TFT CELL製造設備技術
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技術名稱-中文TFT CELL製造設備技術的執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 計畫名稱是電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫, 技術規格是‧電漿源： 500mm ‧ 錨定能： >10-5 J/m2, 潛力預估是非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢，在國外亦正研發中，市場需求殷切。.

序號	137
產出年度	93
技術名稱-中文	TFT CELL製造設備技術
執行單位	工研院機械所
產出單位	(空)
計畫名稱	電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	研發非接觸式配向設備技術，以避免接觸式配向所產生的靜電、微塵污染等問題，並提高六代基板製程良率。研發內容包含（一）非接觸式配向設備技術先導性研究(二)電漿束配向系統應用，電漿束系統發展出非接觸式的配向設備，並進行有機鍍膜及無機鍍膜之液晶配向驗證實驗。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	‧電漿源： 500mm ‧ 錨定能： >10-5 J/m2
技術成熟度	已完成二代電漿束液晶配向雛型設備，並開始進行製程驗證。
可應用範圍	TFT LCD液晶配向製程
潛力預估	非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢，在國外亦正研發中，市場需求殷切。
聯絡人員	劉品均
電話	(03) 5915805
傳真	(03) 5820458
電子信箱	liupin@itri.org.tw
參考網址	無
所須軟硬體設備	精密加工設備
需具備之專業人才	1.精密機構設計人才 2.伺服控制人才 3.真空系統設計人才 4.電漿系統應用人才

序號

137

產出年度

技術名稱-中文

TFT CELL製造設備技術

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

電腦整合自動化系統技術研究發展四年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

研發非接觸式配向設備技術，以避免接觸式配向所產生的靜電、微塵污染等問題，並提高六代基板製程良率。研發內容包含（一）非接觸式配向設備技術先導性研究(二)電漿束配向系統應用，電漿束系統發展出非接觸式的配向設備，並進行有機鍍膜及無機鍍膜之液晶配向驗證實驗。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

‧電漿源： 500mm ‧ 錨定能： >10-5 J/m2

技術成熟度

已完成二代電漿束液晶配向雛型設備，並開始進行製程驗證。

可應用範圍

TFT LCD液晶配向製程

潛力預估

非接觸式配向製程及設備為未來發展趨勢，在國外亦正研發中，市場需求殷切。

聯絡人員

劉品均

電話

(03) 5915805

傳真

(03) 5820458

電子信箱

liupin@itri.org.tw

參考網址

無

所須軟硬體設備

精密加工設備

需具備之專業人才

1.精密機構設計人才 2.伺服控制人才 3.真空系統設計人才 4.電漿系統應用人才

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