引朵苯乙烯鹽化合物及包括該化合物之高密度記錄媒體
- 經濟部產業技術司–專利資料集 @ 經濟部
專利名稱-中文引朵苯乙烯鹽化合物及包括該化合物之高密度記錄媒體的核准國家是中華民國, 執行單位是工研院材化所, 產出年度是97, 專利性質是發明, 計畫名稱是精密化學材料技術及應用開發四年計畫, 專利發明人是王心心 陳建文 楊忠烈 賴啟昌 蔡蕙冰 褚文平 廖文毅 黃建喨 鄭尊仁 謝靜玉 李安澤, 證書號碼是I298063.
| 序號 | 4550 |
| 產出年度 | 97 |
| 領域別 | (空) |
| 專利名稱-中文 | 引朵苯乙烯鹽化合物及包括該化合物之高密度記錄媒體 |
| 執行單位 | 工研院材化所 |
| 產出單位 | (空) |
| 計畫名稱 | 精密化學材料技術及應用開發四年計畫 |
| 專利發明人 | 王心心 陳建文 楊忠烈 賴啟昌 蔡蕙冰 褚文平 廖文毅 黃建喨 鄭尊仁 謝靜玉 李安澤 |
| 核准國家 | 中華民國 |
| 獲證日期 | (空) |
| 證書號碼 | I298063 |
| 專利期間起 | (空) |
| 專利期間訖 | (空) |
| 專利性質 | 發明 |
| 技術摘要-中文 | 本發明係提供一種雙吲哚苯乙烯鹽化合物，具有下列化學式(I)： (I) 其中Z1與Z2係包括苯環、萘環或雜環；R1係包括氫、C1-5烷基、羥基、鹵素或烷氧基；R2係包括氫、鹵素、C1-5烷基、硝基、酯基、酸基、磺酸基、磺胺基、硫酸酯、醯胺基、C1-3烷氧基、胺基、烷胺基、氰基、C1-6烷硫基或C2-7烷氧羰基；R3、R4、R5與R6係包括氫、鹵素、烷基、芳烷基(aralkyl)或含氧、硫或氮之雜環，且R3與R4可與W原子相連成環，R5與R6可相連成環；R7與R8係包括氫或烷基；W係包括碳或氮；Y係包括碳、氧、硫、硒、-NR或-C(CH3)2，其中R為C1-5烷基；m為1~3；n為1~8；以及X1與X2係相同或不同，包括陰離子基團或陰離子有機金屬錯合物。 The invention provides a bisstyryl compound having formula (I): (I) wherein Z1 and Z2 are the same or different and comprise benzene, naphthalene, or heterocyclic ring containing O, S, or N, R1 is H, C1-5 alkyl, hydroxyl, halogen atoms, or alkoxy, R2 is H, halogen atoms, C1-5 alkyl, nitro, ester, carboxyl, sulfo, sulfonamide, sulfuric ester, amide, C1-3 alkoxy, amino, alkylamino, cyano, C1-6 alkylsulfonyl, or C2-7 alkoxy carbonyl, R3, R4, R5, and R6 comprise H, halogen atoms, alkyl, aralkyl, disubstituted amino, or heterocyclic ring containing O, S, or N, R7 and R8 comprise H or alkyl, W comprises nitrogen with or without Z1 and Z2 or aromatic group without Z1 and Z2, Y comprises carbon, oxygen, sulfur, selenium, -NR, or -C(CH3)2, m is 1~3, n is 1~18, and X1 and X2 are the same or different and comprise an anion or an anionic organometallic complex, wherein R3 and R4 are joined to a nitrogen atom or R5 and R6 are joined together to form a ring, and R bonded to nitrogen is C1-5 alkyl. The invention provides a high density recording medium comprising a first substrate, a recording layer formed thereon comprising the di |
| 技術摘要-英文 | (空) |
| 聯絡人員 | 李露蘋 |
| 電話 | 03-59117812 |
| 傳真 | 03-5917431 |
| 電子信箱 | oralp@itri.org.tw |
| 參考網址 | http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
| 備註 | 0 |
| 特殊情形 | (空) |
| 同步更新日期 | 2023-07-05 |
序號4550 |
產出年度97 |
領域別(空) |
專利名稱-中文引朵苯乙烯鹽化合物及包括該化合物之高密度記錄媒體 |
執行單位工研院材化所 |
產出單位(空) |
計畫名稱精密化學材料技術及應用開發四年計畫 |
專利發明人王心心 陳建文 楊忠烈 賴啟昌 蔡蕙冰 褚文平 廖文毅 黃建喨 鄭尊仁 謝靜玉 李安澤 |
核准國家中華民國 |
獲證日期(空) |
證書號碼I298063 |
專利期間起(空) |
專利期間訖(空) |
專利性質發明 |
技術摘要-中文本發明係提供一種雙吲哚苯乙烯鹽化合物，具有下列化學式(I)： (I) 其中Z1與Z2係包括苯環、萘環或雜環；R1係包括氫、C1-5烷基、羥基、鹵素或烷氧基；R2係包括氫、鹵素、C1-5烷基、硝基、酯基、酸基、磺酸基、磺胺基、硫酸酯、醯胺基、C1-3烷氧基、胺基、烷胺基、氰基、C1-6烷硫基或C2-7烷氧羰基；R3、R4、R5與R6係包括氫、鹵素、烷基、芳烷基(aralkyl)或含氧、硫或氮之雜環，且R3與R4可與W原子相連成環，R5與R6可相連成環；R7與R8係包括氫或烷基；W係包括碳或氮；Y係包括碳、氧、硫、硒、-NR或-C(CH3)2，其中R為C1-5烷基；m為1~3；n為1~8；以及X1與X2係相同或不同，包括陰離子基團或陰離子有機金屬錯合物。 The invention provides a bisstyryl compound having formula (I): (I) wherein Z1 and Z2 are the same or different and comprise benzene, naphthalene, or heterocyclic ring containing O, S, or N, R1 is H, C1-5 alkyl, hydroxyl, halogen atoms, or alkoxy, R2 is H, halogen atoms, C1-5 alkyl, nitro, ester, carboxyl, sulfo, sulfonamide, sulfuric ester, amide, C1-3 alkoxy, amino, alkylamino, cyano, C1-6 alkylsulfonyl, or C2-7 alkoxy carbonyl, R3, R4, R5, and R6 comprise H, halogen atoms, alkyl, aralkyl, disubstituted amino, or heterocyclic ring containing O, S, or N, R7 and R8 comprise H or alkyl, W comprises nitrogen with or without Z1 and Z2 or aromatic group without Z1 and Z2, Y comprises carbon, oxygen, sulfur, selenium, -NR, or -C(CH3)2, m is 1~3, n is 1~18, and X1 and X2 are the same or different and comprise an anion or an anionic organometallic complex, wherein R3 and R4 are joined to a nitrogen atom or R5 and R6 are joined together to form a ring, and R bonded to nitrogen is C1-5 alkyl. The invention provides a high density recording medium comprising a first substrate, a recording layer formed thereon comprising the di |
技術摘要-英文(空) |
聯絡人員李露蘋 |
電話03-59117812 |
傳真03-5917431 |
電子信箱oralp@itri.org.tw |
參考網址http://www.patentportfolio.itri.org.tw |
備註0 |
特殊情形(空) |
同步更新日期2023-07-05 |