第九凝血因子產物特性分析技術
- 經濟部產業技術司可移轉技術資料集 @ 經濟部

技術名稱-中文第九凝血因子產物特性分析技術的執行單位是農科院, 產出年度是95, 計畫名稱是基因轉殖動物生產醫藥用蛋白質技術之原料藥產程開發計畫, 技術規格是醣蛋白經Methanolysis後經re-N-acetylation處理，再經silylation之後產生的單醣衍生物，可利用GC-MS分析鑑定並定量，分析樣品在0.5 nmole以下。以膠濾層析法可分析聚集產物的比例，可偵測大於或等於1％的聚集產物。, 潛力預估是生技蛋白質藥物之開發.

序號	1846
產出年度	95
技術名稱-中文	第九凝血因子產物特性分析技術
執行單位	農科院
產出單位	(空)
計畫名稱	基因轉殖動物生產醫藥用蛋白質技術之原料藥產程開發計畫
領域	(空)
已申請專利之國家	(空)
已獲得專利之國家	(空)
技術現況敘述-中文	人類第九類凝血因子為醣蛋白分子，然而醣蛋白對人類免疫反應有很大影響，故了解各種來源之人類第九類凝血因子之單醣分子組成及不同構造N-鏈結醣鏈之分佈比例，在產物品質及產程的穩定性管控上都是重要的測試項目。人類第九類凝血因子在產製及產品保存的過程中，會產生高分子的聚集產物，使得產物的生物活性下降，所以對產品須有分析聚集產物比例的技術。
技術現況敘述-英文	(空)
技術規格	醣蛋白經Methanolysis後經re-N-acetylation處理，再經silylation之後產生的單醣衍生物，可利用GC-MS分析鑑定並定量，分析樣品在0.5 nmole以下。以膠濾層析法可分析聚集產物的比例，可偵測大於或等於1％的聚集產物。
技術成熟度	試量產
可應用範圍	運用於第九凝血因子或其他醫藥蛋白質產物之品質分析及製程監控。
潛力預估	生技蛋白質藥物之開發
聯絡人員	顏重河
電話	037-585785
傳真	037-585830
電子信箱	chy01@mail.atit.org.tw
參考網址	(空)
所須軟硬體設備	HPLC 系統、膠體電泳分析裝置、GC-MS 系統、Dionex電化學偵測儀
需具備之專業人才	生化或化學相關背景
同步更新日期	2024-09-03

序號

1846

產出年度

技術名稱-中文

第九凝血因子產物特性分析技術

執行單位

農科院

產出單位

(空)

計畫名稱

基因轉殖動物生產醫藥用蛋白質技術之原料藥產程開發計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

人類第九類凝血因子為醣蛋白分子，然而醣蛋白對人類免疫反應有很大影響，故了解各種來源之人類第九類凝血因子之單醣分子組成及不同構造N-鏈結醣鏈之分佈比例，在產物品質及產程的穩定性管控上都是重要的測試項目。人類第九類凝血因子在產製及產品保存的過程中，會產生高分子的聚集產物，使得產物的生物活性下降，所以對產品須有分析聚集產物比例的技術。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

醣蛋白經Methanolysis後經re-N-acetylation處理，再經silylation之後產生的單醣衍生物，可利用GC-MS分析鑑定並定量，分析樣品在0.5 nmole以下。以膠濾層析法可分析聚集產物的比例，可偵測大於或等於1％的聚集產物。

技術成熟度

試量產

可應用範圍

運用於第九凝血因子或其他醫藥蛋白質產物之品質分析及製程監控。

潛力預估

生技蛋白質藥物之開發

聯絡人員

顏重河

電話

037-585785

傳真

037-585830

電子信箱

chy01@mail.atit.org.tw

參考網址

(空)

所須軟硬體設備

HPLC 系統、膠體電泳分析裝置、GC-MS 系統、Dionex電化學偵測儀

需具備之專業人才

生化或化學相關背景

同步更新日期

2024-09-03

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豬乳中純化重組人類第九凝血因子之技術

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基因轉殖豬生產重組人類第九凝血因子之開發技術

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自基因轉殖動物乳汁中分離水蛭素之方法

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LTPS光罩Reduction技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 使用PMOS製作Array的光罩數 = 5 使用CMOS製作Array的光罩數 = 7 \| 潛力預估: 當製造成本降低後，整體產品的價格也會隨之下降，故對市場競爭力絕對有正面的發展。而其他可替代的降低成本方法可能要從更換材料著手，若純就製程技術觀點出發，在不增加任何設備支出的前提下，本技術不失為是一直接...
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10吋厚膜式奈米碳管場發射顯示技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 10” QVGA-320x3x240 pixel size=500μm X 500μm 250 nits spacer=100 μm \| 潛力預估: 有助於顯示器產品技術多元化，增加市場競爭力
電化學蝕刻停止技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 懸膜厚度尺寸變化在±1μm。 \| 潛力預估: 有替代技術,應用潛力中等
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厚膜光阻製程技術	執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 \| 領域: \| 技術規格: 正光阻 : 光阻厚度 ~ 60um, 深寬比~3 負光阻 : 光阻厚度~ 800um, 深寬比~30 \| 潛力預估: 應用潛力中