: 1999/5/11 \| 專利期間訖: 117/05/27 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 99 \| 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 \| 專利發明人: 黃宜裕，陳銘，馬心一，黃欽德，王茂燃，黃文政 @ 技術司專利資料集
光斑取像裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 發明第 I 275781號 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 96 \| 計畫名稱: 光電輸出入模組與應用技術計畫 \| 專利發明人: 黃宜裕 @ 技術司專利資料集
高精度光斑定位角度感測器開發計畫	執行單位: 中科院材料暨光電研究所─固態元件組 \| 產出年度: 103 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫 \| 領域: 綠能科技 \| 技術規格: (1)絕對定位精度:1um (2)光斑影像感測速率:8KHz \| 潛力預估: 佳 @ 技術司可移轉技術資料集
光斑卡身分識別技術	執行單位: 中科院材料所 \| 產出年度: 98 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 光電感測辨識模組與應用技術計畫 \| 領域: \| 技術規格: 1.單張身分卡識別時間小於1秒 2.ID識別卡錯判接受率: \| 潛力預估: 將會為本國產業開創新的市場，預估每年可產出5億元以上之相關商品 @ 技術司可移轉技術資料集

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可調光徑之光學捕捉裙	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,667,838 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明, 王浩偉, 羅偕益
利用雙波混合干涉術之掃瞄式超音波裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194233 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李朱育, 施學兢
全光學激發雷射外調制式之原子鐘裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200261 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 姚鵬, 陳志光
控制奈米碳管長度之方法與裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 200165 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 戴鴻名, 施能謙, 陳燦林
平面定位機構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201505 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林慶芳, 張中柱
即時紅外化學影像光譜裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 203435 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李耀昌, 王浩偉
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位移微擾裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201468 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 林耀明, 陳志光, 石宇森
電磁場感測元件及其裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201837 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 黃卯生, 薛文崇, 曾文仁, 馮勁敏, 梁文烈
二維位移量之量測裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I224351 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 高清芬, 張中柱, 林慶芳
雙波混合於光折變晶體干涉裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I221897 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 李朱育, 施學兢
位移量測裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207362 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄭凱宇, 戴鴻名
奈米碳管探針製作系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 207365 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 潘善鵬, 姚斌誠, 張威政, 陳聖
壓電管	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 190341 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院量測中心 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 張貴凱, 施能謙, 陳燦林

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序號

產出年度

領域別

專利名稱-中文

執行單位

產出單位

計畫名稱

專利發明人

核准國家

獲證日期

證書號碼

專利期間起

專利期間訖

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