可兩面發光之複合基板
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專利名稱-中文可兩面發光之複合基板的核准國家是中國大陸, 執行單位是工研院顯示中心, 產出年度是97, 專利性質是發明, 計畫名稱是新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫, 專利發明人是李正中蕭名君林炳南林偉義, 證書號碼是ZL200410102791.5.

序號	4176
產出年度	97
領域別	(空)
專利名稱-中文	可兩面發光之複合基板
執行單位	工研院顯示中心
產出單位	(空)
計畫名稱	新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫
專利發明人	李正中蕭名君林炳南林偉義
核准國家	中國大陸
獲證日期	(空)
證書號碼	ZL200410102791.5
專利期間起	(空)
專利期間訖	(空)
專利性質	發明
技術摘要-中文	一種兩面發光之場發射背光元件，包括第一可透光基板、第二可透光基板與複數個空間支撐物；其中該第一可透光基板之一表面上係設有平行延伸之複數條第一導體，該等第一導體上係以等距離間隔設有複數個發射體，且該等發射體係與該等第一導體電訊連接，該等第一導體上更設有平行延伸之複數條第二導體；該第二可透光基板係平行於該第一可透光基板設置，且於面對該第一可透光基板之表面上係塗佈一螢光層；該等空間支撐物係位於該第一可透光基板與該第二可透光基板之間。 A double-sided luminous compound substrate is disclosed. The double-sided luminous compound substrate comprises: a first transparent substrate, having a plurality of first conductors parallel disposed on a surface thereof, and a plurality of parallel-disposed second conductors overlapping the first conductors, each first conductor having a plurality of emitters equidistantly disposed thereon and electrically connected thereto; a second transparent substrate, disposed parallel to and opposite to the first transparent substrate, further comprising a fluorescence layer formed on the side facing the first transparent substrate; and a plurality of spacers, disposed between the first and second transparent substrates.
技術摘要-英文	(空)
聯絡人員	李露蘋
電話	03-59117812
傳真	03-5917431
電子信箱	oralp@itri.org.tw
參考網址	http://www.patentportfolio.itri.org.tw
備註	0
特殊情形	(空)
同步更新日期	2019-07-24

序號

4176

產出年度

領域別

(空)

專利名稱-中文

可兩面發光之複合基板

執行單位

工研院顯示中心

產出單位

(空)

計畫名稱

新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫

專利發明人

李正中蕭名君林炳南林偉義

核准國家

中國大陸

獲證日期

(空)

證書號碼

ZL200410102791.5

專利期間起

(空)

專利期間訖

(空)

專利性質

發明

技術摘要-中文

一種兩面發光之場發射背光元件，包括第一可透光基板、第二可透光基板與複數個空間支撐物；其中該第一可透光基板之一表面上係設有平行延伸之複數條第一導體，該等第一導體上係以等距離間隔設有複數個發射體，且該等發射體係與該等第一導體電訊連接，該等第一導體上更設有平行延伸之複數條第二導體；該第二可透光基板係平行於該第一可透光基板設置，且於面對該第一可透光基板之表面上係塗佈一螢光層；該等空間支撐物係位於該第一可透光基板與該第二可透光基板之間。 A double-sided luminous compound substrate is disclosed. The double-sided luminous compound substrate comprises: a first transparent substrate, having a plurality of first conductors parallel disposed on a surface thereof, and a plurality of parallel-disposed second conductors overlapping the first conductors, each first conductor having a plurality of emitters equidistantly disposed thereon and electrically connected thereto; a second transparent substrate, disposed parallel to and opposite to the first transparent substrate, further comprising a fluorescence layer formed on the side facing the first transparent substrate; and a plurality of spacers, disposed between the first and second transparent substrates.

技術摘要-英文

(空)

聯絡人員

李露蘋

電話

03-59117812

傳真

03-5917431

電子信箱

oralp@itri.org.tw

參考網址

http://www.patentportfolio.itri.org.tw

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特殊情形

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增加平面光源亮度與均勻度的方法及其平面光源	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 97 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 新世代捲軸軟性顯示關鍵技術發展計畫 \| 專利發明人: 李正中蕭名君林炳南林偉義 \| 證書號碼: 7,436,109 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
增加平面光源亮度與均勻度的方法及其平面光源	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院顯示中心 \| 產出年度: 96 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 影像顯示關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 李正中蕭名君林炳南林偉義 \| 證書號碼: I278892 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

增加平面光源亮度與均勻度的方法及其平面光源

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透過對話回合間內文關係來減少辨識錯誤的裝置與方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 吳旭智, 李青憲 \| 證書號碼: I321313 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
植入奈米碳管之製程方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院南分院 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 軟性電子設備及模組技術開發三年計畫 \| 專利發明人: 廖仕傑 ,陳輝達 , \| 證書號碼: I321123 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
多執行緒程式之電源閘控方法以及電源閘控系統	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 游逸平,李政崑,莊國煜,吳宗憲 \| 證書號碼: 7,904,736 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
互動式顯示系統	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資訊中心 \| 產出年度: 100 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 林盈孜,蕭詠今,陳右凱,李森,楊博智 \| 證書號碼: 7,916,129 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
無線環境下定位系統的新取樣點決定方法	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 智慧感測網路技術與服務發展計畫 \| 專利發明人: 徐銘駿, 崔文, 陳昭男 \| 證書號碼: I321928 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
通訊網路下之行動管理方法及裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 新世代行動通訊技術發展計畫 \| 專利發明人: 江為國, 何哲勳, 許建昌 \| 證書號碼: I321411 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
靜電放電防護電路	核准國家: 美國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 資訊與通訊領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳世宏, 柯明道 \| 證書號碼: 7,692,907 @ 經濟部產業技術司–專利資料集
直流偏移消除電路	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院資通所 \| 產出年度: 99 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: WiMAX個人行動數位機關鍵技術發展四年計畫 \| 專利發明人: 高小文 \| 證書號碼: I320993 @ 經濟部產業技術司–專利資料集

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光準直器自動組裝系統改良結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 黃相宇, 劉松河, 邱顯森 \| 證書號碼: 210229
光纖準直器自動化組裝系統改良結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉松河, 黃相宇, 邱顯森 \| 證書號碼: 219577
用于納米轉印的平行度調整裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 \| 證書號碼: ZL03257537.8
用於奈米轉印之平行度調整裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 陳明祈, 馮文宏, 陳釧鋒, 許嘉峻, 林家弘, 鍾永鎮 \| 證書號碼: 217025
用于納米轉印的均勻施壓裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 \| 證書號碼: ZL03257536.X
用於奈米轉印之均勻施壓裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 鍾永鎮, 林家弘, 許嘉峻, 陳釧鋒, 馮文宏, 陳明祈 \| 證書號碼: 217875
均光模組	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林坤龍, 周敏傑 \| 證書號碼: M243671
高可視性發光二極體面型光源調制裝置與模組	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 姚柏宏, 潘奕凱, 鮑友南, 林建憲 \| 證書號碼: 216653
函數曲線型透鏡光柵之光源調制裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林建憲, 姚柏宏, 鮑友南, 潘奕凱 \| 證書號碼: 207005
共軛凸輪取放機構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 劉俊賢, 黃國興, 徐嘉彬, 洪嘉宏, 林宏毅, 李俊明 \| 證書號碼: 222595
順應式壓緊裝置	核准國家: 中國大陸 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 杜陳忠, 蔣邦民, 黃振榮, 梁沐旺, 翁義兆 \| 證書號碼: ZL03280097.5
壓印用模仁之製程與結構	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 蔡宏營, 吳志宏, 程智勇 \| 證書號碼: I224078
繞射/折射複合型變焦鏡頭成像系統	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 林宗信, 林信義, 陸懋宏, 王俊勛 \| 證書號碼: I224691
晶圓磨床構造	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 發明 \| 計畫名稱: 工研院精密機械與微機電領域環境建構計畫 \| 專利發明人: 湯國裕, 黃榮宏, 陳來毅 \| 證書號碼: I224037
主軸高速散熱裝置	核准國家: 中華民國 \| 執行單位: 工研院機械所 \| 產出年度: 93 \| 專利性質: 新型 \| 計畫名稱: 精密機械技術研究發展四年計畫 \| 專利發明人: 張燦輝, 許日榮 \| 證書號碼: 210017

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