硼氫化鈉產氫觸媒
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技術名稱-中文硼氫化鈉產氫觸媒的執行單位是中科院材料所, 產出年度是98, 計畫名稱是奈米材料及製程技術發展計畫, 技術規格是鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子, 潛力預估是.

序號3111
產出年度98
技術名稱-中文硼氫化鈉產氫觸媒
執行單位中科院材料所
產出單位(空)
計畫名稱奈米材料及製程技術發展計畫
領域(空)
已申請專利之國家(空)
已獲得專利之國家(空)
技術現況敘述-中文配合氫燃料電池開發化學氫奈米產氫觸媒,將含氫量極高之硼氫化鈉經由觸媒快速轉換產生電池所需要之氫氣。
技術現況敘述-英文(空)
技術規格鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子
技術成熟度實驗室階段
可應用範圍奈米技術
潛力預估
聯絡人員張書銘
電話03-4712201ext357296
傳真34711024
電子信箱csist@csistdup.org.tw
參考網址
所須軟硬體設備化學製造設備
需具備之專業人才化學化工、材料
同步更新日期2024-09-03

序號

3111

產出年度

98

技術名稱-中文

硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位

中科院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

奈米材料及製程技術發展計畫

領域

(空)

已申請專利之國家

(空)

已獲得專利之國家

(空)

技術現況敘述-中文

配合氫燃料電池開發化學氫奈米產氫觸媒,將含氫量極高之硼氫化鈉經由觸媒快速轉換產生電池所需要之氫氣。

技術現況敘述-英文

(空)

技術規格

鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子

技術成熟度

實驗室階段

可應用範圍

奈米技術

潛力預估

聯絡人員

張書銘

電話

03-4712201ext357296

傳真

34711024

電子信箱

csist@csistdup.org.tw

參考網址

所須軟硬體設備

化學製造設備

需具備之專業人才

化學化工、材料

同步更新日期

2024-09-03

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料暨光電研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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高附著性硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 所製備之高附著性觸媒,在15%之NaBH4溶液中,以43 kHz,150 W的超音波震盪兩小時,其重量損失小於5 %。 | 潛力預估:

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高附著性硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 所製備之高附著性觸媒,在15%之NaBH4溶液中,以43 kHz,150 W的超音波震盪兩小時,其重量損失小於5 %。 | 潛力預估:

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高附著性硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料暨光電研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: 所製備之高附著性觸媒,在15%之NaBH4溶液中,以43 kHz,150 W的超音波震盪兩小時,其重量損失小於5 %。 | 潛力預估:

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1 KW燃料電池

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 輸出功率約1000KW,ocv電壓25v。 | 潛力預估:

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 100 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料暨光電研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: 鈷系列及釕系列觸媒。鈷系列金屬含量低於50wt%,釕系列觸媒低於20wt%。鈷系列粒子大小小於80nm,釕系列粒子大小小於20nm。 | 潛力預估:

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高附著性硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 101 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 所製備之高附著性觸媒,在15%之NaBH4溶液中,以43 kHz,150 W的超音波震盪兩小時,其重量損失小於5 %。 | 潛力預估:

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高附著性硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 102 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: | 技術規格: 所製備之高附著性觸媒,在15%之NaBH4溶液中,以43 kHz,150 W的超音波震盪兩小時,其重量損失小於5 %。 | 潛力預估:

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高附著性硼氫化鈉產氫觸媒

執行單位: 中科院材料暨光電研究所 | 產出年度: 103 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展第二期計畫 | 領域: 民生福祉 | 技術規格: 所製備之高附著性觸媒,在15%之NaBH4溶液中,以43 kHz,150 W的超音波震盪兩小時,其重量損失小於5 %。 | 潛力預估:

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1 KW燃料電池

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 輸出功率約1000KW,ocv電壓25v。 | 潛力預估:

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產氫系統

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 產氫系統可以控制0~50ml/每分鐘產氫量。 | 潛力預估:

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產氫系統

執行單位: 中科院材料所 | 產出年度: 98 | 產出單位: | 計畫名稱: 奈米材料及製程技術發展計畫 | 領域: | 技術規格: 產氫系統可以控制0~50ml/每分鐘產氫量。 | 潛力預估:

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單色/彩色熱氣泡噴墨式印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧解析度:300dpi/600dpi。 ‧噴墨體積:5pl~120pl。 ‧工作頻率:5~12KHZ(單色):3~18KHZ(彩色)。 | 潛力預估: ‧ 目前國內噴墨印頭廠創造總產值每年新台幣16億元,持續成長中。 ‧ 可以噴墨印頭技術為基礎,開發各項工業應用及製造技術(如Color Filter、PLED、Bio Chip、Fuel Inject...

圖文分離技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Clock rate: 10MHz(Max.). ‧Scan speed: 5 ms/line(Max.). ‧Document size: B4(Max.). ‧Voltage: 5V。 ‧Hal... | 潛力預估: 在需要影像處理為基礎的產業中,本技術能夠使之具備較佳品質的關鍵角色。

色彩修正晶片模組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 圖素輸入匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 圖素輸出匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 每色彩圖素處理時間:20 cck cycle。 ‧ 支援RGB色座標與KCMY色座標轉換。 ‧ 使用17×17×1... | 潛力預估: 該相關技術在彩色印表機及多功能事務機領域是決定列印品質優劣的決戰項目之一。

彩色多功能事務機晶片組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 列印解析度:最高2,400×1,200dpi。 ‧ 列印速度:最快17ppm。 ‧ 列印色階:最高4,913色。 ‧ 光學解析度:Up to 1,200dpi。 ‧ CCD掃描速度:Up to 5... | 潛力預估: 配合多功能事務機,落實本土發展,技術生根的原則,能提供給國內完整的配套Solution。

工業噴印平台設計

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Drop on Demand、Step Patterning、Printing on the fly快速列印技術。 ‧ Pixel修補列印技術(Patch Process)。 ‧ 墨點自動分析系統... | 潛力預估: 本技術可應用於多種領域,如TFTs配向膜/彩色濾光片/液晶填充製程應用/PLED製程應用/印刷電路版/封裝產業/光電元件製程應用…。

熱氣泡式燃油噴射霧化器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 操作環境溫度:-15℃~ -60℃。 ‧ 單體噴嘴出口壓力:0~-0.1kg/cm2。 ‧ 噴射油滴直徑:<100m。 ‧ 噴射出口速度:<4.5m/sec。 | 潛力預估: 當前全球機車年產量約為2300萬輛/年,台灣機車年產量約為110萬輛/年,且中國大陸機車年產量約為900萬輛/年,預計可創造每年新台幣15億以上的產值。

特殊工業用噴墨印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 噴嘴數:50 Nozzles。 ‧ 解析度:300dpi。 ‧ 工作頻率:? 5KHz。 ‧ 墨滴體積:20pl~85pl。 ‧ 耐工業溶劑之噴墨印頭。 | 潛力預估: ‧ 可供PLED顯示器面板製程應用,依據SRI預估,OLED/PLED顯示年產值CAGR可達65%,2008年總產值可達23億美元。 ‧ 可供LCD顯示器之Color Filter製程應用,提供大尺寸...

高分子發光二極體顯示

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧材料:顏色:RGB三色。分子量:25~100萬。溶解度>0.5wt % (xylene)。 ‧面板封裝:Color passive PLED 80803 dot matrix. ‧噴製像素化: ... | 潛力預估: 可應用於顯示產業,如Organic TFTs、PLED、Organic Solar Cell、RFID等相關有機電子元件產業。

噴墨法彩色濾光片

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 像素大小:pitch 0.110mm×0.110mm或customer design。 ‧ 顏色:RGB三色。 ‧ 耐熱性:250℃×1hr。 ‧ 耐化性:5% KOH, 40℃×10min; A... | 潛力預估: 可應用於彩色濾光片、COA(Color Filter on Array)。

無光罩金屬薄膜製程技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Metal Film: 0.3-60 um ‧ Glass/PET/FR-4 / PI / BT ‧ Line Width: < 60~100 um ‧ Line Pitch < 10 um ‧... | 潛力預估: 此技術具有潛力的應用,例如全彩平面顯示器(full color flat display)、薄膜分離 (membrane separation)、電放光元件(electroluminescent de...

六色相片與PictBridge列印技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基本色彩:支援RGB色座標與Cyan, Magenta, Yellow, Light Cyan, Light Magenta色座標轉換 ‧ 解析度:48001200dpi ‧ PictBridg... | 潛力預估: 配合本土化技術發展與生根的原則,提供國內基礎核心技術的Solution

視覺化彩色處理及對色技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧半自動喜好色調處理技術:平均色差 △E*ab≦10。 喜好色處理功能:選擇色調整Lab、色相(0~3600)、飽和度(0~100)、亮度(0~100)。可選擇特定色調整,如膚色、藍天、綠地,白色等。... | 潛力預估: ‧積極研發以軟體為主的視覺化彩色處理技術,可以運用於影像處理IC上有助於整體工業的完整發展,並提昇產品附加價值。 ‧預期在資訊產品之產業效益≧壹億元/年(LCD用IC, DSC用IC, MFP用IC...

XGA液晶投影顯示器光學引擎

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: 採用Dichroic Prism type設計及120W Lamp,照明輸出1000 Lumens以上,投影均勻度85%,投影畫面尺寸40至200英吋,投影影像解析度可至XGA等級。 | 潛力預估: 提供國內LCD投影機所需關鍵之光學引擎,建立液晶投影顯示光學引擎上下游產業結構,達到光學元件、光機元件100% 自製率,可降低進口依賴度。

單片式彩色LCOS背投影原型機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 最高光學解析度:1280x720 ‧ 燈源:150W UHP ‧ 面板:單片反射式液晶板(LCOS) ‧ 面板尺寸: 0.82英吋以下均適用 ‧ 畫面尺寸: 50英吋 | 潛力預估: 單片式LCOS背投影電視原型機,相較於目前使用三片LCOS面板的背投影電視,由於物料節省約1/3,加上結構較簡單,因此平價化、大畫面、高畫質背投電視將成為主流產品,若以目前市價而言,50吋單片式LCO...

液晶立體影像顯示器製作技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 外觀尺寸:40cm(W)×50cm(D)×45cm(H)。 ‧ 影像解析度:XGA。 ‧ INPUT:VGA訊號。 ‧ 螢幕尺寸:15"diag。 ‧ 觀看距離:60~130cm,80cm最佳。 ... | 潛力預估: 在娛樂業深具市場潛力。

單色/彩色熱氣泡噴墨式印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧解析度:300dpi/600dpi。 ‧噴墨體積:5pl~120pl。 ‧工作頻率:5~12KHZ(單色):3~18KHZ(彩色)。 | 潛力預估: ‧ 目前國內噴墨印頭廠創造總產值每年新台幣16億元,持續成長中。 ‧ 可以噴墨印頭技術為基礎,開發各項工業應用及製造技術(如Color Filter、PLED、Bio Chip、Fuel Inject...

圖文分離技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧Clock rate: 10MHz(Max.). ‧Scan speed: 5 ms/line(Max.). ‧Document size: B4(Max.). ‧Voltage: 5V。 ‧Hal... | 潛力預估: 在需要影像處理為基礎的產業中,本技術能夠使之具備較佳品質的關鍵角色。

色彩修正晶片模組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 圖素輸入匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 圖素輸出匯流排線寬度:8Bits。 ‧ 每色彩圖素處理時間:20 cck cycle。 ‧ 支援RGB色座標與KCMY色座標轉換。 ‧ 使用17×17×1... | 潛力預估: 該相關技術在彩色印表機及多功能事務機領域是決定列印品質優劣的決戰項目之一。

彩色多功能事務機晶片組

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 列印解析度:最高2,400×1,200dpi。 ‧ 列印速度:最快17ppm。 ‧ 列印色階:最高4,913色。 ‧ 光學解析度:Up to 1,200dpi。 ‧ CCD掃描速度:Up to 5... | 潛力預估: 配合多功能事務機,落實本土發展,技術生根的原則,能提供給國內完整的配套Solution。

工業噴印平台設計

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Drop on Demand、Step Patterning、Printing on the fly快速列印技術。 ‧ Pixel修補列印技術(Patch Process)。 ‧ 墨點自動分析系統... | 潛力預估: 本技術可應用於多種領域,如TFTs配向膜/彩色濾光片/液晶填充製程應用/PLED製程應用/印刷電路版/封裝產業/光電元件製程應用…。

熱氣泡式燃油噴射霧化器

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 操作環境溫度:-15℃~ -60℃。 ‧ 單體噴嘴出口壓力:0~-0.1kg/cm2。 ‧ 噴射油滴直徑:<100m。 ‧ 噴射出口速度:<4.5m/sec。 | 潛力預估: 當前全球機車年產量約為2300萬輛/年,台灣機車年產量約為110萬輛/年,且中國大陸機車年產量約為900萬輛/年,預計可創造每年新台幣15億以上的產值。

特殊工業用噴墨印頭

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 噴嘴數:50 Nozzles。 ‧ 解析度:300dpi。 ‧ 工作頻率:? 5KHz。 ‧ 墨滴體積:20pl~85pl。 ‧ 耐工業溶劑之噴墨印頭。 | 潛力預估: ‧ 可供PLED顯示器面板製程應用,依據SRI預估,OLED/PLED顯示年產值CAGR可達65%,2008年總產值可達23億美元。 ‧ 可供LCD顯示器之Color Filter製程應用,提供大尺寸...

高分子發光二極體顯示

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧材料:顏色:RGB三色。分子量:25~100萬。溶解度>0.5wt % (xylene)。 ‧面板封裝:Color passive PLED 80803 dot matrix. ‧噴製像素化: ... | 潛力預估: 可應用於顯示產業,如Organic TFTs、PLED、Organic Solar Cell、RFID等相關有機電子元件產業。

噴墨法彩色濾光片

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 像素大小:pitch 0.110mm×0.110mm或customer design。 ‧ 顏色:RGB三色。 ‧ 耐熱性:250℃×1hr。 ‧ 耐化性:5% KOH, 40℃×10min; A... | 潛力預估: 可應用於彩色濾光片、COA(Color Filter on Array)。

無光罩金屬薄膜製程技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ Metal Film: 0.3-60 um ‧ Glass/PET/FR-4 / PI / BT ‧ Line Width: < 60~100 um ‧ Line Pitch < 10 um ‧... | 潛力預估: 此技術具有潛力的應用,例如全彩平面顯示器(full color flat display)、薄膜分離 (membrane separation)、電放光元件(electroluminescent de...

六色相片與PictBridge列印技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 基本色彩:支援RGB色座標與Cyan, Magenta, Yellow, Light Cyan, Light Magenta色座標轉換 ‧ 解析度:48001200dpi ‧ PictBridg... | 潛力預估: 配合本土化技術發展與生根的原則,提供國內基礎核心技術的Solution

視覺化彩色處理及對色技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: ‧半自動喜好色調處理技術:平均色差 △E*ab≦10。 喜好色處理功能:選擇色調整Lab、色相(0~3600)、飽和度(0~100)、亮度(0~100)。可選擇特定色調整,如膚色、藍天、綠地,白色等。... | 潛力預估: ‧積極研發以軟體為主的視覺化彩色處理技術,可以運用於影像處理IC上有助於整體工業的完整發展,並提昇產品附加價值。 ‧預期在資訊產品之產業效益≧壹億元/年(LCD用IC, DSC用IC, MFP用IC...

XGA液晶投影顯示器光學引擎

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: 採用Dichroic Prism type設計及120W Lamp,照明輸出1000 Lumens以上,投影均勻度85%,投影畫面尺寸40至200英吋,投影影像解析度可至XGA等級。 | 潛力預估: 提供國內LCD投影機所需關鍵之光學引擎,建立液晶投影顯示光學引擎上下游產業結構,達到光學元件、光機元件100% 自製率,可降低進口依賴度。

單片式彩色LCOS背投影原型機

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 最高光學解析度:1280x720 ‧ 燈源:150W UHP ‧ 面板:單片反射式液晶板(LCOS) ‧ 面板尺寸: 0.82英吋以下均適用 ‧ 畫面尺寸: 50英吋 | 潛力預估: 單片式LCOS背投影電視原型機,相較於目前使用三片LCOS面板的背投影電視,由於物料節省約1/3,加上結構較簡單,因此平價化、大畫面、高畫質背投電視將成為主流產品,若以目前市價而言,50吋單片式LCO...

液晶立體影像顯示器製作技術

執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 領域: | 技術規格: ‧ 外觀尺寸:40cm(W)×50cm(D)×45cm(H)。 ‧ 影像解析度:XGA。 ‧ INPUT:VGA訊號。 ‧ 螢幕尺寸:15"diag。 ‧ 觀看距離:60~130cm,80cm最佳。 ... | 潛力預估: 在娛樂業深具市場潛力。

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