氣密室封裝基台與架構
- 技術司專利資料集 @ 經濟部

專利名稱-中文氣密室封裝基台與架構的核准國家是中華民國, 證書號碼是200699, 專利性質是發明, 執行單位是工研院電子所, 產出年度是93, 計畫名稱是微奈米系統應用技術四年計畫, 專利發明人是李宗昇, 利鴻禔.

序號877
產出年度93
領域別(空)
專利名稱-中文氣密室封裝基台與架構
執行單位工研院電子所
產出單位(空)
計畫名稱微奈米系統應用技術四年計畫
專利發明人李宗昇 | 利鴻禔
核准國家中華民國
獲證日期(空)
證書號碼200699
專利期間起(空)
專利期間訖(空)
專利性質發明
技術摘要-中文本發明提供一種紅外線元件氣密室封裝架構,包含基台、上蓋,與一密封部分。基台具有不均一厚度的底座,可減少材料成本。上蓋位於基台,密封部分位於基台與上蓋之間,當利用一夾箍(clamp)提供一外力於密封部分而產生一形變時,不需在惰性氣體環境中,就可達到氣密封合的效果,降低封裝製程與設備成本。
技術摘要-英文(空)
聯絡人員楊倉錄
電話03-5914393
傳真03-5820441
電子信箱yangtl@itri.org.tw
參考網址http://www.itri.org.tw
備註原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸
特殊情形(空)

序號

877

產出年度

93

領域別

(空)

專利名稱-中文

氣密室封裝基台與架構

執行單位

工研院電子所

產出單位

(空)

計畫名稱

微奈米系統應用技術四年計畫

專利發明人

李宗昇 | 利鴻禔

核准國家

中華民國

獲證日期

(空)

證書號碼

200699

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

本發明提供一種紅外線元件氣密室封裝架構,包含基台、上蓋,與一密封部分。基台具有不均一厚度的底座,可減少材料成本。上蓋位於基台,密封部分位於基台與上蓋之間,當利用一夾箍(clamp)提供一外力於密封部分而產生一形變時,不需在惰性氣體環境中,就可達到氣密封合的效果,降低封裝製程與設備成本。

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

楊倉錄

電話

03-5914393

傳真

03-5820441

電子信箱

yangtl@itri.org.tw

參考網址

http://www.itri.org.tw

備註

原領域別為機械運輸,95年改為機電運輸

特殊情形

(空)

根據識別碼 200699 找到的相關資料

(以下顯示 3 筆) (或要:直接搜尋所有 200699 ...)

多語系無線展頻解說服務系統

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 第200699號 | 專利期間起: 38434 | 專利期間訖: 44571 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 通訊軟體關鍵技術開發五年計畫 | 專利發明人: 李永台 | 李永定 | 洪文堅

@ 技術司專利資料集

蘆洲監理站

站位代碼: 3696 | 地址: 中山二路127號(向東) | 去返程: 0 | 上下車站別: 0 | 所屬路線代碼: 18028 | Bus Stop Name: Luzhou Motor Vehicles Office

@ 公車站位資訊

謝明宏

電話: 03-4706718 | 驗證狀態: 結束 | 產品品項: 雜糧、包葉菜、短期葉菜、根莖菜、花菜、果菜、瓜菜、豆菜、瓜果、小漿果、其他 | 證書效期: 2021/04/18 | 桃園市龍潭區聖亭路155號

@ 臺灣有機農業資訊

多語系無線展頻解說服務系統

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: 第200699號 | 專利期間起: 38434 | 專利期間訖: 44571 | 專利性質: 發明 | 執行單位: 資策會 | 產出年度: 94 | 計畫名稱: 通訊軟體關鍵技術開發五年計畫 | 專利發明人: 李永台 | 李永定 | 洪文堅

@ 技術司專利資料集

蘆洲監理站

站位代碼: 3696 | 地址: 中山二路127號(向東) | 去返程: 0 | 上下車站別: 0 | 所屬路線代碼: 18028 | Bus Stop Name: Luzhou Motor Vehicles Office

@ 公車站位資訊

謝明宏

電話: 03-4706718 | 驗證狀態: 結束 | 產品品項: 雜糧、包葉菜、短期葉菜、根莖菜、花菜、果菜、瓜菜、豆菜、瓜果、小漿果、其他 | 證書效期: 2021/04/18 | 桃園市龍潭區聖亭路155號

@ 臺灣有機農業資訊

[ 搜尋所有 200699 ... ]

根據名稱 氣密室封裝基台與架構 找到的相關資料

無其他 氣密室封裝基台與架構 資料。

[ 搜尋所有 氣密室封裝基台與架構 ... ]

根據姓名 李宗昇 利鴻禔 找到的相關資料

無其他 李宗昇 利鴻禔 資料。

[ 搜尋所有 李宗昇 利鴻禔 ... ]

根據電話 03-5914393 找到的相關資料

(以下顯示 8 筆) (或要:直接搜尋所有 03-5914393 ...)

電化學蝕刻停止技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 懸膜厚度尺寸變化在±1μm。 | 潛力預估: 有替代技術,應用潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

鎳鈷及金微電鑄及製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸(max.) – Au : 24 cm (W) x 18(cm D) Ni : 25 cm (W) x 30 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被... | 潛力預估: 應用潛力高

@ 技術司可移轉技術資料集

微鰭片散熱技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: Fin Size < 0.3mm, Fin Height < 10.2mm, Aspect Ratio >35 | 潛力預估: 應用潛力中

@ 技術司可移轉技術資料集

矽晶片濕蝕刻精密對準製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩(error<0.2度)。 | 潛力預估: 體型微加工重要技術,應用潛力高

@ 技術司可移轉技術資料集

室溫熱像儀驅動顯示控制技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)畫面速率 30Hz (2)視訊 NTSC標準 | 潛力預估: 應用潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ,薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 須搭配元件技術,應用潛力低

@ 技術司可移轉技術資料集

利用單晶矽之反應性蝕刻與金屬化等製程製作微機電元件

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ‧ 深寬比 > 3 | 潛力預估: 單一光罩製程,製程簡單,應用潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

矽晶片蝕穿技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um ‧ 蝕刻率 > 4 um/min ‧ 蝕刻垂直度 > 89度 ‧ 深寬比 > 30 | 潛力預估: 潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

電化學蝕刻停止技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 懸膜厚度尺寸變化在±1μm。 | 潛力預估: 有替代技術,應用潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

鎳鈷及金微電鑄及製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 工件尺寸(max.) – Au : 24 cm (W) x 18(cm D) Ni : 25 cm (W) x 30 cm (D) Ni - Co: 20 cm (W) x 25 cm (D) ‧ 被... | 潛力預估: 應用潛力高

@ 技術司可移轉技術資料集

微鰭片散熱技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: Fin Size < 0.3mm, Fin Height < 10.2mm, Aspect Ratio >35 | 潛力預估: 應用潛力中

@ 技術司可移轉技術資料集

矽晶片濕蝕刻精密對準製程技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: KOH蝕刻參數及精密對準的光罩(error<0.2度)。 | 潛力預估: 體型微加工重要技術,應用潛力高

@ 技術司可移轉技術資料集

室溫熱像儀驅動顯示控制技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 微奈米系統應用技術四年計畫 | 領域: | 技術規格: (1)畫面速率 30Hz (2)視訊 NTSC標準 | 潛力預估: 應用潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

低表面缺陷非晶質矽膜之製作技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 製程溫度 : 300°C ,薄膜厚度 >2um | 潛力預估: 須搭配元件技術,應用潛力低

@ 技術司可移轉技術資料集

利用單晶矽之反應性蝕刻與金屬化等製程製作微機電元件

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 結構高度(max.) : > 10 um、寬度 : > 2 um、結構間隙 : > 2 um ‧ 深寬比 > 3 | 潛力預估: 單一光罩製程,製程簡單,應用潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

矽晶片蝕穿技術

執行單位: 工研院電子所 | 產出年度: 93 | 產出單位: | 計畫名稱: 工研院精密製造與微機電領域環境建構計畫 | 領域: | 技術規格: 矽蝕刻深度 > 525um ‧ 蝕刻率 > 4 um/min ‧ 蝕刻垂直度 > 89度 ‧ 深寬比 > 30 | 潛力預估: 潛力中等

@ 技術司可移轉技術資料集

[ 搜尋所有 03-5914393 ... ]

在『技術司專利資料集』資料集內搜尋:


與氣密室封裝基台與架構同分類的技術司專利資料集

噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,666,545 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏 | 劉健群 | 張智超 | 胡紀平 | 陳俊融

壓力調節裝置及利用此壓力調節裝置之噴墨印頭

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,644,795 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林順泉 | 張智超 | 蘇士豪 | 陳俊融 | 李柏勳 | 羅啟賓

微流模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 186642 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊進成 | 毛慶宜 | 吳周霖

生物晶片製造治具之影像對位裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191424 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 蘇士豪 | 楊孟達 | 劉健群 | 張智超

以投射方式製作影像顯示器面板之裝置以及導電基板形成圖案之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198956 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪 | 陳俊融

產生虛擬鍵盤顯示器之裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206612 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪 | 陳俊融

應用於高密度元件之金氧半場效電晶體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195330 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏 | 劉健群 | 陳俊融 | 胡紀平

噴墨頭晶片結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220131 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉健群 | 陳俊融

反射式液晶投影顯示器之光學引擎

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184615 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 詹勝雄 | 沈偉 | 莊福明

液晶投影機之冷卻裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 193369 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 李文宗 | 張淵仁

無鬼影之背投影顯示螢幕

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 193378 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林晃巖 | 黎邦 | 田萬頂

視差屏障式裸眼立體顯示裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,727,866 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 王迺岳 | 李獻仁 | 蔡朝旭

碟片夾持機構

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3602746 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳敏德 | 邱琬雯 | 潘旭斌 | 徐弘光 | 陳俊民 | 楊志軒 | 劉雅君

磁鐵吸附式自動升降盤片壓覆具

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL99122876.6 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 梁瑞麟 | 張裕修

光學讀寫頭致動器的磁浮裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL99127404.0 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 魏立鼎 | 張吉龍

噴墨印頭晶片之驅動電晶體結構及其製造方法

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,666,545 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏 | 劉健群 | 張智超 | 胡紀平 | 陳俊融

壓力調節裝置及利用此壓力調節裝置之噴墨印頭

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,644,795 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林順泉 | 張智超 | 蘇士豪 | 陳俊融 | 李柏勳 | 羅啟賓

微流模組

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 186642 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 楊進成 | 毛慶宜 | 吳周霖

生物晶片製造治具之影像對位裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 191424 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 蘇士豪 | 楊孟達 | 劉健群 | 張智超

以投射方式製作影像顯示器面板之裝置以及導電基板形成圖案之裝置與方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 198956 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪 | 陳俊融

產生虛擬鍵盤顯示器之裝置及方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 206612 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉貞豪 | 陳俊融

應用於高密度元件之金氧半場效電晶體及其製造方法

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 195330 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉建宏 | 劉健群 | 陳俊融 | 胡紀平

噴墨頭晶片結構

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 220131 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 劉健群 | 陳俊融

反射式液晶投影顯示器之光學引擎

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 184615 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 詹勝雄 | 沈偉 | 莊福明

液晶投影機之冷卻裝置

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 193369 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 李文宗 | 張淵仁

無鬼影之背投影顯示螢幕

核准國家: 中華民國 | 證書號碼: 193378 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 林晃巖 | 黎邦 | 田萬頂

視差屏障式裸眼立體顯示裝置

核准國家: 美國 | 證書號碼: 6,727,866 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 王迺岳 | 李獻仁 | 蔡朝旭

碟片夾持機構

核准國家: 日本 | 證書號碼: 3602746 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 吳敏德 | 邱琬雯 | 潘旭斌 | 徐弘光 | 陳俊民 | 楊志軒 | 劉雅君

磁鐵吸附式自動升降盤片壓覆具

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL99122876.6 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 梁瑞麟 | 張裕修

光學讀寫頭致動器的磁浮裝置

核准國家: 中國大陸 | 證書號碼: ZL99127404.0 | 專利期間起: | 專利期間訖: | 專利性質: 發明 | 執行單位: 工研院光電所 | 產出年度: 93 | 計畫名稱: 下世代光資訊系統技術發展五年計畫 | 專利發明人: 魏立鼎 | 張吉龍

 |