具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法
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專利名稱-中文具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法的核准國家是中華民國, 證書號碼是I223103, 專利性質是發明, 執行單位是工研院材料所, 產出年度是93, 計畫名稱是工研院材料與化工領域環境建構計畫, 專利發明人是丘至和, 郭惠隆, 劉怡君, 陳品誠.

序號558
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法
執行單位工研院材料所
產出單位(空)
計畫名稱工研院材料與化工領域環境建構計畫
專利發明人丘至和 | 郭惠隆 | 劉怡君 | 陳品誠
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I223103
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種具有雙金屬層光柵的偏光元件,適用於可見光譜。複數條平行的介電層,具有一週期(p)而形成於一透明基底上,其中相鄰的該等介電層之間具有一溝槽。一第一金屬層,具有一第一厚度(d1)而形成於該溝槽中。一第二金屬層,具有一第二厚度(d2)與一寬度(w)而形成於介電層上,其中第一金屬層與第二金屬層之間具有一垂直距離(l)而互不相連。週期(p)之範圍係10~250nm。第一、二厚度(d1、d2)之範圍係30~150nm,且第一厚度(d1)等於第二厚度(d2)。垂直距離(l)之範圍係10~100nm。寬度(w)/週期(p)之比例範圍係25~75%。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員郭惠隆
電話03-5913107
傳真03-5820215
電子信箱HLKUO.860006@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為材料化工,95年改為生醫材化
特殊情形(空)

序號

558

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

具有雙金屬層光柵的偏光元件及其製造方法

執行單位

工研院材料所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院材料與化工領域環境建構計畫

專利發明人

丘至和 | 郭惠隆 | 劉怡君 | 陳品誠

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I223103

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種具有雙金屬層光柵的偏光元件,適用於可見光譜。複數條平行的介電層,具有一週期(p)而形成於一透明基底上,其中相鄰的該等介電層之間具有一溝槽。一第一金屬層,具有一第一厚度(d1)而形成於該溝槽中。一第二金屬層,具有一第二厚度(d2)與一寬度(w)而形成於介電層上,其中第一金屬層與第二金屬層之間具有一垂直距離(l)而互不相連。週期(p)之範圍係10~250nm。第一、二厚度(d1、d2)之範圍係30~150nm,且第一厚度(d1)等於第二厚度(d2)。垂直距離(l)之範圍係10~100nm。寬度(w)/週期(p)之比例範圍係25~75%。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

郭惠隆

電話

03-5913107

傳真

03-5820215

電子信箱

HLKUO.860006@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為材料化工,95年改為生醫材化

特殊情形

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光學元件及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I247136 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 95 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和、郭惠隆、彭美枝、劉怡君、陳品誠

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雙金屬層光柵構造之偏光元件

核准國家: 美國 | 證書號碼: | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 丘至和 郭惠隆 劉怡君 陳品誠

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雙金屬層光柵構造之偏光元件

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200310120495.3 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和 郭惠隆 劉怡君 陳品誠

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光學元件及其製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7,486,371 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和 ,郭惠隆 ,彭美枝 ,劉怡君 ,陳品誠 ,

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光學元件及其製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7486371 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和 ,郭惠隆 ,彭美枝 ,劉怡君 ,陳品誠 ,

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光學元件及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: I247136 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 95 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和、郭惠隆、彭美枝、劉怡君、陳品誠

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雙金屬層光柵構造之偏光元件

核准國家: 美國 | 證書號碼: | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材化所 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 材料與化工領域環境建構計畫 | 專利發明人: 丘至和 郭惠隆 劉怡君 陳品誠

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雙金屬層光柵構造之偏光元件

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL200310120495.3 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 96 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和 郭惠隆 劉怡君 陳品誠

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光學元件及其製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7,486,371 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和 ,郭惠隆 ,彭美枝 ,劉怡君 ,陳品誠 ,

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光學元件及其製作方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 7486371 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 98 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 丘至和 ,郭惠隆 ,彭美枝 ,劉怡君 ,陳品誠 ,

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高應答速度液晶材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 其他液晶參數:Δn = 0.1561,γ1 /κ11 =7.8 ,κ11 =1.15 e-11,γ1 = 90,FOM = 3.1,Vth = 1.74 V | 潛力預估: 建立我國液晶材料配製、光電特性量測、評估技術能力;促成國內液晶顯示器產業垂直整合的完整性、技術開發完成攻佔市場後可搶佔數10億元以上之的收益。

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一種可增加膽固醇液晶反射波寬的方法及其應用

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6669999 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆

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自發配向的膽固醇液晶型增亮膜的製法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 196478 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆, 吳平耀, 朱文彬

@ 技術司專利資料集

自發配向的膽固醇液晶型增亮膜的製法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6721030 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆, 吳平耀, 朱文彬

@ 技術司專利資料集

高應答速度液晶材料先期技術授權

執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: 其他液晶參數:Δn = 0.1561,γ1 /κ11 =7.8 ,κ11 =1.15 e-11,γ1 = 90,FOM = 3.1,Vth = 1.74 V | 潛力預估: 建立我國液晶材料配製、光電特性量測、評估技術能力;促成國內液晶顯示器產業垂直整合的完整性、技術開發完成攻佔市場後可搶佔數10億元以上之的收益。

@ 技術司可移轉技術資料集

一種可增加膽固醇液晶反射波寬的方法及其應用

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6669999 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆

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自發配向的膽固醇液晶型增亮膜的製法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 196478 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆, 吳平耀, 朱文彬

@ 技術司專利資料集

自發配向的膽固醇液晶型增亮膜的製法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6721030 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院材料所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 先進有機材料產業技術四年計畫 | 專利發明人: 謝葆如, 郭惠隆, 吳平耀, 朱文彬

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核准國家: 美國 | 證書號碼: 6642595 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲

液柱衝擊式液體佈著方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 188234 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝

液柱衝擊式液體佈著方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6663214 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 陳仲竹, 鍾震桂, 陳世輝

積體化流體元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189552 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 林俊仁

電磁驅動光開關及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191670 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 盧慧娟, 李新立, 張文陽, 李政鴻

應用於紅外線成像器與感測器之懸浮微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206522 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 歐政隆, 李宗昇

可撓性之光電傳輸匯流排

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206592 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 沈里正, 陳有志, 張恕銘, 柯志祥

N型奈米碳管元件之製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220269 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王宏祥, 魏拯華, 高明哲

形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190648 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張鈞傑, 陳志強, 莊景桑

光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191701 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡柏豪, 邱景宏, 顏凱翔, 劉文俊, 李裕文

埋藏式電容結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192752 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇

埋藏式電容結構

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超薄基極矽/矽鍺異質結構雙載子電晶體的製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223446 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 賴理學, 陳邦旭, 陸新起, 劉致為

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液柱衝擊式液體佈著方法

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積體化流體元件及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 189552 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 鍾震桂, 林俊仁

電磁驅動光開關及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191670 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 盧慧娟, 李新立, 張文陽, 李政鴻

應用於紅外線成像器與感測器之懸浮微結構及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206522 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 歐政隆, 李宗昇

可撓性之光電傳輸匯流排

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206592 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 沈里正, 陳有志, 張恕銘, 柯志祥

N型奈米碳管元件之製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220269 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 王宏祥, 魏拯華, 高明哲

形成薄膜電晶體元件的方法以及形成薄膜電晶體元件於彩色濾光片上的方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 190648 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張鈞傑, 陳志強, 莊景桑

光波導製程之階梯覆蓋率的測試結構及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191701 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 蔡柏豪, 邱景宏, 顏凱翔, 劉文俊, 李裕文

埋藏式電容結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 192752 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇

埋藏式電容結構

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6813138 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 電子關鍵性材料與整合模組發展四年計畫 | 專利發明人: 卓威明, 魏培森, 翁卿亮, 吳俊昆, 陳昌昇

超薄基極矽/矽鍺異質結構雙載子電晶體的製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 223446 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 工研院通訊與光電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 賴理學, 陳邦旭, 陸新起, 劉致為

具有不同預傾角架構之半反射半穿透顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206598 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 翁逸君, 劉康弘, 范揚宜

橫向驅動電場之廣視角液晶顯示器及其製作方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206589 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 賴志明, 范揚宜, 許家榮, 陳慶逸

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