工作模具及鍍膜層
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專利名稱-中文工作模具及鍍膜層的核准國家是中國大陸, 證書號碼是ZL201110453017.9, 專利期間起是105/01/20, 專利期間訖是120/12/29, 專利性質是發明, 執行單位是金屬中心, 產出年度是105, 計畫名稱是智慧手持裝置核心技術攻堅計畫, 專利發明人是楊國源.何玫蓉.朱繼文..

序號	18720
產出年度	105
領域別	智慧科技
專利名稱-中文	工作模具及鍍膜層
執行單位	金屬中心
產出單位	金屬中心
計畫名稱	智慧手持裝置核心技術攻堅計畫
專利發明人	楊國源.何玫蓉.朱繼文.
核准國家	中國大陸
獲證日期	105/01/20
證書號碼	ZL201110453017.9
專利期間起	105/01/20
專利期間訖	120/12/29
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種工作模具，包含一模具本體，及至少一自該模具本體向上形成的鍍膜層，該鍍膜層包括一層以富含鋁的鎳鋁合金鍍覆形成的抗高溫鍍膜，該抗高溫鍍膜組成中具有微量元素，且該微量元素選自以下所成的群組：鈷、鐵、鉻、銅、釩，及此等之一組合；藉該抗高溫鍍膜的鎳鋁合金的晶體結構使得該鍍膜層在高溫下的抗沾黏、抗氧化特性更佳，而令整體工作模具可在高溫下進行模造成形。
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	楊國源
電話	07-3513121
傳真	07-3522170
電子信箱	m850596@mail.mirdc.org.tw
參考網址	http://www.mirdc.org.tw/
備註	(空)
特殊情形	(空)

序號

18720

產出年度

105

領域別

智慧科技

專利名稱-中文

工作模具及鍍膜層

執行單位

金屬中心

產出單位

金屬中心

計畫名稱

智慧手持裝置核心技術攻堅計畫

專利發明人

楊國源.何玫蓉.朱繼文.

核准國家

中國大陸

獲證日期

105/01/20

證書號碼

ZL201110453017.9

專利期間起

105/01/20

專利期間訖

120/12/29

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種工作模具，包含一模具本體，及至少一自該模具本體向上形成的鍍膜層，該鍍膜層包括一層以富含鋁的鎳鋁合金鍍覆形成的抗高溫鍍膜，該抗高溫鍍膜組成中具有微量元素，且該微量元素選自以下所成的群組：鈷、鐵、鉻、銅、釩，及此等之一組合；藉該抗高溫鍍膜的鎳鋁合金的晶體結構使得該鍍膜層在高溫下的抗沾黏、抗氧化特性更佳，而令整體工作模具可在高溫下進行模造成形。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

楊國源

電話

07-3513121

傳真

07-3522170

電子信箱

m850596@mail.mirdc.org.tw

參考網址

http://www.mirdc.org.tw/

備註

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特殊情形

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財團法人金屬工業研究發展中心（MIRDC）	機構電話: (07)3513121 \| 有效期間: 至113.7.31\|至113.6.15編號：001 \| 機構住址: 高雄市楠梓區高楠公路1001號 \| 認可範圍: 1.動力衝剪機械。\|2.木材加工用圓盤鋸。\|3.研磨機。\|4.研磨輪。\|5.動力堆高機。\|6.交流電焊機之自動電擊防止裝置。 @ 勞動部認可型式檢定機構清單
氣體擴散室	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 101146066 \| 專利期間起: 104/07/17 \| 專利期間訖: 121/07/20 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 104 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 吳春森 @ 技術司專利資料集
具阻尼限速功能之助行器	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I344362 \| 專利期間起: 100/07/01 \| 專利期間訖: 116/12/27 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 崔海平 \| 林大裕 \| 紀青迪 \| 邱冠智 @ 技術司專利資料集
放電加工盤罩及具有放電加工盤罩的導眼模裝置裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200810185135.4 \| 專利期間起: 100/07/20 \| 專利期間訖: 117/12/09 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 呂育廷 \| 楊忠義 \| 莊殷 \| 許富銓 @ 技術司專利資料集
超精密壓電定位平台	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249593.4 \| 專利期間起: 101/07/18 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 101 \| 計畫名稱: 金屬中心產業技術環境建構計畫 \| 專利發明人: 洪國凱 \| 游源成 \| 劉冠志 \| 黃加助 @ 技術司專利資料集
一種人體植入物及其製造方法	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL200910249594.9 \| 專利期間起: 102/07/03 \| 專利期間訖: 118/12/29 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 高值牙科植入物創新研發與醫療器材產業服務四年計畫 \| 專利發明人: 邱松茂 @ 技術司專利資料集
水解纖維素系統及方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400248 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 118/12/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鄧育庭 \| 郭子禎 \| 洪俊宏 @ 技術司專利資料集
醫療器材與其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: I400100 \| 專利期間起: 102/07/01 \| 專利期間訖: 119/09/28 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 金屬中心 \| 產出年度: 102 \| 計畫名稱: 金屬中心創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 王鍏晴 \| 施威任 \| 陳維德 \| 周金龍 @ 技術司專利資料集

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光傳送模組之封裝	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 192247 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蕭正達 \| 高旻聖 \| 王炯宏
光傳送模組之封裝	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,661,565 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蕭正達 \| 高旻聖 \| 王炯宏
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分佈回饋式(DFB)半導體雷射及其製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 194417 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 余昱辰 \| 郭宗南 \| 潘彥廷
光盤承載裝置	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00129763.5 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 黃偉煜
動態減震系統	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206772 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 楊志軒 \| 謝政揚 \| 黃振源 \| 張啟伸
聲光布拉格衍射式多光束光學讀寫頭	核准國家: 中國大陸 \| 證書號碼: ZL00108097.0 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 朱良謙 \| 張志吉
可調整的鏡群裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 195758 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 涂銀發 \| 姜皇成 \| 陳志文 \| 張耿智
雙軸向調變影像放大倍率的形狀測定裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 201010 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林明慧 \| 劉通發
環場影像接圖器及其方法	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6,798,923 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 謝君偉 \| 江政欽 \| 魏德樂
取紙傳動模組	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 215325 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 新型 \| 執行單位: 工研院光電所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 \| 專利發明人: 林智堅 \| 陳英棋 \| 鄭兆凱 \| 張惠珍

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