量測系統
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文量測系統的核准國家是中華民國, 證書號碼是I342387, 專利期間起是100/05/21, 專利期間訖是115/12/25, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是100, 計畫名稱是軟性電子設備及模組技術開發三年計畫, 專利發明人是鍾政英.朱志良.李佶峰.林佑整.葉光明.曾健明.

序號9046
產出年度100
領域別機械運輸
專利名稱-中文量測系統
執行單位金屬中心
產出單位金屬中心
計畫名稱軟性電子設備及模組技術開發三年計畫
專利發明人鍾政英.朱志良.李佶峰.林佑整.葉光明.曾健明
核准國家中華民國
獲證日期100/05/21
證書號碼I342387
專利期間起100/05/21
專利期間訖115/12/25
專利性質發明
技術摘要-中文以市售光碟機(DVD-ROM)內之光學讀取頭進行開發,由於此一探頭的聚焦特性與量測探頭之特性相符,因此利用其聚焦曲線之線性區域,設計一檢測電路,來應用於量測領域。由於其聚焦之方式經由感測器可得-S曲線,利用此曲線的線性區域與位置進行對應,經由對聚焦反射之訊號的解讀,來判斷LCD基版與讀寫頭之相對距離。整體雷射聚焦量測探頭以個人電腦進行整合、控制、量測與數據處理,將所量測得之LCD基版與讀寫頭相對距離,作為精密定位平台帶動影像檢測模組自動對焦的依據,完成影像檢測模組自動對焦功能。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員曾健明
電話07-3513121-2643
傳真07-3540280
電子信箱ming@mail.mirdc.org.tw
參考網址http://www.mirdc.org.tw/
備註(空)
特殊情形(空)

序號

9046

產出年度

100

領域別

機械運輸

專利名稱-中文

量測系統

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

軟性電子設備及模組技術開發三年計畫

專利發明人

鍾政英.朱志良.李佶峰.林佑整.葉光明.曾健明

核准國家

中華民國

獲證日期

100/05/21

證書號碼

I342387

專利期間起

100/05/21

專利期間訖

115/12/25

專利性質

發明

技術摘要-中文

以市售光碟機(DVD-ROM)內之光學讀取頭進行開發,由於此一探頭的聚焦特性與量測探頭之特性相符,因此利用其聚焦曲線之線性區域,設計一檢測電路,來應用於量測領域。由於其聚焦之方式經由感測器可得-S曲線,利用此曲線的線性區域與位置進行對應,經由對聚焦反射之訊號的解讀,來判斷LCD基版與讀寫頭之相對距離。整體雷射聚焦量測探頭以個人電腦進行整合、控制、量測與數據處理,將所量測得之LCD基版與讀寫頭相對距離,作為精密定位平台帶動影像檢測模組自動對焦的依據,完成影像檢測模組自動對焦功能。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

曾健明

電話

07-3513121-2643

傳真

07-3540280

電子信箱

ming@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw/

備註

(空)

特殊情形

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基礎科學研究計畫-國家實驗研究院(3/4)

主辦機關: 財團法人國家實驗研究院 | 計畫類別(次類別): 基礎研究計畫 | 隸屬專案(子專案): | 年度: 111 | 計畫期程(起): 20200101 | 計畫期程(訖): 20231231 | 年累計實際進度: 100.00% | 年累計預定進度: 100.00% | 年累計預算執行率(%): 99.29% | 年度預算達成率(%): 99.29% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.與台大、清大合作,完成具垂直異向性、元件尺寸400oC)的磁性記憶體元件,成果獲選VLSI highlight paper and Electron Device Letters (2...

@ 政府科技發展計畫清單

車輛排放監測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I417208 | 專利期間起: 119/12/23 | 專利期間訖: 一種車輛排放監測裝置及方法,其係依據車載排放量測系統(OBS)擷取到的二氧化碳與瞬時油耗,得出一油耗與二氧化碳關係式,再以車上診斷系統(OBD)擷取車輛之瞬間油耗,比較車載排放量測系統與車上診斷系統瞬... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 節能電動化車輛關鍵模組技術暨產業化發展計畫 | 專利發明人: 林克衛、陳世昌、薛宇圻、莊志偉

@ 技術司專利資料集

氣象風險數位治理與跨域應用創新計畫(1/6)

主辦機關: 交通部中央氣象署 | 計畫類別(次類別): 政策計畫 | 隸屬專案(子專案): 「五加二」產業創新計畫(數位經濟與服務科技創新) | 年度: 113 | 計畫期程(起): 20240101 | 計畫期程(訖): 20291231 | 年累計實際進度: 50.00% | 年累計預定進度: 50.00% | 年累計預算執行率(%): 99.33% | 年度預算達成率(%): 15.41% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.完成全球天氣預報系統模式解析度提升至13 km與GSI同化系統基礎版本升級為第16版之整合測試。2.全球展期系集預報系統CWAGEPS V2.1於1月提出上線申請,並於3月26日正式上...

@ 政府科技發展計畫清單

檢測驗證機台之數位量測分析技術

執行單位: 自行車中心 | 產出年度: 104 | 產出單位: | 計畫名稱: 自行車暨健康科技先進技術與服務模式精進計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 1. 感測元件應用 2. 訊號擷取與處理技術 3. 類比-數位訊號轉換技術 4. 訊號轉換與電源供應系統設計 5. 感測器量測系統整合設技術 6. 數值訊號歷程資料建構與紀錄技術 | 潛力預估: 以更全面性的感測、量測技術能量協助產品製程與品管技術提升並有效改善產品製程良率,另一方面也提供產品更深層面的優化方向與目標,建構更高質化產品技術層次,提升產業競爭力。

@ 技術司可移轉技術資料集

國家度量衡標準實驗室整體運作及發展計畫(4/4)

主辦機關: 經濟部標準檢驗局 | 計畫類別(次類別): 延續重點政策計畫 | 隸屬專案(子專案): | 年度: 109 | 計畫期程(起): 20170101 | 計畫期程(訖): 20201231 | 年累計實際進度: 99.66% | 年累計預定進度: 100.00% | 年累計預算執行率(%): 99.66% | 年度預算達成率(%): 99.66% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.解決公務執法公正性問題,開發系統驗證檢定所需方法,縮短區間測速裝置恢復執法與法規正式施行間之空窗期。2.完備國內區間測速裝置檢定技術規範,並確保道路交通安全,做為警察機關公務執法之依據...

@ 政府科技發展計畫清單

基礎科學研究計畫-國家實驗研究院(4/4)

主辦機關: 財團法人國家實驗研究院 | 計畫類別(次類別): 基礎研究計畫 | 隸屬專案(子專案): | 年度: 112 | 計畫期程(起): 20200101 | 計畫期程(訖): 20231231 | 年累計實際進度: 100.00% | 年累計預定進度: 100.00% | 年累計預算執行率(%): 97.27% | 年度預算達成率(%): 97.27% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.引入16nm虛擬製程訓練套件與7nm先進製程服務,放寬前瞻製程使用管制,提升前瞻製程的訓練量能:協助包含台大、清大、陽交大、成大、中山、中央、中興、中正、台科大、北科大、元智等11所大...

@ 政府科技發展計畫清單

高精度LED快速二維光色度量測技術開發計畫

公司名稱: 致茂電子股份有限公司 | 計畫起訖時間: 98年09月01日 至 99年12月31日(共 16 個月) | 計畫總經費: 27960 | 計畫補助款: 11748 | 計畫自籌款: 16212 | 計畫摘要: (一)公司簡介  創立日期:1984年11月8日負責人:黃欽明 實收資本額: ( 97年) 3,299,151仟元公司總人數:993 人研發人員數:407 人主要營業項目:精密電子量測儀器、自動化量測...

@ 技術司業界開發產業技術計畫補助計畫

雷射3D輪廓量測系統

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 104 | 產出單位: | 計畫名稱: 關鍵製造業製程高值化拔尖計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 1.支援全區域多點的量測,點雲資料處理量:≧ 1M pts 2.非接觸式雷射量測,適用於高反射金屬表面及具彈性表面產品的量測,同步控制掃描速率:≧ 250 lines/sec | 潛力預估: 國內尚無快速量測的雷射掃描量測系統,其關鍵在於需要高度機電整合控制及雷射掃描模組需要進行快速同步控制,再透過點雲輪廓特徵辨識量測演算法方能達到高精度的量測水準,透過本技術的建立將能實現全數位化的雷射3...

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基礎科學研究計畫-國家實驗研究院(3/4)

主辦機關: 財團法人國家實驗研究院 | 計畫類別(次類別): 基礎研究計畫 | 隸屬專案(子專案): | 年度: 111 | 計畫期程(起): 20200101 | 計畫期程(訖): 20231231 | 年累計實際進度: 100.00% | 年累計預定進度: 100.00% | 年累計預算執行率(%): 99.29% | 年度預算達成率(%): 99.29% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.與台大、清大合作,完成具垂直異向性、元件尺寸400oC)的磁性記憶體元件,成果獲選VLSI highlight paper and Electron Device Letters (2...

@ 政府科技發展計畫清單

車輛排放監測系統及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I417208 | 專利期間起: 119/12/23 | 專利期間訖: 一種車輛排放監測裝置及方法,其係依據車載排放量測系統(OBS)擷取到的二氧化碳與瞬時油耗,得出一油耗與二氧化碳關係式,再以車上診斷系統(OBD)擷取車輛之瞬間油耗,比較車載排放量測系統與車上診斷系統瞬... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 車輛中心 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 節能電動化車輛關鍵模組技術暨產業化發展計畫 | 專利發明人: 林克衛、陳世昌、薛宇圻、莊志偉

@ 技術司專利資料集

氣象風險數位治理與跨域應用創新計畫(1/6)

主辦機關: 交通部中央氣象署 | 計畫類別(次類別): 政策計畫 | 隸屬專案(子專案): 「五加二」產業創新計畫(數位經濟與服務科技創新) | 年度: 113 | 計畫期程(起): 20240101 | 計畫期程(訖): 20291231 | 年累計實際進度: 50.00% | 年累計預定進度: 50.00% | 年累計預算執行率(%): 99.33% | 年度預算達成率(%): 15.41% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.完成全球天氣預報系統模式解析度提升至13 km與GSI同化系統基礎版本升級為第16版之整合測試。2.全球展期系集預報系統CWAGEPS V2.1於1月提出上線申請,並於3月26日正式上...

@ 政府科技發展計畫清單

檢測驗證機台之數位量測分析技術

執行單位: 自行車中心 | 產出年度: 104 | 產出單位: | 計畫名稱: 自行車暨健康科技先進技術與服務模式精進計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 1. 感測元件應用 2. 訊號擷取與處理技術 3. 類比-數位訊號轉換技術 4. 訊號轉換與電源供應系統設計 5. 感測器量測系統整合設技術 6. 數值訊號歷程資料建構與紀錄技術 | 潛力預估: 以更全面性的感測、量測技術能量協助產品製程與品管技術提升並有效改善產品製程良率,另一方面也提供產品更深層面的優化方向與目標,建構更高質化產品技術層次,提升產業競爭力。

@ 技術司可移轉技術資料集

國家度量衡標準實驗室整體運作及發展計畫(4/4)

主辦機關: 經濟部標準檢驗局 | 計畫類別(次類別): 延續重點政策計畫 | 隸屬專案(子專案): | 年度: 109 | 計畫期程(起): 20170101 | 計畫期程(訖): 20201231 | 年累計實際進度: 99.66% | 年累計預定進度: 100.00% | 年累計預算執行率(%): 99.66% | 年度預算達成率(%): 99.66% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.解決公務執法公正性問題,開發系統驗證檢定所需方法,縮短區間測速裝置恢復執法與法規正式施行間之空窗期。2.完備國內區間測速裝置檢定技術規範,並確保道路交通安全,做為警察機關公務執法之依據...

@ 政府科技發展計畫清單

基礎科學研究計畫-國家實驗研究院(4/4)

主辦機關: 財團法人國家實驗研究院 | 計畫類別(次類別): 基礎研究計畫 | 隸屬專案(子專案): | 年度: 112 | 計畫期程(起): 20200101 | 計畫期程(訖): 20231231 | 年累計實際進度: 100.00% | 年累計預定進度: 100.00% | 年累計預算執行率(%): 97.27% | 年度預算達成率(%): 97.27% | 重要執行成果: 計畫亮點:「1.引入16nm虛擬製程訓練套件與7nm先進製程服務,放寬前瞻製程使用管制,提升前瞻製程的訓練量能:協助包含台大、清大、陽交大、成大、中山、中央、中興、中正、台科大、北科大、元智等11所大...

@ 政府科技發展計畫清單

高精度LED快速二維光色度量測技術開發計畫

公司名稱: 致茂電子股份有限公司 | 計畫起訖時間: 98年09月01日 至 99年12月31日(共 16 個月) | 計畫總經費: 27960 | 計畫補助款: 11748 | 計畫自籌款: 16212 | 計畫摘要: (一)公司簡介  創立日期:1984年11月8日負責人:黃欽明 實收資本額: ( 97年) 3,299,151仟元公司總人數:993 人研發人員數:407 人主要營業項目:精密電子量測儀器、自動化量測...

@ 技術司業界開發產業技術計畫補助計畫

雷射3D輪廓量測系統

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 104 | 產出單位: | 計畫名稱: 關鍵製造業製程高值化拔尖計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 1.支援全區域多點的量測,點雲資料處理量:≧ 1M pts 2.非接觸式雷射量測,適用於高反射金屬表面及具彈性表面產品的量測,同步控制掃描速率:≧ 250 lines/sec | 潛力預估: 國內尚無快速量測的雷射掃描量測系統,其關鍵在於需要高度機電整合控制及雷射掃描模組需要進行快速同步控制,再透過點雲輪廓特徵辨識量測演算法方能達到高精度的量測水準,透過本技術的建立將能實現全數位化的雷射3...

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夾持移載定位系統技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: .工件軸(X-axis)定位精度±3μm .夾持軸可控制模式:力量模式、位置模式 .取放軸(Y-axis)定位精度±3μm | 潛力預估: 提升自動化生產功能;降件人工成本2人年/台

@ 技術司可移轉技術資料集

突起物影像疊合之檢測技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 平面顯示器設備技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 影像解析度:0.2~2um/pixel ‧ 取像間格:0.5~2um ‧ 取像範圍:50~1000um ‧ 取像間格:0.5~2um ‧ 處理面積: | 潛力預估: 取代進口設備1仟萬/年;創造產值5仟萬/年;並達成自動化檢測功能。

@ 技術司可移轉技術資料集

微型組裝系統移載模組技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 氣孔直徑≦1mm ‧ 可移載物件型式:圓型及非圓型件 | 潛力預估: 創造自動化精微組裝產值約0.4億元/年

@ 技術司可移轉技術資料集

精密印刷設備技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 印刷膜厚均勻性: ±10%@15~20μm 印刷面積:300*300mm2 印刷循環時間: 10秒/次 | 潛力預估: 協助國內印刷設備業提昇功能性印刷技術能量,促進軟性電子設備業投資。

@ 技術司可移轉技術資料集

捲對捲高精度網版印刷製程

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 印刷面積:300mm*300mm。 印刷循環時間:6次/min。 Seamless:±50um | 潛力預估: 協助國內印刷設備業提昇功能性印刷技術能量,促進軟性電子設備業投資。

@ 技術司可移轉技術資料集

直流無刷馬達無段速控制模組

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 產出單位: | 計畫名稱: 直流無刷馬達驅控技術自主先期計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 1、無段速控制轉速 2、弦波驅動 3、定速穩態控制 | 潛力預估: 「技術自主」目標之成果展示為:高效率運算核心模組則以MCU作為載具,馬達的控制序程式撰寫:速度、扭矩以及類弦波控制,將先透過模擬後再與馬達作最後的匹配。開放馬達行為控制序程式,改善國內軟實力較弱的現況...

@ 技術司可移轉技術資料集

自動調節所需照明亮度的影像擷取方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200810188842.9 | 專利期間起: 101/01/04 | 專利期間訖: 117/12/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 曾健明.林治中.葉光明.鍾政英

@ 技術司專利資料集

自動對焦量測裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I359279 | 專利期間起: 101/03/01 | 專利期間訖: 116/12/23 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 呂英誠.鍾政英.蘇立軒.葉光明.曾健明

@ 技術司專利資料集

夾持移載定位系統技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: .工件軸(X-axis)定位精度±3μm .夾持軸可控制模式:力量模式、位置模式 .取放軸(Y-axis)定位精度±3μm | 潛力預估: 提升自動化生產功能;降件人工成本2人年/台

@ 技術司可移轉技術資料集

突起物影像疊合之檢測技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 平面顯示器設備技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 影像解析度:0.2~2um/pixel ‧ 取像間格:0.5~2um ‧ 取像範圍:50~1000um ‧ 取像間格:0.5~2um ‧ 處理面積: | 潛力預估: 取代進口設備1仟萬/年;創造產值5仟萬/年;並達成自動化檢測功能。

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微型組裝系統移載模組技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 金屬中心機械與自動化環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 氣孔直徑≦1mm ‧ 可移載物件型式:圓型及非圓型件 | 潛力預估: 創造自動化精微組裝產值約0.4億元/年

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精密印刷設備技術

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 99 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 印刷膜厚均勻性: ±10%@15~20μm 印刷面積:300*300mm2 印刷循環時間: 10秒/次 | 潛力預估: 協助國內印刷設備業提昇功能性印刷技術能量,促進軟性電子設備業投資。

@ 技術司可移轉技術資料集

捲對捲高精度網版印刷製程

執行單位: 工研院南分院 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 印刷面積:300mm*300mm。 印刷循環時間:6次/min。 Seamless:±50um | 潛力預估: 協助國內印刷設備業提昇功能性印刷技術能量,促進軟性電子設備業投資。

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直流無刷馬達無段速控制模組

執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 104 | 產出單位: | 計畫名稱: 直流無刷馬達驅控技術自主先期計畫 | 領域: 製造精進 | 技術規格: 1、無段速控制轉速 2、弦波驅動 3、定速穩態控制 | 潛力預估: 「技術自主」目標之成果展示為:高效率運算核心模組則以MCU作為載具,馬達的控制序程式撰寫:速度、扭矩以及類弦波控制,將先透過模擬後再與馬達作最後的匹配。開放馬達行為控制序程式,改善國內軟實力較弱的現況...

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自動調節所需照明亮度的影像擷取方法

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200810188842.9 | 專利期間起: 101/01/04 | 專利期間訖: 117/12/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 曾健明.林治中.葉光明.鍾政英

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自動對焦量測裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I359279 | 專利期間起: 101/03/01 | 專利期間訖: 116/12/23 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 101 | 計畫名稱: 軟性電子次世代設備及模組技術開發三年計畫 | 專利發明人: 呂英誠.鍾政英.蘇立軒.葉光明.曾健明

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具有偏射型對稱式加熱片之微型噴液產生器及其製造方法

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具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕, 蘇慧琪, 陳宜孝, 梁兆鈞, 李政鴻, 莊政恩

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝

矽深蝕刻反應離子蝕刻延遲的解決方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 盧慧娟

3D堆疊封裝散熱模組

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6700783 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷, 姜信騰

應用奈米管增加半導體元件電容之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6759305 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 崔秉鉞, 李正中

改進之場發射型顯示器驅動方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6741039 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚

氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 188211 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪, 江松燦

形成薄膜電晶體於透明基板上之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6764887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 187289 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6773870 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋

無凸塊之內引腳與接合墊的接合方法及其結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6656772 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃元璋

使用非導電性接著劑以接合IC晶片與基板之方法及其組裝結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6605491 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 謝有德, 張世明, 林文迪

可調式電容及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 185849 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 林瑞進, 吳家宏, 周坤和

具有偏射型對稱式加熱片之微型噴液產生器及其製造方法

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3533205 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 林俊仁, 陳仲竹

具有螺旋形導電層之漩渦狀微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223402 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 陳維恕, 蘇慧琪, 陳宜孝, 梁兆鈞, 李政鴻, 莊政恩

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184677 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝

懸臂式測試卡及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6651325 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 李政鴻, 李新立, 陳宜孝

矽深蝕刻反應離子蝕刻延遲的解決方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184681 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 盧慧娟

3D堆疊封裝散熱模組

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6700783 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 劉君愷, 姜信騰

應用奈米管增加半導體元件電容之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6759305 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 崔秉鉞, 李正中

改進之場發射型顯示器驅動方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6741039 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 李正中, 許志榮, 張悠揚

氣體吸附式晶圓保護裝置及其方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 188211 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蘇慧琪, 江松燦

形成薄膜電晶體於透明基板上之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6764887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 戴遠東

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 187289 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋

利用灰階曝光法製作傾斜散射式反射板之方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6773870 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 翁逸君, 廖奇璋

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