用於奈米轉印之平行度調整裝置
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文用於奈米轉印之平行度調整裝置的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院機械所, 產出年度是93, 專利性質是新型, 計畫名稱是工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫, 專利發明人是陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮, 證書號碼是217025.

序號969
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文用於奈米轉印之平行度調整裝置
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼217025
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
電子信箱LHL@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
同步更新日期2023-07-05

序號

969

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

用於奈米轉印之平行度調整裝置

執行單位

工研院機械所

產出單位

(空)

計畫名稱

工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫

專利發明人

陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

217025

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

新型

技術摘要-中文

一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

賴麗惠

電話

03-5915788

傳真

(空)

電子信箱

LHL@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

同步更新日期

2023-07-05

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# 用於奈米轉印之平行度調整裝置 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號3641
產出年度96
領域別(空)
專利名稱-中文用於奈米轉印之平行度調整裝置
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人陳明祈 馮文宏 陳釧鋒 許嘉峻 林家弘 鍾永鎮
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼(空)
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。_x000D_
技術摘要-英文(空)
聯絡人員劉展洋
電話03-5916037
傳真03-5917431
電子信箱JamesLiu@Itri.org.tw
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 3641
產出年度: 96
領域別: (空)
專利名稱-中文: 用於奈米轉印之平行度調整裝置
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫
專利發明人: 陳明祈 馮文宏 陳釧鋒 許嘉峻 林家弘 鍾永鎮
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: (空)
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。_x000D_
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 劉展洋
電話: 03-5916037
傳真: 03-5917431
電子信箱: JamesLiu@Itri.org.tw
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 用於奈米轉印之平行度調整裝置 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號968
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文用于納米轉印的平行度調整裝置
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮
核准國家中國大陸
獲證日期(空)
證書號碼ZL03257537.8
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
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備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 968
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 用于納米轉印的平行度調整裝置
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮
核准國家: 中國大陸
獲證日期: (空)
證書號碼: ZL03257537.8
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種用於奈米轉印之平行度調整裝置，包括：具有一第一模板與固定於該第一模板上之模具的轉印單元；具有一第二模板與固定於該第二模板上之基板的承載單元；接置於該第一模板與第二模板之其中至少一者的平行度調整機構，其包含一密閉彈性膜及其所包覆之流體；以及用以驅動該轉印單元與承載單元之其中至少一者的驅動源，以令該轉印用模具與該可成形材料層接觸而進行轉印，並藉此使該平行度調整機構受壓，而調整該轉印用模具與基板間之轉印平行度與施壓均勻性，進而大幅提昇該奈米轉印的成形品質。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
傳真: (空)
電子信箱: LHL@itri.org.tw
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)
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用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮、林家弘、許嘉峻、陳釧鋒、馮文宏、陳明祈 | 證書號碼:

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: ZL03257536.X

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: 217875

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 95 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 機械與系統領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮、林家弘、許嘉峻、陳釧鋒、馮文宏、陳明祈 | 證書號碼:

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

用于納米轉印的均勻施壓裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: ZL03257536.X

@ 經濟部產業技術司–專利資料集

用於奈米轉印之均勻施壓裝置

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院機械所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 | 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 | 證書號碼: 217875

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# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 1

序號949
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文無間隙3-D微結構陣列模仁之製程
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人林坤龍, 周敏傑, 潘正堂
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼201594
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ　ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
電子信箱LHL@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 949
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 無間隙3-D微結構陣列模仁之製程
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 201594
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ　ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
傳真: (空)
電子信箱: LHL@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 2

序號950
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文無間隙3-D微結構陣列模仁之製程
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人林坤龍, 周敏傑, 潘正堂
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6,746,823
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ　ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
電子信箱LHL@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 950
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 無間隙3-D微結構陣列模仁之製程
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 林坤龍, 周敏傑, 潘正堂
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6,746,823
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種無間隙３－Ｄ微結構陣列模仁之製程，其主要係於一基板上塗佈高分子緩衝層，以增加對基板的附著力，再於高分子緩衝層上塗佈光阻組成物層，隨之以黃光微影法（ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）將圖樣（ｐａｔｔｅｒｎ）成形於光阻組成物層，接著加熱至光阻組成物至玻璃轉換溫度（Ｔｇ），使光阻組成物形成具有間隙之微結構陣列，再於微結構表面鍍覆金屬薄膜的導電層，最後以電鑄（Ｅｌｅｃｔｒｏ　ｆｏｒｍｉｎｇ）的方式填補間隙，即可獲得無間隙的陣列模仁；藉此，利用該模仁即可翻製出金屬模具，而以微射出成型或微熱壓成型，製作出無間隙微結構陣列，進而可以簡便製程有效降低生產成本。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
傳真: (空)
電子信箱: LHL@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 3

序號951
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文降低鎳基合金鍍層內應力之方法
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人柯世宗, 李仁智, 葛明德, 王樂民, 宋鈺, 楊詔中, 黃雅如
核准國家美國
獲證日期(空)
證書號碼6699379
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種降低鎳基合金鍍層(如鎳鎢合金鍍層)內應力之方法，其步驟包括：添加陶瓷微粒於含鎳鹽的電鍍液中；及將一基材置於該電鍍液中進行脈衝電流電鍍。該降低鎳基合金鍍層內應力之方法可使鎳基合金鍍層的內應力降低，以減少或消除鍍層的裂紋，進而增加鎳基合金鍍層的耐久性。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
電子信箱LHL@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 951
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 降低鎳基合金鍍層內應力之方法
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 柯世宗, 李仁智, 葛明德, 王樂民, 宋鈺, 楊詔中, 黃雅如
核准國家: 美國
獲證日期: (空)
證書號碼: 6699379
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明提供一種降低鎳基合金鍍層(如鎳鎢合金鍍層)內應力之方法，其步驟包括：添加陶瓷微粒於含鎳鹽的電鍍液中；及將一基材置於該電鍍液中進行脈衝電流電鍍。該降低鎳基合金鍍層內應力之方法可使鎳基合金鍍層的內應力降低，以減少或消除鍍層的裂紋，進而增加鎳基合金鍍層的耐久性。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
傳真: (空)
電子信箱: LHL@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 4

序號952
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文球形工件加工裝置
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人林衛助, 蔡坤龍
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼211484
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種球形工件加工裝置，其主要係在於該機台上固設一水平旋轉機構，並於其上方固設一具有二刀塔之進給機構，而各刀塔上架設有車削刀具，另於水平旋轉機構之側方以機架架設有主軸及可上下擺動之檢測機構；藉此，該進給機構可先帶動二刀塔上之各刀具碰觸檢測機構之感測器，以自動檢測刀具位置，當主軸帶動球形工件旋轉作動時，可令進給機構配合水平旋轉機構帶動刀塔上之刀具自動到定位並進行圓弧切削加工，達到可確實精密定位及大幅提高加工效率之實用效益。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
電子信箱LHL@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 952
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 球形工件加工裝置
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 林衛助, 蔡坤龍
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 211484
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種球形工件加工裝置，其主要係在於該機台上固設一水平旋轉機構，並於其上方固設一具有二刀塔之進給機構，而各刀塔上架設有車削刀具，另於水平旋轉機構之側方以機架架設有主軸及可上下擺動之檢測機構；藉此，該進給機構可先帶動二刀塔上之各刀具碰觸檢測機構之感測器，以自動檢測刀具位置，當主軸帶動球形工件旋轉作動時，可令進給機構配合水平旋轉機構帶動刀塔上之刀具自動到定位並進行圓弧切削加工，達到可確實精密定位及大幅提高加工效率之實用效益。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
傳真: (空)
電子信箱: LHL@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 5

序號953
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文物件與膠膜分離之方法
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼194407
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係提供一種物件與膠膜分離之方法，其特徵在於：預先施予膠膜一能與物件適度分離之如撕離之外力，使降低物件與膠膜間之黏合性，再以取放頭吸取物件；為達到前述目的，可於膠膜底部設置一具有真空吸附孔且可移動之真空吸取座，藉由真空吸取座之吸力對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；亦可設置一連桿與取放頭同步升降，取放頭下降與物件接觸前，可帶動連桿先下壓於膠膜上對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；由於外力未作用於物件上，因此可使物件變形量控制至極小之程度，避免物件破損，且物件不致移位，並可一次直接剝離多個晶片，增加生產速度，縮短拾取時間者。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
電子信箱LHL@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 953
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 物件與膠膜分離之方法
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 194407
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係提供一種物件與膠膜分離之方法，其特徵在於：預先施予膠膜一能與物件適度分離之如撕離之外力，使降低物件與膠膜間之黏合性，再以取放頭吸取物件；為達到前述目的，可於膠膜底部設置一具有真空吸附孔且可移動之真空吸取座，藉由真空吸取座之吸力對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；亦可設置一連桿與取放頭同步升降，取放頭下降與物件接觸前，可帶動連桿先下壓於膠膜上對膠膜產生如撕離之外力，再由取放頭吸取物件；由於外力未作用於物件上，因此可使物件變形量控制至極小之程度，避免物件破損，且物件不致移位，並可一次直接剝離多個晶片，增加生產速度，縮短拾取時間者。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 6

序號954
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文可三維即時修正之尋光方法
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人周甘霖, 李閔凱
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼188264
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文一種可三維即時修正之尋光方法，其係用來尋找一發光源與接收端之間的對位點，主要係於ＸＹ平面上先以粗尋光的方式搜尋出光源，當粗尋光得到光源位置後，即進行細尋光的搜尋，該細尋光係以粗尋光光源位置，在ＸＺ（或ＹＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較其中局部最大光強度點，再以該最大光強度點於ＹＺ（或ＸＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較獲得該局部最大光強度點，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，而漸趨獲得光強度的局部最大值，接著再降低搜尋半徑Ｒ，於局部的最大值內，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，即可找尋到所定義的最佳光強度值；藉此，在整個尋光過程中，不但可即時修正Ｘ、Ｙ兩軸的位置參數，同時在交錯搜尋的過程中，亦即時修正Ｚ軸的位置，而以三維空間的方式，迅速的獲得最佳光強度位置，完成最佳的尋光對位。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
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備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 954
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 可三維即時修正之尋光方法
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 周甘霖, 李閔凱
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 188264
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 一種可三維即時修正之尋光方法，其係用來尋找一發光源與接收端之間的對位點，主要係於ＸＹ平面上先以粗尋光的方式搜尋出光源，當粗尋光得到光源位置後，即進行細尋光的搜尋，該細尋光係以粗尋光光源位置，在ＸＺ（或ＹＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較其中局部最大光強度點，再以該最大光強度點於ＹＺ（或ＸＺ）平面上，以Ｒ為半徑繞圓，並比較獲得該局部最大光強度點，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，而漸趨獲得光強度的局部最大值，接著再降低搜尋半徑Ｒ，於局部的最大值內，依序在ＸＺ及ＹＺ平面上交錯搜尋，即可找尋到所定義的最佳光強度值；藉此，在整個尋光過程中，不但可即時修正Ｘ、Ｙ兩軸的位置參數，同時在交錯搜尋的過程中，亦即時修正Ｚ軸的位置，而以三維空間的方式，迅速的獲得最佳光強度位置，完成最佳的尋光對位。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 7

序號955
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文隔膜閥
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人林春宏, 蔡陳德, 吳錦清, 何榮振, 王漢聰
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼218453
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質新型
技術摘要-中文一種隔膜閥，利用金屬碟形膜片組來控制流體之進出，此金屬碟形膜片組設置於氣體流道的上方，藉由控制設置於金屬碟形膜片組上方的中心軸，以壓迫金屬碟形膜片組與設置於氣體流道內之非金屬閥座密合，而達到阻絕氣體通過之效果;此非金屬閥座係藉由具有錐形截面的固定套環將其固定於氣體流道中，且金屬碟形膜片組中夾置於中央之金屬膜片是採中央環形之設計，以降低金屬膜片間之金屬摩擦，增加其使用次數，且降低隔膜閥之洩漏率。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
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備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 955
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 隔膜閥
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 林春宏, 蔡陳德, 吳錦清, 何榮振, 王漢聰
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 218453
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 新型
技術摘要-中文: 一種隔膜閥，利用金屬碟形膜片組來控制流體之進出，此金屬碟形膜片組設置於氣體流道的上方，藉由控制設置於金屬碟形膜片組上方的中心軸，以壓迫金屬碟形膜片組與設置於氣體流道內之非金屬閥座密合，而達到阻絕氣體通過之效果;此非金屬閥座係藉由具有錐形截面的固定套環將其固定於氣體流道中，且金屬碟形膜片組中夾置於中央之金屬膜片是採中央環形之設計，以降低金屬膜片間之金屬摩擦，增加其使用次數，且降低隔膜閥之洩漏率。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
傳真: (空)
電子信箱: LHL@itri.org.tw
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備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)

# 03-5915788 於 經濟部產業技術司–專利資料集 - 8

序號956
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文二片式繞射/折射複合型成像系統
執行單位工研院機械所
產出單位(空)
計畫名稱工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼220699
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明係提供一種二片式繞射／折射複合型成像系統，其係由一第一透鏡及一第二透鏡構成，該第一透鏡具有一凹面及一凸面，其凹面係為物面，該第二透鏡具有一凸面及一凹面，其凸面朝向第一透鏡之凸面，其凹面則朝向一濾光片，該第一透鏡及第二透鏡之任一面可以是球面或一般非球面，並且該成像系統至少包括一繞射面，其中，該繞射／折射複合透鏡面可位於該第一透鏡或第二透鏡之任一面上，藉由繞射元件特有之光學特性，可在不增加元件片數下，消除更多像差及提高成像品質，達到降低成本、省空間、小型化之目的。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員賴麗惠
電話03-5915788
傳真(空)
電子信箱LHL@itri.org.tw
參考網址www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形(空)
序號: 956
產出年度: 93
領域別: (空)
專利名稱-中文: 二片式繞射/折射複合型成像系統
執行單位: 工研院機械所
產出單位: (空)
計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫
專利發明人: 傅春能, 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 徐得銘
核准國家: 中華民國
獲證日期: (空)
證書號碼: 220699
專利期間起: (空)
專利期間訖: (空)
專利性質: 發明
技術摘要-中文: 本發明係提供一種二片式繞射／折射複合型成像系統，其係由一第一透鏡及一第二透鏡構成，該第一透鏡具有一凹面及一凸面，其凹面係為物面，該第二透鏡具有一凸面及一凹面，其凸面朝向第一透鏡之凸面，其凹面則朝向一濾光片，該第一透鏡及第二透鏡之任一面可以是球面或一般非球面，並且該成像系統至少包括一繞射面，其中，該繞射／折射複合透鏡面可位於該第一透鏡或第二透鏡之任一面上，藉由繞射元件特有之光學特性，可在不增加元件片數下，消除更多像差及提高成像品質，達到降低成本、省空間、小型化之目的。
技術摘要-英文: (空)
聯絡人員: 賴麗惠
電話: 03-5915788
傳真: (空)
電子信箱: LHL@itri.org.tw
參考網址: www.itri.org.tw
備註: 原領域別為機械運輸，95年改為機電運輸
特殊情形: (空)
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光學讀寫頭致動器的磁浮裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 魏立鼎, 張吉龍 | 證書號碼: ZL99127404.0

測量馬達感應電動勢以鑑別轉子充磁好壞的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 潘彥光, 黃介一, 郭利德, 王世杰 | 證書號碼: 6,686,761

光碟承載裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃偉煜 | 證書號碼: 6,728,189

光碟機承載裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃振源, 張啟伸 | 證書號碼: 6,728,190

動靜混壓式流體軸承及其製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃晉興, 徐弘光 | 證書號碼: ZL01131491.5

製作多層膜記錄層光碟片之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 張朝信, 郭利德, 馬榮昌, 陳志強, 張裕修 | 證書號碼: 191977

磁浮軸承

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 王建昌, 王世杰, 徐弘光, 張裕修 | 證書號碼: 6,703,736

組合式流體動壓軸承及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 施文章, 黃晉興, 張裕修, 徐弘光 | 證書號碼: I223691

組合式流體動壓軸承及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 施文章, 黃晉興, 張裕修, 徐弘光 | 證書號碼: 6,769,808

蝶型光訊號收發模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 朱慕道, 吳文進, 張淵仁, 陳穎志, 李俊興, 陳智禮 | 證書號碼: 215129

光訊號交錯分波器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃承彬, 胡杰, 許立根 | 證書號碼: 186383

光訊號交錯分波器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃承彬, 胡杰, 許立根 | 證書號碼: 6,643,064

與極化無關的可調式聲光濾波器及其方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林耕華, 黃承彬, 周維仁, 楊淑媚, 胡杰 | 證書號碼: ZL01100585.8

虛擬空間劃分區域的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 數位學習技術研發五年計畫 | 專利發明人: 張傑智, 林明芬, 連健淋 | 證書號碼: 6,693,632

運用模糊推論的電腦繪圖模型簡化方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 數位學習技術研發五年計畫 | 專利發明人: 張勤振, 楊舒凱, 段鼎洲, 林明芬 | 證書號碼: 6,751,599

光學讀寫頭致動器的磁浮裝置

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 魏立鼎, 張吉龍 | 證書號碼: ZL99127404.0

測量馬達感應電動勢以鑑別轉子充磁好壞的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 潘彥光, 黃介一, 郭利德, 王世杰 | 證書號碼: 6,686,761

光碟承載裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃偉煜 | 證書號碼: 6,728,189

光碟機承載裝置

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃振源, 張啟伸 | 證書號碼: 6,728,190

動靜混壓式流體軸承及其製造方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 黃晉興, 徐弘光 | 證書號碼: ZL01131491.5

製作多層膜記錄層光碟片之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 張朝信, 郭利德, 馬榮昌, 陳志強, 張裕修 | 證書號碼: 191977

磁浮軸承

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 王建昌, 王世杰, 徐弘光, 張裕修 | 證書號碼: 6,703,736

組合式流體動壓軸承及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 施文章, 黃晉興, 張裕修, 徐弘光 | 證書號碼: I223691

組合式流體動壓軸承及其製造方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 施文章, 黃晉興, 張裕修, 徐弘光 | 證書號碼: 6,769,808

蝶型光訊號收發模組

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 新型 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 朱慕道, 吳文進, 張淵仁, 陳穎志, 李俊興, 陳智禮 | 證書號碼: 215129

光訊號交錯分波器

核准國家: 中華民國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃承彬, 胡杰, 許立根 | 證書號碼: 186383

光訊號交錯分波器

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 黃承彬, 胡杰, 許立根 | 證書號碼: 6,643,064

與極化無關的可調式聲光濾波器及其方法

核准國家: 中國大陸 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 光通訊與光電元組件關鍵性技術發展四年計畫 | 專利發明人: 林耕華, 黃承彬, 周維仁, 楊淑媚, 胡杰 | 證書號碼: ZL01100585.8

虛擬空間劃分區域的方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 數位學習技術研發五年計畫 | 專利發明人: 張傑智, 林明芬, 連健淋 | 證書號碼: 6,693,632

運用模糊推論的電腦繪圖模型簡化方法

核准國家: 美國 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 專利性質: 發明 | 計畫名稱: 數位學習技術研發五年計畫 | 專利發明人: 張勤振, 楊舒凱, 段鼎洲, 林明芬 | 證書號碼: 6,751,599

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