二維位移量之量測裝置
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專利名稱-中文二維位移量之量測裝置的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院量測中心, 產出年度是93, 專利性質是發明, 計畫名稱是工研院創新前瞻技術研究計畫, 專利發明人是高清芬, 張中柱, 林慶芳, 證書號碼是I224351.

序號610
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文二維位移量之量測裝置
執行單位工研院量測中心
產出單位(空)
計畫名稱工研院創新前瞻技術研究計畫
專利發明人高清芬, 張中柱, 林慶芳
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼I224351
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係有關於一種二維位移量之量測裝置,其係包括雷射光源、平行化透鏡、分光鏡組、複數錯位共軛光學鏡組以及複數干涉光學解相模組,雷射光源係提供一雷射光源入射平行化透鏡,以產生平行化之雷射光源,繼而入射分光鏡組,以分成兩道入射光,俾供入射二維繞射單元,以產生複數道第一次繞射光以及第一二階繞射光,該等錯位共軛光學鏡組用以反射第一次繞射光,俾供該等第一次繞射光返回二維繞射單元,以產生複數第二次繞射光,並使得第二次繞射光與第一二階繞射光錯位,該等干涉光學解相模組則將第二次繞射光產生之弦波信號光解相,俾供利用該等信號光求出二維移動量。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員金娟如
電話03-5743816
傳真03-5720621
電子信箱judyking@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)
同步更新日期2019-07-24

序號

610

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

二維位移量之量測裝置

執行單位

工研院量測中心

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院創新前瞻技術研究計畫

專利發明人

高清芬, 張中柱, 林慶芳

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

I224351

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明係有關於一種二維位移量之量測裝置,其係包括雷射光源、平行化透鏡、分光鏡組、複數錯位共軛光學鏡組以及複數干涉光學解相模組,雷射光源係提供一雷射光源入射平行化透鏡,以產生平行化之雷射光源,繼而入射分光鏡組,以分成兩道入射光,俾供入射二維繞射單元,以產生複數道第一次繞射光以及第一二階繞射光,該等錯位共軛光學鏡組用以反射第一次繞射光,俾供該等第一次繞射光返回二維繞射單元,以產生複數第二次繞射光,並使得第二次繞射光與第一二階繞射光錯位,該等干涉光學解相模組則將第二次繞射光產生之弦波信號光解相,俾供利用該等信號光求出二維移動量。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

金娟如

電話

03-5743816

傳真

03-5720621

電子信箱

judyking@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2019-07-24

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二維位移量之量測裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 高清芬 張中柱 林慶芳 | 證書號碼:

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二維位移量的量測裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 高清芬、張中柱、林慶芳 | 證書號碼: ZL03160230.4

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二維位移量之量測裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 高清芬 張中柱 林慶芳 | 證書號碼:

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二維位移量的量測裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 高清芬、張中柱、林慶芳 | 證書號碼: ZL03160230.4

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線性編碼器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳、高清芬、陳譽元、張中柱 | 證書號碼: I237688

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線性編碼器

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 平面顯示器設備技術開發三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳、高清芬、陳譽元、張中柱 | 證書號碼: ZL03154536.X

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二維尺讀頭機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林慶芳、高清芬、張中柱 | 證書號碼: I230779

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二維尺讀頭機構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林慶芳 高清芬 張中柱 | 證書號碼: ZL200410002410.6

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線性編碼器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳、高清芬、陳譽元、張中柱 | 證書號碼: I237688

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線性編碼器

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 金屬中心 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 平面顯示器設備技術開發三年計畫 | 專利發明人: 林慶芳、高清芬、陳譽元、張中柱 | 證書號碼: ZL03154536.X

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二維尺讀頭機構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林慶芳、高清芬、張中柱 | 證書號碼: I230779

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二維尺讀頭機構

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院院本部 | 產出年度: 97 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林慶芳 高清芬 張中柱 | 證書號碼: ZL200410002410.6

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高密度通道光譜影像量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm | 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足,但製程良率偏低,且檢測速度遠不及產出率,需求快速光譜檢測新一代技術,本技術可直接針對此需求提供服務。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

高密度光譜分析技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm | 潛力預估: 可取代目前國外高價產品,可創造產值5億

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 | 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器,在亞洲市場的產值每年可達數億元,其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭,尺寸/形狀空間解析度:8~15μm。(2)機台y-方向移動速度:40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)空間解析度:7.7 μm。(2)深度範圍:< 200μm。 | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

三維形貌量測探頭技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度:≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 | 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 | 證書號碼: 214743

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 | 證書號碼: 184318

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高密度通道光譜影像量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)物方視野: 線型 > 6 mm(2) 物方空間解析度: < 250 mm (3) 光譜解析度: < 3 nm (4) 單次量測光譜範圍(free spectral range): 400 nm | 潛力預估: 台灣的LED設備產能相當充足,但製程良率偏低,且檢測速度遠不及產出率,需求快速光譜檢測新一代技術,本技術可直接針對此需求提供服務。

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高密度光譜分析技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)掃描範圍:300nm~900nm/1250nm~1650nm | 潛力預估: 可取代目前國外高價產品,可創造產值5億

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垂直掃描白光干涉表徵顯微量測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: 縱向解析度及量程1nm / 100um、橫向解析度及量程 1um / (500um)2 | 潛力預估: 結合單頻相移暨垂直掃描白光干涉功能的顯微檢測儀器,在亞洲市場的產值每年可達數億元,其產值更將隨影像顯示器產業產值的成長而大幅提昇。

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3 mil 線寬/線距PCB/FPC 銅箔線路斷路及短路之缺陷檢測技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1) 3 mil 線寬/線距HDI-PCB銅箔線路缺陷檢測探頭,尺寸/形狀空間解析度:8~15μm。(2)機台y-方向移動速度:40 mm/sec.。(3)缺陷檢測演算法可自動檢測出open/sh... | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

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HDI-PCB銅箔線路雷射盲孔缺陷檢測探頭技術

執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)空間解析度:7.7 μm。(2)深度範圍:< 200μm。 | 潛力預估: 國內印刷電路板全製程電路板生產廠商有華通、嘉聯益、雅新、景碩等,產業頗具規模,因此,製程品質之檢測儀器之需求大。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

三維形貌量測探頭技術

執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 97 | 產出單位: | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 垂直解析度≦5μm。2. 水平解析度:≦25μm。3.掃描速度: 125mm/sec。 | 潛力預估: 預計93年台灣儀器廠將陸續推出設備搶攻台灣與大陸市場。

@ 經濟部產業技術司–可移轉技術資料集

電力控制電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 陳盛仁, 楊景榮, 林俊宏, 陳燦林 | 證書號碼: 214743

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

提高掃頻電路頻率解析與準確度之系統

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院量測中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 自動光學顯微檢測設備技術三年計畫 | 專利發明人: 郭晉榮,黃俊雄 | 證書號碼: 184318

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與二維位移量之量測裝置同分類的經濟部產業技術司–專利資料集

形成頂閘極型薄膜電晶體元件的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑 | 證書號碼: 198717

自組裝奈米導電凸塊及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 汪若蕙, 陳裕華 | 證書號碼: 200159

貼合材料層於透明基板上的方法以及形成單晶矽層於透明基板的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥, 李啟聖, 黃順發, 張榮芳, 許財源, 胡文智, 王亮棠 | 證書號碼: 200277

動態影像灰階檢測方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊 | 證書號碼: 200272

微針頭陣列製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 郭仕奇, 陳相甫 | 證書號碼: 206641

液晶顯示器畫素電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林展瑞, 王博文, 陳尚立 | 證書號碼: 197257

移動式微流體切換裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 龐紹華, 王美雅, 楊宏仁 | 證書號碼: 195345

奈米碳管電子源場發射電流增益製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許志榮, 李鈞道, 李正中, 何家充, 張悠揚 | 證書號碼: 223308

液晶顯示器製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 賴志明, 林英哲, 翁逸君, 李正中, 辛隆賓, 黃良瑩, 詹景翔, 鄭功龍, 劉仕賢 | 證書號碼: 206664

電泳顯示器之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 陳明道, 劉康弘, 林英哲, 翁逸君, 李正中, 賴志明, 許家榮, 范揚宜 | 證書號碼: 206722

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘, 陳永祥 | 證書號碼: 223259

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘, 陳永祥 | 證書號碼: 6791887

具有支撐柱結構閘極板之場發射顯示器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 蕭名君, 林偉義, 張悠揚, 王右武 | 證書號碼: 220263

陣列式電感

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達, 李明林 | 證書號碼: 240666

多重厚度絕緣層製作方法及結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳邦旭, 許博欽, 劉致為 | 證書號碼: 222134

形成頂閘極型薄膜電晶體元件的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 陳志強, 莊景桑, 張鈞傑 | 證書號碼: 198717

自組裝奈米導電凸塊及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 汪若蕙, 陳裕華 | 證書號碼: 200159

貼合材料層於透明基板上的方法以及形成單晶矽層於透明基板的方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 張志祥, 李啟聖, 黃順發, 張榮芳, 許財源, 胡文智, 王亮棠 | 證書號碼: 200277

動態影像灰階檢測方法與裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖明俊 | 證書號碼: 200272

微針頭陣列製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 郭仕奇, 陳相甫 | 證書號碼: 206641

液晶顯示器畫素電路

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 林展瑞, 王博文, 陳尚立 | 證書號碼: 197257

移動式微流體切換裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微小化生醫診療工程技術四年計畫 | 專利發明人: 龐紹華, 王美雅, 楊宏仁 | 證書號碼: 195345

奈米碳管電子源場發射電流增益製程

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 許志榮, 李鈞道, 李正中, 何家充, 張悠揚 | 證書號碼: 223308

液晶顯示器製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 賴志明, 林英哲, 翁逸君, 李正中, 辛隆賓, 黃良瑩, 詹景翔, 鄭功龍, 劉仕賢 | 證書號碼: 206664

電泳顯示器之製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 廖奇璋, 陳明道, 劉康弘, 林英哲, 翁逸君, 李正中, 賴志明, 許家榮, 范揚宜 | 證書號碼: 206722

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘, 陳永祥 | 證書號碼: 223259

磁性隨機存取記憶體之參考中點電流產生器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 奈米電子關鍵技術四年計畫 | 專利發明人: 洪建中, 高明哲, 潘宗銘, 陳永祥 | 證書號碼: 6791887

具有支撐柱結構閘極板之場發射顯示器及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代平面顯示關鍵技術發展四年計畫 | 專利發明人: 李鈞道, 蕭名君, 林偉義, 張悠揚, 王右武 | 證書號碼: 220263

陣列式電感

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 黃肇達, 李明林 | 證書號碼: 240666

多重厚度絕緣層製作方法及結構

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院創新前瞻技術研究計畫 | 專利發明人: 陳邦旭, 許博欽, 劉致為 | 證書號碼: 222134

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