視差屏障元件及其製造方法
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專利名稱-中文視差屏障元件及其製造方法的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院院本部, 產出年度是103, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是李建宏 ,黃日鋒 ,鍾儀文, 證書號碼是I453521.

序號	13213
產出年度	103
領域別	服務創新
專利名稱-中文	視差屏障元件及其製造方法
執行單位	工研院院本部
產出單位	工研院南分院
計畫名稱	工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人	李建宏 ,黃日鋒 ,鍾儀文
核准國家	中華民國
獲證日期	103/09/21
證書號碼	I453521
專利期間起	120/10/02
專利期間訖	一種視差屏障元件，包括：第一基板；第一圖案化透明電極層，設置於第一基板上；第一圖案化電致變色材料層，設置於第一圖案化透明電極層上，第一圖案化電致變色材料層包括多個奈米電致變色結構，其中奈米電致變色結構的長度、寬度或直徑為50 nm至500 nm，並且奈米電致變色結構與第一基板被沈積面的夾角為30°～89°；第二基板；第二圖案化透明電極層，設置於第二基板上；第二圖案化電致變色材料層，設置於第二圖案化透明電極層上，以及電解質層，設置於第一圖案化電致變色材料層與第二圖案化電致變色材料層之間。
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種視差屏障元件，包括：第一基板；第一圖案化透明電極層，設置於第一基板上；第一圖案化電致變色材料層，設置於第一圖案化透明電極層上，第一圖案化電致變色材料層包括多個奈米電致變色結構，其中奈米電致變色結構的長度、寬度或直徑為50 nm至500 nm，並且奈米電致變色結構與第一基板被沈積面的夾角為30°～89°；第二基板；第二圖案化透明電極層，設置於第二基板上；第二圖案化電致變色材料層，設置於第二圖案化透明電極層上，以及電解質層，設置於第一圖案化電致變色材料層與第二圖案化電致變色材料層之間。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-5917983
傳真	03-5917602
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	(空)
備註	(空)
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

13213

產出年度

103

領域別

服務創新

專利名稱-中文

視差屏障元件及其製造方法

執行單位

工研院院本部

產出單位

工研院南分院

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

李建宏 ,黃日鋒 ,鍾儀文

核准國家

中華民國

獲證日期

103/09/21

證書號碼

I453521

專利期間起

120/10/02

專利期間訖

一種視差屏障元件，包括：第一基板；第一圖案化透明電極層，設置於第一基板上；第一圖案化電致變色材料層，設置於第一圖案化透明電極層上，第一圖案化電致變色材料層包括多個奈米電致變色結構，其中奈米電致變色結構的長度、寬度或直徑為50 nm至500 nm，並且奈米電致變色結構與第一基板被沈積面的夾角為30°～89°；第二基板；第二圖案化透明電極層，設置於第二基板上；第二圖案化電致變色材料層，設置於第二圖案化透明電極層上，以及電解質層，設置於第一圖案化電致變色材料層與第二圖案化電致變色材料層之間。

專利性質

發明

技術摘要-中文

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-5917983

傳真

03-5917602

電子信箱

oralp@itri.org.tw

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備註

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特殊情形

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