大面積TFT-LCD 光激化乾式清洗技術
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技術名稱-中文大面積TFT-LCD 光激化乾式清洗技術的執行單位是工研院能資所, 產出年度是93, 計畫名稱是永續資源技術開發三年計畫, 技術規格是玻璃基板經 UV 光照射清洗後,基板上五點接觸角平均 < 10度, 潛力預估是應映2008年LCD設備國產化需達50%之目標,故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備,此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。.

序號311
產出年度93
技術名稱-中文大面積TFT-LCD 光激化乾式清洗技術
執行單位工研院能資所
產出單位(空)
計畫名稱永續資源技術開發三年計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文台灣目前環境水資源嚴重短缺與代用水資源開發不足等現象,高科技產業用水勢必面臨相當嚴苛之挑戰,為抒解高科技產業用水壓力,發展乾式清洗製程為必然之趨勢,清洗製程佔整個製造流程的 30%,清洗效率佳可獲得良好之導電性與薄膜密著性,與產品良率密切相關;此技術發展朝向高潔淨度、省水、減廢、與回收再利用等目標,符合永續資源技術發展之精神。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格玻璃基板經 UV 光照射清洗後,基板上五點接觸角平均 < 10度
技術成熟度雛型
可應用範圍TFT-LCD, OLED, OTFT 等顯示器面板業、生物晶片製造業、半導體製造業與高科技周邊設備製造業等。
潛力預估應映2008年LCD設備國產化需達50%之目標,故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備,此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。
聯絡人員鄭曉芬
電話03-5913154
傳真03-5835338
電子信箱hfcheng.erl@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw/chi/services/transferable/trtfm.jsp
所須軟硬體設備機台建構設備
需具備之專業人才需瞭解 UV 燈管正常使用、維護等基本程序與機台操作流程

序號

311

產出年度

93

技術名稱-中文

大面積TFT-LCD 光激化乾式清洗技術

執行單位

工研院能資所

產出單位

(空)

計畫名稱

永續資源技術開發三年計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

台灣目前環境水資源嚴重短缺與代用水資源開發不足等現象,高科技產業用水勢必面臨相當嚴苛之挑戰,為抒解高科技產業用水壓力,發展乾式清洗製程為必然之趨勢,清洗製程佔整個製造流程的 30%,清洗效率佳可獲得良好之導電性與薄膜密著性,與產品良率密切相關;此技術發展朝向高潔淨度、省水、減廢、與回收再利用等目標,符合永續資源技術發展之精神。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

玻璃基板經 UV 光照射清洗後,基板上五點接觸角平均 < 10度

技術成熟度

雛型

可應用範圍

TFT-LCD, OLED, OTFT 等顯示器面板業、生物晶片製造業、半導體製造業與高科技周邊設備製造業等。

潛力預估

應映2008年LCD設備國產化需達50%之目標,故國內廠商需積極佈局易跨入之前段製程設備,此製程技術與設備皆為前段清洗設備必須。

聯絡人員

鄭曉芬

電話

03-5913154

傳真

03-5835338

電子信箱

hfcheng.erl@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw/chi/services/transferable/trtfm.jsp

所須軟硬體設備

機台建構設備

需具備之專業人才

需瞭解 UV 燈管正常使用、維護等基本程序與機台操作流程

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奈米用水系統微量有機物質氧化去除技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 0.13 mm 製程水質規格:TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 count... | 潛力預估: 應映奈米及高科技製程所需用水規格,科針對國內12吋晶圓及下世代大尺寸的用水系統進行設計。

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奈米顆粒表面電位分析及控制技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 藉由本技術能將顆粒表面電位控制在±1.8mV以內 | 潛力預估: 可解決奈米級顆粒及溶解態Silica問題,並降低處理成本及縮短處理時間。

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奈米級顆粒廢水中有機添加劑去除技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 藉由本技術能將CMP廢水中TOC = 20~70 mg/L降低至回用水標準 | 潛力預估: 可解決奈米級顆粒廢水中TOC問題,並降低處理成本及縮短處理時間。

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連續式高流量奈米溶膠過濾模組開發

執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 本技術針對CMP廢水的處理流量可達6噸/天,且水質可達回收標準。 | 潛力預估:

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奈米顆粒廢水回收系統設計開發

執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 經本技術將CMP廢水中TDS | 潛力預估:

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電混凝水處理反應器中犧牲電極間電場產生之改善方法

執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 處理流量6噸/天時可連續處理至少6小時,且水質可達回收標準。 | 潛力預估:

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奈米用水系統微量有機物質氧化去除技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院永續發展領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 0.13 mm 製程水質規格:TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 count... | 潛力預估: 應映奈米及高科技製程所需用水規格,科針對國內12吋晶圓及下世代大尺寸的用水系統進行設計。

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奈米顆粒表面電位分析及控制技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 藉由本技術能將顆粒表面電位控制在±1.8mV以內 | 潛力預估: 可解決奈米級顆粒及溶解態Silica問題,並降低處理成本及縮短處理時間。

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奈米級顆粒廢水中有機添加劑去除技術

執行單位: 工研院能資所 | 產出年度: 94 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發計畫 | 領域: | 技術規格: 藉由本技術能將CMP廢水中TOC = 20~70 mg/L降低至回用水標準 | 潛力預估: 可解決奈米級顆粒廢水中TOC問題,並降低處理成本及縮短處理時間。

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連續式高流量奈米溶膠過濾模組開發

執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 本技術針對CMP廢水的處理流量可達6噸/天,且水質可達回收標準。 | 潛力預估:

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奈米顆粒廢水回收系統設計開發

執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 經本技術將CMP廢水中TDS | 潛力預估:

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電混凝水處理反應器中犧牲電極間電場產生之改善方法

執行單位: 工研院能環所 | 產出年度: 95 | 產出單位: | 計畫名稱: 高科技產業用水技術開發三年計畫 | 領域: | 技術規格: 處理流量6噸/天時可連續處理至少6小時,且水質可達回收標準。 | 潛力預估:

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單色/彩色熱氣泡噴墨式印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧解析度:300dpi/600dpi。 ‧噴墨體積:5pl~120pl。 ‧工作頻率:5~12KHZ(單色):3~18KHZ(彩色)。 | 潛力預估: ‧ 目前國內噴墨印頭廠創造總產值每年新台幣16億元,持續成長中。 ‧ 可以噴墨印頭技術為基礎,開發各項工業應用及製造技術(如Color Filter、PLED、Bio Chip、Fuel Inject...

圖文分離技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Clock rate: 10MHz(Max.). ‧Scan speed: 5 ms/line(Max.). ‧Document size: B4(Max.). ‧Voltage: 5V。 ‧Hal... | 潛力預估: 在需要影像處理為基礎的產業中,本技術能夠使之具備較佳品質的關鍵角色。

色彩修正晶片模組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 圖素輸入匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 圖素輸出匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 每色彩圖素處理時間:20 cck cycle。 ‧ 支援RGB色座標與KCMY色座標轉換。 ‧ 使用17×17×1... | 潛力預估: 該相關技術在彩色印表機及多功能事務機領域是決定列印品質優劣的決戰項目之一。

彩色多功能事務機晶片組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 列印解析度:最高2,400×1,200dpi。 ‧ 列印速度:最快17ppm。 ‧ 列印色階:最高4,913色。 ‧ 光學解析度:Up to 1,200dpi。 ‧ CCD掃描速度:Up to 5... | 潛力預估: 配合多功能事務機,落實本土發展,技術生根的原則,能提供給國內完整的配套Solution。

工業噴印平台設計

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Drop on Demand、Step Patterning、Printing on the fly快速列印技術。 ‧ Pixel修補列印技術(Patch Process)。 ‧ 墨點自動分析系統... | 潛力預估: 本技術可應用於多種領域,如TFTs配向膜/彩色濾光片/液晶填充製程應用/PLED製程應用/印刷電路版/封裝產業/光電元件製程應用…。

熱氣泡式燃油噴射霧化器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 操作環境溫度:-15℃~ -60℃。 ‧ 單體噴嘴出口壓力:0~-0.1kg/cm2。 ‧ 噴射油滴直徑: | 潛力預估: 當前全球機車年產量約為2300萬輛/年,台灣機車年產量約為110萬輛/年,且中國大陸機車年產量約為900萬輛/年,預計可創造每年新台幣15億以上的產值。

特殊工業用噴墨印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 噴嘴數:50 Nozzles。 ‧ 解析度:300dpi。 ‧ 工作頻率:? 5KHz。 ‧ 墨滴體積:20pl~85pl。 ‧ 耐工業溶劑之噴墨印頭。 | 潛力預估: ‧ 可供PLED顯示器面板製程應用,依據SRI預估,OLED/PLED顯示年產值CAGR可達65%,2008年總產值可達23億美元。 ‧ 可供LCD顯示器之Color Filter製程應用,提供大尺寸...

高分子發光二極體顯示

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧材料:顏色:RGB三色。分子量:25~100萬。溶解度>0.5wt % (xylene)。 ‧面板封裝:Color passive PLED 80803 dot matrix. ‧噴製像素化: ... | 潛力預估: 可應用於顯示產業,如Organic TFTs、PLED、Organic Solar Cell、RFID等相關有機電子元件產業。

噴墨法彩色濾光片

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 像素大小:pitch 0.110mm×0.110mm或customer design。 ‧ 顏色:RGB三色。 ‧ 耐熱性:250℃×1hr。 ‧ 耐化性:5% KOH, 40℃×10min; A... | 潛力預估: 可應用於彩色濾光片、COA(Color Filter on Array)。

無光罩金屬薄膜製程技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Metal Film: 0.3-60 um ‧ Glass/PET/FR-4 / PI / BT ‧ Line Width: < 60~100 um ‧ Line Pitch < 10 um ‧... | 潛力預估: 此技術具有潛力的應用,例如全彩平面顯示器(full color flat display)、薄膜分離 (membrane separation)、電放光元件(electroluminescent de...

六色相片與PictBridge列印技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基本色彩:支援RGB色座標與Cyan, Magenta, Yellow, Light Cyan, Light Magenta色座標轉換 ‧ 解析度:48001200dpi ‧ PictBridg... | 潛力預估: 配合本土化技術發展與生根的原則,提供國內基礎核心技術的Solution

視覺化彩色處理及對色技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧半自動喜好色調處理技術:平均色差 △E*ab≦10。 喜好色處理功能:選擇色調整Lab、色相(0~3600)、飽和度(0~100)、亮度(0~100)。可選擇特定色調整,如膚色、藍天、綠地,白色等。... | 潛力預估: ‧積極研發以軟體為主的視覺化彩色處理技術,可以運用於影像處理IC上有助於整體工業的完整發展,並提昇產品附加價值。 ‧預期在資訊產品之產業效益≧壹億元/年(LCD用IC, DSC用IC, MFP用IC...

XGA液晶投影顯示器光學引擎

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: 採用Dichroic Prism type設計及120W Lamp,照明輸出1000 Lumens以上,投影均勻度85%,投影畫面尺寸40至200英吋,投影影像解析度可至XGA等級。 | 潛力預估: 提供國內LCD投影機所需關鍵之光學引擎,建立液晶投影顯示光學引擎上下游產業結構,達到光學元件、光機元件100% 自製率,可降低進口依賴度。

單片式彩色LCOS背投影原型機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 最高光學解析度:1280x720 ‧ 燈源:150W UHP ‧ 面板:單片反射式液晶板(LCOS) ‧ 面板尺寸: 0.82英吋以下均適用 ‧ 畫面尺寸: 50英吋 | 潛力預估: 單片式LCOS背投影電視原型機,相較於目前使用三片LCOS面板的背投影電視,由於物料節省約1/3,加上結構較簡單,因此平價化、大畫面、高畫質背投電視將成為主流產品,若以目前市價而言,50吋單片式LCO...

液晶立體影像顯示器製作技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 外觀尺寸:40cm(W)×50cm(D)×45cm(H)。 ‧ 影像解析度:XGA。 ‧ INPUT:VGA訊號。 ‧ 螢幕尺寸:15"diag。 ‧ 觀看距離:60~130cm,80cm最佳。 ... | 潛力預估: 在娛樂業深具市場潛力。

單色/彩色熱氣泡噴墨式印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧解析度:300dpi/600dpi。 ‧噴墨體積:5pl~120pl。 ‧工作頻率:5~12KHZ(單色):3~18KHZ(彩色)。 | 潛力預估: ‧ 目前國內噴墨印頭廠創造總產值每年新台幣16億元,持續成長中。 ‧ 可以噴墨印頭技術為基礎,開發各項工業應用及製造技術(如Color Filter、PLED、Bio Chip、Fuel Inject...

圖文分離技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Clock rate: 10MHz(Max.). ‧Scan speed: 5 ms/line(Max.). ‧Document size: B4(Max.). ‧Voltage: 5V。 ‧Hal... | 潛力預估: 在需要影像處理為基礎的產業中,本技術能夠使之具備較佳品質的關鍵角色。

色彩修正晶片模組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 圖素輸入匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 圖素輸出匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 每色彩圖素處理時間:20 cck cycle。 ‧ 支援RGB色座標與KCMY色座標轉換。 ‧ 使用17×17×1... | 潛力預估: 該相關技術在彩色印表機及多功能事務機領域是決定列印品質優劣的決戰項目之一。

彩色多功能事務機晶片組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 列印解析度:最高2,400×1,200dpi。 ‧ 列印速度:最快17ppm。 ‧ 列印色階:最高4,913色。 ‧ 光學解析度:Up to 1,200dpi。 ‧ CCD掃描速度:Up to 5... | 潛力預估: 配合多功能事務機,落實本土發展,技術生根的原則,能提供給國內完整的配套Solution。

工業噴印平台設計

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Drop on Demand、Step Patterning、Printing on the fly快速列印技術。 ‧ Pixel修補列印技術(Patch Process)。 ‧ 墨點自動分析系統... | 潛力預估: 本技術可應用於多種領域,如TFTs配向膜/彩色濾光片/液晶填充製程應用/PLED製程應用/印刷電路版/封裝產業/光電元件製程應用…。

熱氣泡式燃油噴射霧化器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 操作環境溫度:-15℃~ -60℃。 ‧ 單體噴嘴出口壓力:0~-0.1kg/cm2。 ‧ 噴射油滴直徑: | 潛力預估: 當前全球機車年產量約為2300萬輛/年,台灣機車年產量約為110萬輛/年,且中國大陸機車年產量約為900萬輛/年,預計可創造每年新台幣15億以上的產值。

特殊工業用噴墨印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 噴嘴數:50 Nozzles。 ‧ 解析度:300dpi。 ‧ 工作頻率:? 5KHz。 ‧ 墨滴體積:20pl~85pl。 ‧ 耐工業溶劑之噴墨印頭。 | 潛力預估: ‧ 可供PLED顯示器面板製程應用,依據SRI預估,OLED/PLED顯示年產值CAGR可達65%,2008年總產值可達23億美元。 ‧ 可供LCD顯示器之Color Filter製程應用,提供大尺寸...

高分子發光二極體顯示

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧材料:顏色:RGB三色。分子量:25~100萬。溶解度>0.5wt % (xylene)。 ‧面板封裝:Color passive PLED 80803 dot matrix. ‧噴製像素化: ... | 潛力預估: 可應用於顯示產業,如Organic TFTs、PLED、Organic Solar Cell、RFID等相關有機電子元件產業。

噴墨法彩色濾光片

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 像素大小:pitch 0.110mm×0.110mm或customer design。 ‧ 顏色:RGB三色。 ‧ 耐熱性:250℃×1hr。 ‧ 耐化性:5% KOH, 40℃×10min; A... | 潛力預估: 可應用於彩色濾光片、COA(Color Filter on Array)。

無光罩金屬薄膜製程技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Metal Film: 0.3-60 um ‧ Glass/PET/FR-4 / PI / BT ‧ Line Width: < 60~100 um ‧ Line Pitch < 10 um ‧... | 潛力預估: 此技術具有潛力的應用,例如全彩平面顯示器(full color flat display)、薄膜分離 (membrane separation)、電放光元件(electroluminescent de...

六色相片與PictBridge列印技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基本色彩:支援RGB色座標與Cyan, Magenta, Yellow, Light Cyan, Light Magenta色座標轉換 ‧ 解析度:48001200dpi ‧ PictBridg... | 潛力預估: 配合本土化技術發展與生根的原則,提供國內基礎核心技術的Solution

視覺化彩色處理及對色技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧半自動喜好色調處理技術:平均色差 △E*ab≦10。 喜好色處理功能:選擇色調整Lab、色相(0~3600)、飽和度(0~100)、亮度(0~100)。可選擇特定色調整,如膚色、藍天、綠地,白色等。... | 潛力預估: ‧積極研發以軟體為主的視覺化彩色處理技術,可以運用於影像處理IC上有助於整體工業的完整發展,並提昇產品附加價值。 ‧預期在資訊產品之產業效益≧壹億元/年(LCD用IC, DSC用IC, MFP用IC...

XGA液晶投影顯示器光學引擎

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: 採用Dichroic Prism type設計及120W Lamp,照明輸出1000 Lumens以上,投影均勻度85%,投影畫面尺寸40至200英吋,投影影像解析度可至XGA等級。 | 潛力預估: 提供國內LCD投影機所需關鍵之光學引擎,建立液晶投影顯示光學引擎上下游產業結構,達到光學元件、光機元件100% 自製率,可降低進口依賴度。

單片式彩色LCOS背投影原型機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 最高光學解析度:1280x720 ‧ 燈源:150W UHP ‧ 面板:單片反射式液晶板(LCOS) ‧ 面板尺寸: 0.82英吋以下均適用 ‧ 畫面尺寸: 50英吋 | 潛力預估: 單片式LCOS背投影電視原型機,相較於目前使用三片LCOS面板的背投影電視,由於物料節省約1/3,加上結構較簡單,因此平價化、大畫面、高畫質背投電視將成為主流產品,若以目前市價而言,50吋單片式LCO...

液晶立體影像顯示器製作技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 外觀尺寸:40cm(W)×50cm(D)×45cm(H)。 ‧ 影像解析度:XGA。 ‧ INPUT:VGA訊號。 ‧ 螢幕尺寸:15"diag。 ‧ 觀看距離:60~130cm,80cm最佳。 ... | 潛力預估: 在娛樂業深具市場潛力。

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