高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部
專利名稱-中文高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 專利性質是新型, 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫, 專利發明人是姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲, 證書號碼是216653.
| 序號 | 973 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 216653 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 新型 |
| 技術摘要-中文 | 本創作係為一種高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組，該調制裝置係由陣列化之數個具有放大成像作用之光可調制性微型結構透鏡搭配發光二極體構成，該透鏡可為微型平面透鏡(Fresnel lens)或微型球面透鏡，該發光二極體係設置於透鏡軸向側之透鏡焦距內，將該調制裝置設置於一框體之液晶面板下方，該發光二極體下方可再搭配一具有內凹弧面之反射罩，使構成一面光源模組，藉由該反射罩強化發光二極體光線之方向性，由透鏡對發光二極體之光線產生成像放大作用，再經由液晶面板透出，藉此可將原為離散之點光源均勻擴散為連續化之面化光牆分佈於液晶面板上，以提供一結構簡單、亮度高、均勻化之液晶顯示器用之背光源模組。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
| 電子信箱 | LHL@itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 同步更新日期 | 2023-07-05 |
序號973 |
產出年度93 |
領域別(空) |
專利名稱-中文高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組 |
執行單位工研院機械所 |
產出單位(空) |
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
專利發明人姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲 |
核准國家中華民國 |
獲證日期(空) |
證書號碼216653 |
專利期間起(空) |
專利期間訖(空) |
專利性質新型 |
技術摘要-中文本創作係為一種高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組，該調制裝置係由陣列化之數個具有放大成像作用之光可調制性微型結構透鏡搭配發光二極體構成，該透鏡可為微型平面透鏡(Fresnel lens)或微型球面透鏡，該發光二極體係設置於透鏡軸向側之透鏡焦距內，將該調制裝置設置於一框體之液晶面板下方，該發光二極體下方可再搭配一具有內凹弧面之反射罩，使構成一面光源模組，藉由該反射罩強化發光二極體光線之方向性，由透鏡對發光二極體之光線產生成像放大作用，再經由液晶面板透出，藉此可將原為離散之點光源均勻擴散為連續化之面化光牆分佈於液晶面板上，以提供一結構簡單、亮度高、均勻化之液晶顯示器用之背光源模組。 |
技術摘要-英文(空) |
聯絡人員賴麗惠 |
電話03-5915788 |
傳真(空) |
電子信箱LHL@itri.org.tw |
參考網址http://www.itri.org.tw |
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
特殊情形(空) |
同步更新日期2023-07-05 |
| 電話: (06)2826379 | 營業時間: 00:00-24:00 | 營業中: 1 | 類別: 加盟站 | 台南市 | 永康區 | 地址: 中正南路132號 | 無鉛92: 1 | 無鉛95: 1 | 無鉛98: 1 | 煤油: 0 | 超柴: 1 | 會員卡: 1 | 刷卡自助: 0 | 電子發票: 1 @ 加油站服務資訊 |
電話: (06)2826379 | 營業時間: 00:00-24:00 | 營業中: 1 | 類別: 加盟站 | 台南市 | 永康區 | 地址: 中正南路132號 | 無鉛92: 1 | 無鉛95: 1 | 無鉛98: 1 | 煤油: 0 | 超柴: 1 | 會員卡: 1 | 刷卡自助: 0 | 電子發票: 1 @ 加油站服務資訊 |
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根據名稱 高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組 找到的相關資料
| 序號 | 1138 |
| 產出年度 | 94 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 高可視性發光二極管面型光源調制裝置與模組 |
| 執行單位 | 工研院院本部 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 姚柏宏、潘奕凱、鮑友南、林建憲 |
| 核准國家 | 中國大陸 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | ZL03266407.9 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 新型 |
| 技術摘要-中文 | 本創作係為一種高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組，該調制裝置係由陣列化之數個具有放大成像作用之光可調制性微型結構透鏡搭配發光二極體構成，該透鏡可為微型平面透鏡(Fresnel lens)或微型球面透鏡，該發光二極體係設置於透鏡軸向側之透鏡焦距內，將該調制裝置設置於一框體之液晶面板下方，該發光二極體下方可再搭配一具有內凹弧面之反射罩，使構成一面光源模組，藉由該反射罩強化發光二極體光線之方向性，由透鏡對發光二極體之光線產生成像放大作用，再經由液晶面板透出，藉此可將原為離散之點光源均勻擴散為連續化之面化光 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 劉展洋 |
| 電話 | 03-5916037 |
| 傳真 | 03-5917431 |
| 電子信箱 | JamesLiu@Itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 1138 |
| 產出年度: 94 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 高可視性發光二極管面型光源調制裝置與模組 |
| 執行單位: 工研院院本部 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院先進製造與系統領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 姚柏宏、潘奕凱、鮑友南、林建憲 |
| 核准國家: 中國大陸 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: ZL03266407.9 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 新型 |
| 技術摘要-中文: 本創作係為一種高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組，該調制裝置係由陣列化之數個具有放大成像作用之光可調制性微型結構透鏡搭配發光二極體構成，該透鏡可為微型平面透鏡(Fresnel lens)或微型球面透鏡，該發光二極體係設置於透鏡軸向側之透鏡焦距內，將該調制裝置設置於一框體之液晶面板下方，該發光二極體下方可再搭配一具有內凹弧面之反射罩，使構成一面光源模組，藉由該反射罩強化發光二極體光線之方向性，由透鏡對發光二極體之光線產生成像放大作用，再經由液晶面板透出，藉此可將原為離散之點光源均勻擴散為連續化之面化光 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 劉展洋 |
| 電話: 03-5916037 |
| 傳真: 03-5917431 |
| 電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw |
| 參考網址: http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
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| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲, 姚柏宏, 鮑友南, 潘奕凱 | 證書號碼: 207005 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
| 核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 潘奕凱、姚柏宏、鮑友南、林建憲 | 證書號碼: ZL03178497.6 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
| 核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲 姚柏宏 鮑友南 潘奕凱 | 證書號碼: ZL03149768.3 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 潘奕凱、姚柏宏、鮑友南、林建憲 | 證書號碼: I235251 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲, 姚柏宏, 鮑友南, 潘奕凱 | 證書號碼: 207005 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 潘奕凱、姚柏宏、鮑友南、林建憲 | 證書號碼: ZL03178497.6 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 96 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 林建憲 姚柏宏 鮑友南 潘奕凱 | 證書號碼: ZL03149768.3 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 94 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 專利發明人: 潘奕凱、姚柏宏、鮑友南、林建憲 | 證書號碼: I235251 @ 經濟部產業技術司–專利資料集 |
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根據電話 03-5915788 找到的相關資料
(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5915788 ...)| 序號 | 949 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 無間隙3-D微結構陣列模仁之製程 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 201594 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
| 電子信箱 | LHL@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 949 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 無間隙3-D微結構陣列模仁之製程 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 201594 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 950 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 無間隙3-D微結構陣列模仁之製程 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 |
| 核准國家 | 美國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 6,746,823 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
| 電子信箱 | LHL@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 950 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 無間隙3-D微結構陣列模仁之製程 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂 |
| 核准國家: 美國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 6,746,823 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號: 951 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 降低鎳基合金鍍層內應力之方法 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 柯世宗, 李仁智, 葛明德, 王樂民, 宋鈺, 楊詔中, 黃雅如 |
| 核准國家: 美國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 6699379 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 本發明提供一種降低鎳基合金鍍層(如鎳鎢合金鍍層)內應力之方法，其步驟包括：添加陶瓷微粒於含鎳鹽的電鍍液中；及將一基材置於該電鍍液中進行脈衝電流電鍍。該降低鎳基合金鍍層內應力之方法可使鎳基合金鍍層的內應力降低，以減少或消除鍍層的裂紋，進而增加鎳基合金鍍層的耐久性。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 952 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 球形工件加工裝置 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 林衛助, 蔡坤龍 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 211484 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 新型 |
| 技術摘要-中文 | 一種球形工件加工裝置，其主要係在於該機台上固設一水平旋轉機構，並於其上方固設一具有二刀塔之進給機構，而各刀塔上架設有車削刀具，另於水平旋轉機構之側方以機架架設有主軸及可上下擺動之檢測機構；藉此，該進給機構可先帶動二刀塔上之各刀具碰觸檢測機構之感測器，以自動檢測刀具位置，當主軸帶動球形工件旋轉作動時，可令進給機構配合水平旋轉機構帶動刀塔上之刀具自動到定位並進行圓弧切削加工，達到可確實精密定位及大幅提高加工效率之實用效益。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
| 電子信箱 | LHL@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 952 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 球形工件加工裝置 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 林衛助, 蔡坤龍 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 211484 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 新型 |
| 技術摘要-中文: 一種球形工件加工裝置，其主要係在於該機台上固設一水平旋轉機構，並於其上方固設一具有二刀塔之進給機構，而各刀塔上架設有車削刀具，另於水平旋轉機構之側方以機架架設有主軸及可上下擺動之檢測機構；藉此，該進給機構可先帶動二刀塔上之各刀具碰觸檢測機構之感測器，以自動檢測刀具位置，當主軸帶動球形工件旋轉作動時，可令進給機構配合水平旋轉機構帶動刀塔上之刀具自動到定位並進行圓弧切削加工，達到可確實精密定位及大幅提高加工效率之實用效益。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 953 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 物件與膠膜分離之方法 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 194407 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 本發明係提供一種物件與膠膜分離之方法，其特徵在於：預先施予膠膜一能與物件適度分離之如撕離之外力，使降低物件與膠膜間之黏合性，再以取放頭吸取物件；為達到前述目的，可於膠膜底部設置一具有真空吸附孔且可移動之真空吸取座，藉由真空吸取座之吸力對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；亦可設置一連桿與取放頭同步升降，取放頭下降與物件接觸前，可帶動連桿先下壓於膠膜上對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；由於外力未作用於物件上，因此可使物件變形量控制至極小之程度，避免物件破損，且物件不致移位，並可一次直接剝離多個晶片，增加生產速度，縮短拾取時間者。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
| 電子信箱 | LHL@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 953 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 物件與膠膜分離之方法 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 194407 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 本發明係提供一種物件與膠膜分離之方法，其特徵在於：預先施予膠膜一能與物件適度分離之如撕離之外力，使降低物件與膠膜間之黏合性，再以取放頭吸取物件；為達到前述目的，可於膠膜底部設置一具有真空吸附孔且可移動之真空吸取座，藉由真空吸取座之吸力對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；亦可設置一連桿與取放頭同步升降，取放頭下降與物件接觸前，可帶動連桿先下壓於膠膜上對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；由於外力未作用於物件上，因此可使物件變形量控制至極小之程度，避免物件破損，且物件不致移位，並可一次直接剝離多個晶片，增加生產速度，縮短拾取時間者。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 954 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 可三維即時修正之尋光方法 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 周甘霖, 李閔凱 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 188264 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 一種可三維即時修正之尋光方法，其係用來尋找一發光源與接收端之間的對位點，主要係於ＸＹ平面上先以粗尋光的方式搜尋出光源，當粗尋光得到光源位置後，即進行細尋光的搜尋，該細尋光係以粗尋光光源位置，在ＸＺ（或ＹＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較其中局部最大光強度點，再以該最大光強度點於ＹＺ（或ＸＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較獲得該局部最大光強度點，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，而漸趨獲得光強度的局部最大值，接著再降低搜尋半徑Ｒ，於局部的最大值內，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，即可找尋到所定義的最佳光強度值；藉此，在整個尋光過程中，不但可即時修正Ｘ、Ｙ兩軸的位置參數，同時在交錯搜尋的過程中，亦即時修正Ｚ軸的位置，而以三維空間的方式，迅速的獲得最佳光強度位置，完成最佳的尋光對位。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
| 電子信箱 | LHL@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 954 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 可三維即時修正之尋光方法 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 周甘霖, 李閔凱 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 188264 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 一種可三維即時修正之尋光方法，其係用來尋找一發光源與接收端之間的對位點，主要係於ＸＹ平面上先以粗尋光的方式搜尋出光源，當粗尋光得到光源位置後，即進行細尋光的搜尋，該細尋光係以粗尋光光源位置，在ＸＺ（或ＹＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較其中局部最大光強度點，再以該最大光強度點於ＹＺ（或ＸＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較獲得該局部最大光強度點，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，而漸趨獲得光強度的局部最大值，接著再降低搜尋半徑Ｒ，於局部的最大值內，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，即可找尋到所定義的最佳光強度值；藉此，在整個尋光過程中，不但可即時修正Ｘ、Ｙ兩軸的位置參數，同時在交錯搜尋的過程中，亦即時修正Ｚ軸的位置，而以三維空間的方式，迅速的獲得最佳光強度位置，完成最佳的尋光對位。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 955 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 隔膜閥 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 林春宏, 蔡陳德, 吳錦清, 何榮振, 王漢聰 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 218453 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 新型 |
| 技術摘要-中文 | 一種隔膜閥，利用金屬碟形膜片組來控制流體之進出，此金屬碟形膜片組設置於氣體流道的上方，藉由控制設置於金屬碟形膜片組上方的中心軸，以壓迫金屬碟形膜片組與設置於氣體流道內之非金屬閥座密合，而達到阻絕氣體通過之效果;此非金屬閥座係藉由具有錐形截面的固定套環將其固定於氣體流道中，且金屬碟形膜片組中夾置於中央之金屬膜片是採中央環形之設計，以降低金屬膜片間之金屬摩擦，增加其使用次數，且降低隔膜閥之洩漏率。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
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| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 955 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 隔膜閥 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 吳錦清, 何榮振, 王漢聰 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 218453 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 新型 |
| 技術摘要-中文: 一種隔膜閥，利用金屬碟形膜片組來控制流體之進出，此金屬碟形膜片組設置於氣體流道的上方，藉由控制設置於金屬碟形膜片組上方的中心軸，以壓迫金屬碟形膜片組與設置於氣體流道內之非金屬閥座密合，而達到阻絕氣體通過之效果;此非金屬閥座係藉由具有錐形截面的固定套環將其固定於氣體流道中，且金屬碟形膜片組中夾置於中央之金屬膜片是採中央環形之設計，以降低金屬膜片間之金屬摩擦，增加其使用次數，且降低隔膜閥之洩漏率。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
| 序號 | 956 |
| 產出年度 | 93 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 二片式繞射/折射複合型成像系統 |
| 執行單位 | 工研院機械所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人 | 傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | 220699 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 本發明係提供一種二片式繞射／折射複合型成像系統，其係由一第一透鏡及一第二透鏡構成，該第一透鏡具有一凹面及一凸面，其凹面係為物面，該第二透鏡具有一凸面及一凹面，其凸面朝向第一透鏡之凸面，其凹面則朝向一濾光片，該第一透鏡及第二透鏡之任一面可以是球面或一般非球面，並且該成像系統至少包括一繞射面，其中，該繞射／折射複合透鏡面可位於該第一透鏡或第二透鏡之任一面上，藉由繞射元件特有之光學特性，可在不增加元件片數下，消除更多像差及提高成像品質，達到降低成本、省空間、小型化之目的。 |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 賴麗惠 |
| 電話 | 03-5915788 |
| 傳真 | (空) |
| 電子信箱 | LHL@itri.org.tw |
| 參考網址 | www.itri.org.tw |
| 備註 | 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形 | (空) |
| 序號: 956 |
| 產出年度: 93 |
| 領域別: (空) |
| 專利名稱-中文: 二片式繞射/折射複合型成像系統 |
| 執行單位: 工研院機械所 |
| 產出單位: (空) |
| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 |
| 專利發明人: 傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘 |
| 核准國家: 中華民國 |
| 獲證日期: (空) |
| 證書號碼: 220699 |
| 專利期間起: (空) |
| 專利期間訖: (空) |
| 專利性質: 發明 |
| 技術摘要-中文: 本發明係提供一種二片式繞射／折射複合型成像系統，其係由一第一透鏡及一第二透鏡構成，該第一透鏡具有一凹面及一凸面，其凹面係為物面，該第二透鏡具有一凸面及一凹面，其凸面朝向第一透鏡之凸面，其凹面則朝向一濾光片，該第一透鏡及第二透鏡之任一面可以是球面或一般非球面，並且該成像系統至少包括一繞射面，其中，該繞射／折射複合透鏡面可位於該第一透鏡或第二透鏡之任一面上，藉由繞射元件特有之光學特性，可在不增加元件片數下，消除更多像差及提高成像品質，達到降低成本、省空間、小型化之目的。 |
| 技術摘要-英文: (空) |
| 聯絡人員: 賴麗惠 |
| 電話: 03-5915788 |
| 傳真: (空) |
| 電子信箱: LHL@itri.org.tw |
| 參考網址: www.itri.org.tw |
| 備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸 |
| 特殊情形: (空) |
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| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 塑膠中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精密及環保塑膠之新加工製程三年計畫 | 專利發明人: 吳易凡 | 證書號碼: 226282 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 塑膠中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精密及環保塑膠之新加工製程三年計畫 | 專利發明人: 王昭欽、沈曉復 | 證書號碼: 193612 |
| 核准國家: 美國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 寬頻行動通訊系統整合技術發展三年計畫 | 專利發明人: 鄧德生.李鴻淇 | 證書號碼: US-2003-0112024-A1 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 寬頻行動通訊系統整合技術發展三年計畫 | 專利發明人: 李繼華.梁春村.葉嘉範 | 證書號碼: 發明第197766號 |
| 核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 中科院資通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 寬頻行動通訊系統整合技術發展三年計畫 | 專利發明人: 吳匡時、林瀛寬、彭明山 | 證書號碼: 175672 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 醫療系統技術開發四年計畫 | 專利發明人: 胡振華、高幼齡、廖振南 | 證書號碼: 發明第197676號 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 醫療系統技術開發四年計畫 | 專利發明人: 李百祺、黃景忠、陳淑娥、高幼齡、朱子英 | 證書號碼: 發明第191461號 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 鞋技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 舒適保健鞋技術開發三年計畫 | 專利發明人: 楊文賓 郭文龍 張慶利 | 證書號碼: 200027 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 鞋技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 舒適保健鞋技術開發三年計畫 | 專利發明人: 黃賜源 吳松青 廖明濠 | 證書號碼: 249510 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 張長泉、陳秀雯、丁懷謙 | 證書號碼: 185390 |
| 核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 李淑芬、李福臨、余曉青、黃偉勳、劉育貞 | 證書號碼: ZL98125700.3 |
| 核准國家: 中華民國 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 林錫杰、溫秋燕、許文浩、劉桂郁、朱文深 | 證書號碼: 203328 |
| 核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 吳文騰、王培銘、黃定國、袁國芳 | 證書號碼: ZL00103542.8 |
| 核准國家: 日本 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 吳文騰、王培銘、黃定國、袁國芳 | 證書號碼: 3543085 |
| 核准國家: 美國 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 吳文騰、王培銘、黃定國、袁國芳 | 證書號碼: US 6,746,862 B1 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 塑膠中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精密及環保塑膠之新加工製程三年計畫 | 專利發明人: 吳易凡 | 證書號碼: 226282 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 塑膠中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 精密及環保塑膠之新加工製程三年計畫 | 專利發明人: 王昭欽、沈曉復 | 證書號碼: 193612 |
核准國家: 美國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 寬頻行動通訊系統整合技術發展三年計畫 | 專利發明人: 鄧德生.李鴻淇 | 證書號碼: US-2003-0112024-A1 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 寬頻行動通訊系統整合技術發展三年計畫 | 專利發明人: 李繼華.梁春村.葉嘉範 | 證書號碼: 發明第197766號 |
核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 中科院資通所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 寬頻行動通訊系統整合技術發展三年計畫 | 專利發明人: 吳匡時、林瀛寬、彭明山 | 證書號碼: 175672 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 醫療系統技術開發四年計畫 | 專利發明人: 胡振華、高幼齡、廖振南 | 證書號碼: 發明第197676號 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 中科院電子所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 醫療系統技術開發四年計畫 | 專利發明人: 李百祺、黃景忠、陳淑娥、高幼齡、朱子英 | 證書號碼: 發明第191461號 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 鞋技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 舒適保健鞋技術開發三年計畫 | 專利發明人: 楊文賓 郭文龍 張慶利 | 證書號碼: 200027 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 鞋技中心 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 舒適保健鞋技術開發三年計畫 | 專利發明人: 黃賜源 吳松青 廖明濠 | 證書號碼: 249510 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 張長泉、陳秀雯、丁懷謙 | 證書號碼: 185390 |
核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 李淑芬、李福臨、余曉青、黃偉勳、劉育貞 | 證書號碼: ZL98125700.3 |
核准國家: 中華民國 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 林錫杰、溫秋燕、許文浩、劉桂郁、朱文深 | 證書號碼: 203328 |
核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 吳文騰、王培銘、黃定國、袁國芳 | 證書號碼: ZL00103542.8 |
核准國家: 日本 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 吳文騰、王培銘、黃定國、袁國芳 | 證書號碼: 3543085 |
核准國家: 美國 | 執行單位: 食品所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 生物資源之收集保存與開發四年計畫 | 專利發明人: 吳文騰、王培銘、黃定國、袁國芳 | 證書號碼: US 6,746,862 B1 |
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