專利名稱-中文有機/無機混成薄膜及其製造方法的核准國家是美國, 證書號碼是8865826, 專利期間起是121/07/11, 專利期間訖是本發明係提供一種有機/無機混成薄膜,包括: 一聚偏氟乙烯;以及一無機奈米片材分散於此聚偏氟乙烯中,其中此聚偏氟乙烯與此無機奈米片材之重量比約97:3至20:80,此無機奈米片材之尺寸約20-80 nm,其中此有機/無機混成薄膜在380至780 nm的波長下之透明度大於約85%。此外,本發明亦提供此有..., 專利性質是發明, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是103, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是蘇俊瑋 ,呂奇明 ,楊智仁.
序號 | 13149 |
產出年度 | 103 |
領域別 | 服務創新 |
專利名稱-中文 | 有機/無機混成薄膜及其製造方法 |
執行單位 | 工研院院本部 |
產出單位 | 工研院材化所 |
計畫名稱 | 工研院創新前瞻技術研究計畫 |
專利發明人 | 蘇俊瑋 | 呂奇明 | 楊智仁 |
核准國家 | 美國 |
獲證日期 | 103/10/21 |
證書號碼 | 8865826 |
專利期間起 | 121/07/11 |
專利期間訖 | 本發明係提供一種有機/無機混成薄膜,包括: 一聚偏氟乙烯;以及一無機奈米片材分散於此聚偏氟乙烯中,其中此聚偏氟乙烯與此無機奈米片材之重量比約97:3至20:80,此無機奈米片材之尺寸約20-80 nm,其中此有機/無機混成薄膜在380至780 nm的波長下之透明度大於約85%。此外,本發明亦提供此有機/無機混成薄膜之製造方法。 |
專利性質 | 發明 |
技術摘要-中文 | 本發明係提供一種有機/無機混成薄膜,包括: 一聚偏氟乙烯;以及一無機奈米片材分散於此聚偏氟乙烯中,其中此聚偏氟乙烯與此無機奈米片材之重量比約97:3至20:80,此無機奈米片材之尺寸約20-80 nm,其中此有機/無機混成薄膜在380至780 nm的波長下之透明度大於約85%。此外,本發明亦提供此有機/無機混成薄膜之製造方法。 |
技術摘要-英文 | (空) |
聯絡人員 | 李露蘋 |
電話 | 03-5917919 |
傳真 | 03-5917538 |
電子信箱 | noralp@itri.org.tw |
參考網址 | (空) |
備註 | (空) |
特殊情形 | (空) |
序號13149 |
產出年度103 |
領域別服務創新 |
專利名稱-中文有機/無機混成薄膜及其製造方法 |
執行單位工研院院本部 |
產出單位工研院材化所 |
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫 |
專利發明人蘇俊瑋 | 呂奇明 | 楊智仁 |
核准國家美國 |
獲證日期103/10/21 |
證書號碼8865826 |
專利期間起121/07/11 |
專利期間訖本發明係提供一種有機/無機混成薄膜,包括: 一聚偏氟乙烯;以及一無機奈米片材分散於此聚偏氟乙烯中,其中此聚偏氟乙烯與此無機奈米片材之重量比約97:3至20:80,此無機奈米片材之尺寸約20-80 nm,其中此有機/無機混成薄膜在380至780 nm的波長下之透明度大於約85%。此外,本發明亦提供此有機/無機混成薄膜之製造方法。 |
專利性質發明 |
技術摘要-中文本發明係提供一種有機/無機混成薄膜,包括: 一聚偏氟乙烯;以及一無機奈米片材分散於此聚偏氟乙烯中,其中此聚偏氟乙烯與此無機奈米片材之重量比約97:3至20:80,此無機奈米片材之尺寸約20-80 nm,其中此有機/無機混成薄膜在380至780 nm的波長下之透明度大於約85%。此外,本發明亦提供此有機/無機混成薄膜之製造方法。 |
技術摘要-英文(空) |
聯絡人員李露蘋 |
電話03-5917919 |
傳真03-5917538 |
電子信箱noralp@itri.org.tw |
參考網址(空) |
備註(空) |
特殊情形(空) |
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I405664 | 專利期間起: 102/08/21 | 專利期間訖: 119/12/21 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 蘇俊瑋 | 呂奇明 | 楊智仁 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I405664 | 專利期間起: 102/08/21 | 專利期間訖: 119/12/21 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 102 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 蘇俊瑋 | 呂奇明 | 楊智仁 @ 技術司專利資料集 |
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| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 8652430 | 專利期間起: 120/09/11 | 專利期間訖: 本發明提供一種無機奈米片材之有機分散液,包括:一有機溶劑;以及一氫離子型無機奈米片材,分散於該有機溶劑中,其中該無機奈米片材之尺寸約20至80 nm,其中有機分散液之固含量為約1至20 wt%。本發明... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL201010616447.3 | 專利期間起: 103/12/10 | 專利期間訖: 119/12/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 蘇俊瑋 | 呂奇明 | 楊智仁 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL201010616533.4 | 專利期間起: 104/02/18 | 專利期間訖: 119/12/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 9,321,654 | 專利期間起: 105/04/26 | 專利期間訖: 120/09/11 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 9321654 | 專利期間起: 105/04/26 | 專利期間訖: 120/09/11 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I427034 | 專利期間起: 119/12/21 | 專利期間訖: 本發明提供一種無機奈米片材之有機分散液,包括:一有機溶劑;以及一氫離子型無機奈米片材,分散於該有機溶劑中,其中該無機奈米片材之尺寸約20至80 nm,其中有機分散液之固含量為約1至20 wt%。本發明... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 8652430 | 專利期間起: 120/09/11 | 專利期間訖: 本發明提供一種無機奈米片材之有機分散液,包括:一有機溶劑;以及一氫離子型無機奈米片材,分散於該有機溶劑中,其中該無機奈米片材之尺寸約20至80 nm,其中有機分散液之固含量為約1至20 wt%。本發明... | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 103 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL201010616447.3 | 專利期間起: 103/12/10 | 專利期間訖: 119/12/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 蘇俊瑋 | 呂奇明 | 楊智仁 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL201010616533.4 | 專利期間起: 104/02/18 | 專利期間訖: 119/12/30 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 104 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 9,321,654 | 專利期間起: 105/04/26 | 專利期間訖: 120/09/11 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 9321654 | 專利期間起: 105/04/26 | 專利期間訖: 120/09/11 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 105 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 楊智仁 | 呂奇明 | 蘇俊瑋 @ 技術司專利資料集 |
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| 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 163.125Gbps Fabric Ports._x000D_40Gbps Fabric throughput(80Gbps full duplex throughput).Support self... | 潛力預估: Self-Routing._x000D_Single Chip, Low cost.Scalable to 320Gbps._x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: Low Cost Solution for 8 ports_x000D_; 可達Wired Speed_x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Chassis-based with passive backplane and fabric/line cards.10Gigabit Ethernet interfaces.160Gbit/sec... | 潛力預估: 採用網路處理器平台進行雛型系統功能試驗,可針對規格變動進行快速的實驗與測試,縮短開發時程。利用開放原始碼資源,可降低成本。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: SNMP v1/v2/v3,MIB-II,MPLS_LSR_MIB,MPLS-FTN_MIB_x000D_ | 潛力預估: 成功應用於SNMP-based Agent及Element Management System之開發,並技轉給國內多家廠商,技術掌握度高_x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ISO X.721、ITU-T M.3000 Series、G.774 Series_x000D_ | 潛力預估: 完成SDH STM-1 Q3 Agent、Element Manager及Sub-network Management System 之系統開發,並技轉給國內廠商,技術掌握度高_x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
| 執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: BMAS Element Management System: Configuration Management_x000D_;Time slot assignment/interchange_x00... | 潛力預估: 已成功應用於TMN/Q3-based Agent及Element Management System 之開發,並技轉給國內廠商,技術掌握度高 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: MPLS、RSVP-TE、LDP、OSPF、SNMP、Martini. | 潛力預估: 可透過SNMP進行遠端控管Tunnel 與VC的建構。利用開放原始碼,作為改版基礎,可降低技轉廠商成本。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: 163.125Gbps Fabric Ports._x000D_40Gbps Fabric throughput(80Gbps full duplex throughput).Support self... | 潛力預估: Self-Routing._x000D_Single Chip, Low cost.Scalable to 320Gbps._x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: | 潛力預估: Low Cost Solution for 8 ports_x000D_; 可達Wired Speed_x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: Chassis-based with passive backplane and fabric/line cards.10Gigabit Ethernet interfaces.160Gbit/sec... | 潛力預估: 採用網路處理器平台進行雛型系統功能試驗,可針對規格變動進行快速的實驗與測試,縮短開發時程。利用開放原始碼資源,可降低成本。 @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: SNMP v1/v2/v3,MIB-II,MPLS_LSR_MIB,MPLS-FTN_MIB_x000D_ | 潛力預估: 成功應用於SNMP-based Agent及Element Management System之開發,並技轉給國內多家廠商,技術掌握度高_x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: ISO X.721、ITU-T M.3000 Series、G.774 Series_x000D_ | 潛力預估: 完成SDH STM-1 Q3 Agent、Element Manager及Sub-network Management System 之系統開發,並技轉給國內廠商,技術掌握度高_x000D_ @ 技術司可移轉技術資料集 |
執行單位: 工研院電通所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 寬頻有線通訊系統技術發展四年計畫 | 領域: | 技術規格: BMAS Element Management System: Configuration Management_x000D_;Time slot assignment/interchange_x00... | 潛力預估: 已成功應用於TMN/Q3-based Agent及Element Management System 之開發,並技轉給國內廠商,技術掌握度高 @ 技術司可移轉技術資料集 |
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| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 197257 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林展瑞 | 王博文 | 陳尚立 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195345 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 龐紹華 | 王美雅 | 楊宏仁 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223308 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 | 何家充 | 張悠揚 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206664 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 賴志明 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 辛隆賓 | 黃良瑩 | 詹景翔 | 鄭功龍 | 劉仕賢 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206722 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 陳明道 | 劉康弘 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 賴志明 | 許家榮 | 范揚宜 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223259 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥 |
| 核准國家: 美國 | 證書號碼: 6791887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220263 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 蕭名君 | 林偉義 | 張悠揚 | 王右武 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 240666 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達 | 李明林 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222134 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳邦旭 | 許博欽 | 劉致為 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 218573 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達 | 范榮昌 | 李明林 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201640 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 劉君愷 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 221340 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳振銘 | 吳永富 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200699 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇 | 利鴻禔 |
| 核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206662 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇 | 曾國華 | 陳龍德 | 游金銘 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 197257 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林展瑞 | 王博文 | 陳尚立 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195345 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 龐紹華 | 王美雅 | 楊宏仁 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223308 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許志榮 | 李鈞道 | 李正中 | 何家充 | 張悠揚 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206664 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 賴志明 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 辛隆賓 | 黃良瑩 | 詹景翔 | 鄭功龍 | 劉仕賢 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206722 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋 | 陳明道 | 劉康弘 | 林英哲 | 翁逸君 | 李正中 | 賴志明 | 許家榮 | 范揚宜 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223259 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥 |
核准國家: 美國 | 證書號碼: 6791887 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中 | 高明哲 | 潘宗銘 | 陳永祥 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220263 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道 | 蕭名君 | 林偉義 | 張悠揚 | 王右武 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 240666 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達 | 李明林 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 222134 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳邦旭 | 許博欽 | 劉致為 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 218573 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 新型 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達 | 范榮昌 | 李明林 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 201640 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 劉君愷 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 221340 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳振銘 | 吳永富 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 200699 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇 | 利鴻禔 |
核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206662 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 李宗昇 | 曾國華 | 陳龍德 | 游金銘 |
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