Method for the preparation of ferrocenyl-1,3-butadiene
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文Method for the preparation of ferrocenyl-1,3-butadiene的核准國家是美國, 證書號碼是6664409, 專利性質是發明, 執行單位是中科院化學所, 產出年度是93, 計畫名稱是功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫, 專利發明人是鍾顯政.

序號	42
產出年度	93
領域別	(空)
專利名稱-中文	Method for the preparation of ferrocenyl-1,3-butadiene
執行單位	中科院化學所
產出單位	(空)
計畫名稱	功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫
專利發明人	鍾顯政
核准國家	美國
獲證日期	(空)
證書號碼	6664409
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	Ferrocenecarbonyl and allyl bromide are reacted in an ether solvent and in the presence of magnesium metal as a catalyst. The liquid portion of the reaction mixture is introduced into a silica gel column, wherein the weak acidity of the silica gel is able to dehydrate the reaction intermediate 1-ferrocenyl-3-buten-1-ol product. The column is eluted with n-hexane, and after evaporating the solvent from the eluate collected, a purified ferrocenyl-1,3-butadiene product is obtained
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	蘇文炯
電話	(03)4458047
傳真	(03)4719940
電子信箱	(空)
參考網址	(空)
備註	原領域別為材料化工，95年改為生醫材化
特殊情形	(空)

序號

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

Method for the preparation of ferrocenyl-1,3-butadiene

執行單位

中科院化學所

產出單位

(空)

計畫名稱

功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫

專利發明人

鍾顯政

核准國家

美國

獲證日期

(空)

證書號碼

6664409

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

Ferrocenecarbonyl and allyl bromide are reacted in an ether solvent and in the presence of magnesium metal as a catalyst. The liquid portion of the reaction mixture is introduced into a silica gel column, wherein the weak acidity of the silica gel is able to dehydrate the reaction intermediate 1-ferrocenyl-3-buten-1-ol product. The column is eluted with n-hexane, and after evaporating the solvent from the eluate collected, a purified ferrocenyl-1,3-butadiene product is obtained

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

蘇文炯

電話

(03)4458047

傳真

(03)4719940

電子信箱

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(空)

備註

原領域別為材料化工，95年改為生醫材化

特殊情形

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Method for the Preparation of α,α,α,α-tetrachloro-p-xylene	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6992231B2 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 95 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政、林俊旭、施明德、張鍾潛 @ 技術司專利資料集
Method for preparation of α,α,α,α-tetrachloro-p- xylene with high purity	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7060862B2 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 95 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政、林俊旭、涂朝洲、張鍾潛 @ 技術司專利資料集
1,4-雙(二氟溴甲基)苯之純化方法及其裝置	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 95 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政、林俊旭、涂朝洲、張鍾潛 @ 技術司專利資料集
製備α,α,α,α-四氯-對-二甲苯的新穎製程	核准國家: 日本 \| 證書號碼: 特許4096564 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 97 \| 計畫名稱: 先進化學品技術發展與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政,林俊旭,涂朝洲,張鍾潛 @ 技術司專利資料集
聚醯亞胺之合成方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 199859 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政 @ 技術司專利資料集
含羥基可交聯的偏二氟乙烯共聚合物之製備方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 199880 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政 @ 技術司專利資料集
氟素撥水撥油劑之製備方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 199884 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政,許鴻裕 @ 技術司專利資料集
Method for the Preparation of 2, 2, 3,4,4,4-Hexafluoro -I-Butanol	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 6740786B1 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 鍾顯政,古旺彩,梁仲謀 @ 技術司專利資料集

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EpoxyResin,CuringAgentand9,10-Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthreneDerivative	核准國家: 美國 \| 證書號碼: 7897702B2 \| 專利期間起: 100/03/01 \| 專利期間訖: 117/11/24 \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 100 \| 計畫名稱: 高值化學品技術開發與應用四年計畫 \| 專利發明人: 蘇文?、劉俊谷、鄭如忠、戴憲宏、林慶炫 @ 技術司專利資料集
透明功能性導電樹脂研究	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: \| 潛力預估: 抗靜電包裝高分子材、無塵室防靜電板材、EMI/RFI遮蔽材、雷達波吸收材等 @ 技術司可移轉技術資料集
SEBS based之低煙無鹵耐燃級TPR材料性能評估	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 難燃等級UL94 V-0、LOI > 28、煙濃度Dm < 300、Tb > 50 (kg/cm2)、Eb > 300 (%)、HS < 90 (Shore A)、MFI < 30 ( g/10min... \| 潛力預估: 熱可塑性彈性體（TPR）為新興高分子合成材料，年成長率6-7%，以大陸用量20萬噸，將快速攀升至45萬噸，環保型難燃TPR為未來趨勢，配合歐盟2006年禁用溴係難燃劑法規，商機無限 @ 技術司可移轉技術資料集
無鹵難燃熱熔膠研製	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 難燃等級UL94 V-0、耐熱吊重(1Kg) > 80℃、軟化點 > 150℃、黏度(180℃) 8000 ~ 11500 mPas、接著剪斷強度(25℃) > 2.0 N/mm2、接著剪斷強度(-1... \| 潛力預估: 熱熔膠年產值約36100公噸，其中難燃級佔5%，年成長率6-7%，環保型熱熔膠為未來趨勢，配合歐盟2006年禁用溴係難燃劑法規，商機無限 @ 技術司可移轉技術資料集
三聚氰胺衍生物包覆聚磷酸銨研究	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 磷含量30-31%，聚合度n＞1000 \| 潛力預估: 高磷含量的無機磷化物在適當相容性材質具高使用價值，以自製三聚氰胺衍生物應用於包覆，可提升產品應用範圍與增加其效益 @ 技術司可移轉技術資料集
鄰苯酚膦化反應技術	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 93 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 產品磷含量＞10%，酸價＜0.1% \| 潛力預估: 應用本技術可衍生開發新型難燃劑，或新型雙功能抗氧化劑，配合環保法規，商機無限 @ 技術司可移轉技術資料集
有機奈米導電樹脂研究	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發展與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: 覆膜厚度50-250nm、表面電阻104~109Ω/sq、透光率＞70％(550nm) \| 潛力預估: 因應EMI管制措施等，市場年成長率可達34%。 @ 技術司可移轉技術資料集
環保型耐燃熱熔膠研製	執行單位: 中科院化學所 \| 產出年度: 94 \| 產出單位: \| 計畫名稱: 功能性化學品關鍵技術開發展與應用四年計畫 \| 領域: \| 技術規格: UL94 V-0、耐熱吊重(1Kg)>80℃、軟化點>150℃、黏度(180℃)8000~11500mPas、接著剪斷強度(25℃)>2.0 N/mm2、接著剪斷強度(-10℃)>0.3 N/mm2 \| 潛力預估: 目前世界上尚未有廠家成功開發出無鹵環保型耐燃熱熔膠，但都已積極投入開發中；然而各大電子廠受限於歐美環保法規限制，對於環保型耐燃熱熔膠之需求十分殷切。 @ 技術司可移轉技術資料集

EpoxyResin,CuringAgentand9,10-Dihydro-9-oxa-10-phosphaphenanthreneDerivative

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透明功能性導電樹脂研究

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場發射顯示器之支撐柱挾持結構與方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 202592 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 林偉義, 蕭名君, 陳盈憲, 曾企民, 蕭雲嬌
利用TIO2層製作擴散式反射板	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206687 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋, 陳明道, 黃良瑩, 翁逸君, 吳耀庭, 蔡明郎, 溫俊祥, 林顯光
具無機及有機功能性構裝基板	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 196534 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 吳仕先, 李明林, 賴信助
奈米碳管閘極之電晶體結構與製程	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 222742 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 魏拯華, 陳信輝, 賴明駿, 王宏祥, 高明哲
元件轉貼之方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 221010 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳昱丞, 王文通, 張榮芳, 湯景萱
多層互補式導線結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220775 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 陳昱丞, 陳麒麟
以矽為基材之微機電射頻開關製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220142 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 邱景宏, 顏凱翔, 陳振頤
覆晶構裝接合結構及其製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 222725 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃元璋
於基板上形成空間支撐物的方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 223307 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃良瑩, 詹景翔, 李正中, 何家充, 蕭名君
具內藏電容之基板結構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 205395 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 \| 專利發明人: 鍾佩翰, 李明林, 賴信助, 吳仕先, 張慧如, 鄭玉美
塑膠基板彩色濾光片製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 206792 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 黃良瑩, 詹景翔, 何家充, 廖奇璋, 辛隆賓
熱傳增益之三維晶片堆疊構裝架構	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220305 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 \| 專利發明人: 呂芳俊, 游善溥, 陳守龍, 林志榮, 李榮賢, 范榮昌
液晶顯示器製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 223113 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋, 林英哲, 翁逸君, 許家榮, 辛隆賓, 劉康弘, 詹景翔, 沙益安, 黃鑫茂
電泳顯示器之製造方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 203568 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 廖奇璋, 劉康弘, 辛隆賓, 翁逸君, 沙益安, 詹景翔, 許家榮, 吳仲文, 林耀生
薄膜電晶體陣列製作方法	核准國家: 中華民國 \| 證書號碼: 220534 \| 專利期間起: \| 專利期間訖: \| 專利性質: 發明 \| 執行單位: 工研院電子所 \| 產出年度: 93 \| 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李啟聖, 陳政忠, 陳麒麟, 許財源

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